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euv+關(guān)注8人關(guān)注

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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個節(jié)點推向下一個階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機的技術(shù)、市場問題,國產(chǎn)euv光刻機發(fā)展等內(nèi)容。