極紫外（EUV）光刻技術(shù)將如何影響掩模收入？

體上，三分之二的調(diào)查參與者認(rèn)為這將產(chǎn)生積極的影響。前往EUV時(shí)，口罩的數(shù)量減少了。這是因?yàn)镋UV將整個(gè)行業(yè)帶回單一模式。具有多個(gè)圖案的193nm浸入需要...

2020-11-23 標(biāo)簽：芯片光刻技術(shù)EUV 1390 0

美光認(rèn)為暫時(shí)用不上EUV光刻機(jī)，DRAM工藝還需發(fā)展

2018-08-20 標(biāo)簽：DRAM三星電子美光 1369 0

三星臺(tái)積電廝殺4nm之戰(zhàn),三星搶先一步入將EUV

晶圓代工之戰(zhàn)，7nm制程預(yù)料由臺(tái)積電勝出，4nm之戰(zhàn)仍在激烈廝殺。 Android Authority報(bào)道稱，三星電子搶先使用極紫外光（EUV）微影設(shè)備...

2017-12-01 標(biāo)簽：三星電子臺(tái)積電EUV 1368 0

三星首曝基于EUV技術(shù)的7nm工藝細(xì)節(jié)

本周在火奴魯魯舉行的VLSI（超大規(guī)模集成電路）研討會(huì)上，三星首次分享了基于EUV技術(shù)的7nm工藝細(xì)節(jié)。

2018-06-22 標(biāo)簽：三星電子cpueuv 1364 0

2019年將是7nm EUV半導(dǎo)體產(chǎn)品元年，晶圓代工7nm產(chǎn)值成長200%以上

2019-03-07 標(biāo)簽：三星電子臺(tái)積電晶圓代工 1352 0

生產(chǎn)2納米的利器！成本高達(dá)3億歐元，High-NA EUV***年底交付 ！

ASML是歐洲最大半導(dǎo)體設(shè)備商，主導(dǎo)全球光刻機(jī)設(shè)備市場，光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造關(guān)鍵步驟，但高數(shù)值孔徑（High NA）EUV，Peter Wennink指有...

2023-09-08 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV半導(dǎo)體芯片 1350 0

臺(tái)積電推出采用EUV的5nm工藝設(shè)計(jì) 密度提高1.8倍，性能提高15％

臺(tái)積電近日宣布，將基于該公司的開放式創(chuàng)新平臺(tái)（OIP）提供完整版的5nm工藝設(shè)計(jì)制成。 據(jù)該公司稱，5nm工藝已經(jīng)處于風(fēng)險(xiǎn)生產(chǎn)階段，針對(duì)5G和人工智能市...

2019-04-10 標(biāo)簽：臺(tái)積電晶圓EUV 1344 0

納米電子創(chuàng)新中心Imec與三井化學(xué)宣布建立戰(zhàn)略合作伙伴關(guān)系

比利時(shí)納米電子創(chuàng)新中心imec和日本化學(xué)公司三井化學(xué)宣布建立戰(zhàn)略合作伙伴關(guān)系，將下一代EUV半導(dǎo)體光刻系統(tǒng)的關(guān)鍵組件商業(yè)化。

2024-01-08 標(biāo)簽：半導(dǎo)體CNTEUV 1332 0

三星清空ASML股份，11年盈利超16倍

根據(jù)資料顯示，在2012年，為了支持ASML EUV光刻機(jī)的研發(fā)與商用，并獲得EUV光刻機(jī)的優(yōu)先供應(yīng)，在2012年，英特爾、臺(tái)積電、三星均斥資入股了AS...

2024-02-23 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVASML 1327 0

日本和荷蘭簽署半導(dǎo)體合作備忘錄 共同推進(jìn)2nm***合作

據(jù)日本經(jīng)濟(jì)新聞報(bào)道，日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省和荷蘭經(jīng)濟(jì)和氣候政策省于6月21日簽署了促進(jìn)半導(dǎo)體領(lǐng)域等合作的合作備忘錄（MOC: Memorandum of Coo...

2023-06-27 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻機(jī)EUV 1324 0

日本光刻膠巨頭JSR同意國家收購

JSR 是全球僅有的四家 EUV 光刻膠供應(yīng)商之一，其產(chǎn)品是制造先進(jìn)芯片必不可少的原料。

2023-06-27 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVEUV光刻機(jī) 1294 0

今日看點(diǎn)丨首次采用EUV技術(shù)！英特爾宣布Intel 4已大規(guī)模量產(chǎn)；佳能開始銷售 5nm 芯片生產(chǎn)設(shè)備

1. 傳蘋果確認(rèn)iPhone 16 系列將采用臺(tái)積電第二代3nm 工藝N3E ? 蘋果近日確認(rèn)iPhone 16系列將采用臺(tái)積電第二代3nm工藝N3E。...

2023-10-16 標(biāo)簽：EUV 1276 0

后摩爾定律時(shí)代，半導(dǎo)體技術(shù)將走向何方?

不能否認(rèn)的是，摩爾定律正在逐漸走向極限。業(yè)界對(duì)于未來技術(shù)如何發(fā)展，早已有了“More Moore”（繼續(xù)推進(jìn)摩爾定律）和“More than Moore...

2016-06-02 標(biāo)簽：摩爾定律IMECEUV 1273 0

三星投資60億美元7nm EUV工廠動(dòng)工 后者驍龍芯片可能誕生于此

據(jù)報(bào)道，三星投資60億美元建設(shè)的新的半導(dǎo)體工廠已經(jīng)破土動(dòng)工，此工廠主用于擴(kuò)充7nm EUV的產(chǎn)能，有人猜測后者的驍龍芯片將可能會(huì)在這里誕生。

2018-02-26 標(biāo)簽：三星電子euv7nm工藝 1266 0