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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個節(jié)點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機的技術(shù)、市場問題,國產(chǎn)euv光刻機發(fā)展等內(nèi)容。
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韓國公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術(shù)上與外國公司的差距
特別是,韓國公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術(shù)上與外國公司的差距。2019年,韓國本土提出的專利申請數(shù)量為40件,超過了國外企業(yè)的10件。這是韓國提交的...
但imec先進成像、工藝和材料高級副總裁斯蒂芬·希爾(Steven Scheer)在接受采訪時非常理性地指出,要經(jīng)濟高效地引入High NA EUV光刻...
消息稱美光或開發(fā)EUV應(yīng)用技術(shù)
根據(jù)韓國媒體《Etnews》報導指出,目前全球3大DRAM存儲器中尚未明確表示采用EUV極紫外光刻機的美商美光(Micron),因日前招聘網(wǎng)站開始征求E...
Intel揭示全新工藝路線圖:14A技術(shù)有望2026年問世
根據(jù)英特爾的新規(guī)劃,Intel 14A工藝有望在2026年與我們見面,而更先進的Intel 14A-E工藝則預(yù)計將在2027年問世。
EUV(Extreme Ultraviolet)光刻機是一種高級光刻設(shè)備,用于半導體制造業(yè)中的微電子芯片生產(chǎn)。EUV光刻機是目前最先進的光刻技術(shù)之一,它...
韓國本土企業(yè)在EUV光刻技術(shù)方面取得了極大進展
據(jù)韓國媒體 BusinessKorea 上周報道,韓國本土企業(yè)在 EUV 光刻技術(shù)方面取得了極大進展。但并沒有提到是哪一家企業(yè),合理推測應(yīng)指代韓國整個半...
可繞過EUV量產(chǎn)5nm!佳能CEO:納米壓印設(shè)備無法賣到中國!
雖然目前在光刻機市場,還有尼康和佳能這兩大供應(yīng)商,但是這兩家廠商的產(chǎn)品主要都是被用于成熟制程芯片的制造,全球市場份額僅有10%左右,ASML一家占據(jù)了9...
臺積電正在使用具有EUV層的制造技術(shù)來提高產(chǎn)量
在今年早些時候,臺積電表示,公司已在全球范圍內(nèi)部署并運行了大約50%的所有極紫外(EUV)光刻工具,這意味著該公司使用的EUV機器比業(yè)內(nèi)任何其他公司都要...
佳能推出5nm芯片制造設(shè)備,納米壓印技術(shù)重塑半導體競爭格局?
佳能近日表示,計劃年內(nèi)或明年上市使用納米壓印技術(shù)的光刻設(shè)備FPA-1200NZ2C。對比已商業(yè)化的EUV光刻技術(shù),雖然納米壓印的制造速度較傳統(tǒng)方式緩慢,...
韓國加快研發(fā)EUV光刻技術(shù),專利申請量猛增
援引韓媒 BusinessKorea 報道,以三星為代表的韓國企業(yè)在 EUV 光刻技術(shù)方面取得了極大進展。根據(jù)對韓國知識產(chǎn)權(quán)局(KIPO)過去十年(20...
“7納米是很重要的節(jié)點,是生產(chǎn)工藝第一次轉(zhuǎn)向EUV的轉(zhuǎn)折點。三星和臺積電都宣布了將采用EUV(極紫外光微影)技術(shù)在7納米,而EUV是摩爾定律能夠進一步延...
三星電子已決定在美國建立完全采用EUV生產(chǎn)設(shè)備的LSI工廠
據(jù)韓國媒體《Infostock Daily》11月18日引述消息人士報道,三星電子已決定在美國建立完全采用EUV(極紫外光)生產(chǎn)設(shè)備的LSI(Large...
ASML第一臺5nm多光束檢測器實現(xiàn)了怎樣的突破?
ASML宣布其在多光束檢測工具系列上已取得重大突破。新的eScan1000將單光束掃描進程優(yōu)化成9光束掃描進程,ASML宣稱在線缺陷檢測應(yīng)用中,能使工具...
韓國企業(yè)在EUV光刻技術(shù)方面取得了極大進展
在過去的十年中,包括三星電子在內(nèi)的全球公司進行了深入的研究和開發(fā),以確保技術(shù)處于領(lǐng)先地位。最近,代工公司(意指三星)開始使用 5 納米 EUV 光刻技術(shù)...
近日,日本沖繩科學技術(shù)大學院大學(OIST)發(fā)布了一項重大研究報告,宣布該校成功研發(fā)出一種突破性的極紫外(EUV)光刻技術(shù)。這一創(chuàng)新技術(shù)超越了當前半導體...
傳臺積電計劃關(guān)閉EUV光刻機來減少產(chǎn)能
一臺EUV光刻機工作一天大概需要耗電3萬度。如果關(guān)閉1臺EUV光刻機,一天就能省下3萬度電。臺灣目前工業(yè)用電價格約為2.45新臺幣(約合人民幣0.55元...
爆AMD的Zen3處理器細節(jié):或?qū)⒁隕UV光刻工藝
AMD的銳龍5000系列處理器下月初就要上市了,全新的Zen3架構(gòu)IPC性能大漲,不過工藝上面依然是7nm級別的,官方稱之為更成熟的7nm工藝。
與此同時,美國的作法也給我們帶來提示,不僅要掌握自己的核心技術(shù),還要守護好核心技術(shù),作法就可以參照美國的出口管制辦法。而事實上,我國也確實是這么做的。前...
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