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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個節(jié)點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術(shù)的技術(shù)應用,EUV光刻機的技術(shù)、市場問題,國產(chǎn)euv光刻機發(fā)展等內(nèi)容。
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俄羅斯研究所7nm級制造技術(shù)生產(chǎn)預計2028年建成
在時間方面,IAP 可能有點過于樂觀。對于 32nm 以下的一切,芯片制造商使用所謂的浸沒式光刻技術(shù)(本質(zhì)上是 DUV 工具的助推器)生產(chǎn)。
EUV掩膜,也稱為EUV掩?;駿UV光刻掩膜,對于極紫外光刻(EUVL)這種先進光刻技術(shù)至關(guān)重要。EUV光刻是一種先進技術(shù),用于制造具有更小特征尺寸和增...
美投資8.25億美元建設NSTC關(guān)鍵設施,重點發(fā)展EUV光刻技術(shù)
拜登政府已宣布一項重大投資決策,計劃在紐約州的奧爾巴尼市投入8.25億美元,用于建設國家半導體技術(shù)中心(NSTC)的核心設施。據(jù)美國商務部透露,奧爾巴尼...
臺積電魏哲家與ASML高層會面,是否有意購買高數(shù)值孔徑極紫外光機臺?
此前,該公司首席執(zhí)行官魏哲家曾明確表示,過早引入High-NA EUV并無太大經(jīng)濟效益,直到日前其秘密訪問ASML總部,使市場猜測臺積電是否因此事發(fā)生重大轉(zhuǎn)變。
Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意,未采用高NA EUV光刻機
在全球四大先進制程代工巨頭(包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機進行大規(guī)模生產(chǎn)。
今日看點丨英特爾完成首臺商用高數(shù)值孔徑 EUV 光刻機組裝;聯(lián)發(fā)科發(fā)布天璣 6300 處理器
1. 臺積電估將在第 2 季認列相關(guān)地震損失 30 億元新臺幣 ? 403地震讓臺灣半導體產(chǎn)業(yè)受創(chuàng),臺積電稍早公告,臺灣廠區(qū)在地震后的第三日結(jié)束前完全復...
2024-04-19 標簽:聯(lián)發(fā)科英特爾光刻機 941 0
臺積電預計到2019年底會有100多款客戶產(chǎn)品基于其7nm工藝
半導體工藝越來越復雜,不過憑借強大的實力、不斷的投入,再加上技術(shù)上的一些“偷懶”,臺積電還是相繼征服了10nm、7nm、5nm,其中7nm工藝已經(jīng)迅速普...
來源:國芯網(wǎng),謝謝 編輯:感知芯視界 Link 5月22日消息,據(jù)外媒報道,臺積電從ASML購買的EUV極紫外光刻機,暗藏后門,可以在必要的時候執(zhí)行遠程...
Renesas與Wolfspeed的20億美元交易帶來的啟示
該行業(yè)甚至愿意更進一步,通過合作和共同融資來開發(fā)下一代半導體制造設備,就像最近ASML和Imec之間的協(xié)議一樣。他們說,將在開發(fā)下一代EUV設備上合作。...
據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日報道,Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設備的半導體公司,已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻...
英特爾愛爾蘭工廠完成設備安裝調(diào)試,開始生產(chǎn)Intel 4芯片
英特爾雖然在正式公告中沒有提及詳細信息,但只是預告說,為了慶祝英特爾4工程技術(shù)的大規(guī)模批量生產(chǎn),將于9月29日舉行公司高層負責人出席開幕式等相關(guān)現(xiàn)場活動。
根據(jù) ASML 的說明,盡管目前整體環(huán)境呈現(xiàn)短期的不確定性,仍見長期在晶圓需求與產(chǎn)能上的健康增長。ASML 提到,各個市場的強勁增長、持續(xù)創(chuàng)新、更多晶圓...
臺媒稱,翔名切入臺積電5nm極紫外光(EUV)光罩盒表面處理業(yè)務,與EUV光罩盒大廠接洽合作機會,以獨家專利無電鍍鎳(ENP)表面處理技術(shù)來提升產(chǎn)品良率...
這是因為隨著全世界半導體制造企業(yè)展開asml euv設備訂單競爭,供不應求。該公司去年以每臺2500億韓元(1.89億美元)到3000億韓元(2.27億...
泛林集團、Entegris 和 Gelest 攜手推進 EUV 干膜光刻膠技術(shù)生態(tài)系統(tǒng)
這一使用突破性技術(shù)的合作將為全球芯片制造商提供強大的化學品供應鏈,并支持下一代 EUV 應用的研發(fā) 北京時間2022年7月15日——泛林集團 (NASD...
臺積電投資Arm背后戰(zhàn)略:抬高客戶轉(zhuǎn)換晶圓代工廠成本
臺積電的戰(zhàn)略性投資并不是第一次。tsmc與英特爾及三星共同投資asml,在成功開發(fā)euv(極紫外線)設備后,一直在開發(fā)7納米增強工程。
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