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標(biāo)簽 > euv
EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來(lái)是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過(guò)去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場(chǎng)問(wèn)題,國(guó)產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
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三星要求ASML在一個(gè)月內(nèi)交付9臺(tái)EUV光刻設(shè)備
據(jù)韓媒報(bào)道,三星副董事長(zhǎng)李在镕在訪問(wèn)荷蘭期間,在會(huì)議上要求ASML在一個(gè)月內(nèi)交付三星已購(gòu)買(mǎi)的9臺(tái)EUV光刻設(shè)備。 報(bào)道稱,ASML正在審查三星的要求,這...
影響2023年半導(dǎo)體供應(yīng)鏈發(fā)展的八大趨勢(shì)
半導(dǎo)體行業(yè)波動(dòng)性可能減弱。動(dòng)蕩的2022年引發(fā)半導(dǎo)體行業(yè)庫(kù)存調(diào)整,企業(yè)紛紛應(yīng)對(duì)短期下行周期,但背后的發(fā)展趨勢(shì)值得關(guān)注。由于人工智能(AI)、AR/VR、...
AMD 7nm+工藝突然全都消失 意在向市場(chǎng)提供最佳的高性能庫(kù)
AMD今天一口氣公布了Zen CPU架構(gòu)路線圖、RDNA/CDNA GPU架構(gòu)路線圖,對(duì)于A飯和技術(shù)愛(ài)好者來(lái)說(shuō)堪稱一場(chǎng)盛宴,但是在制造工藝方面也出現(xiàn)了意外變化。
Intel的7nm基于EUV光刻技術(shù)有望2020年底推出 10nm或?qū)⒊蔀镮ntel最短命的一代制程
原定2016年底量產(chǎn)的10nm拖到了2019年底,Intel目前僅敢在公開(kāi)市場(chǎng)拿出Cannon Lake家族的“獨(dú)苗”i3-8121U撐門(mén)面??墒撬鼉H僅...
IMEC將下一代高分辨率EUV技術(shù)進(jìn)行了商業(yè)化
Luc Van den hove并公布了3nm及以下制程的微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。截至目前,ASML 已經(jīng)布局了 3m、2nm、1.5nm、1nm 甚至 Su...
美國(guó)對(duì)EUV和5nm等六種新興技術(shù)實(shí)施控制
2020年10月5日,美國(guó)商務(wù)部工業(yè)與安全局(BIS)發(fā)布了最終規(guī)則,對(duì)《關(guān)于常規(guī)武器和兩用貨物及技術(shù)出口管制的瓦森納安排》2019年12月全體會(huì)議上達(dá)...
COVID將對(duì)光掩模市場(chǎng)產(chǎn)生什么業(yè)務(wù)影響?
總體上,三分之二的調(diào)查參與者認(rèn)為這將產(chǎn)生積極的影響。前往EUV時(shí),口罩的數(shù)量減少了。這是因?yàn)镋UV將整個(gè)行業(yè)帶回單一模式。具有多個(gè)圖案的193nm浸入需...
ASML產(chǎn)品路線圖曝光,EUV***出貨已超200臺(tái)
euv光刻系統(tǒng)從2014年第一季度到2019年第四季度,nxe:3400c在客戶端使用30 mj/cm2的電力,達(dá)到了約140芯片/小時(shí)的生產(chǎn)效率。nx...
英特爾正在順利推進(jìn)的Intel 20A和Intel 18A兩個(gè)節(jié)點(diǎn)
英特爾正在按計(jì)劃實(shí)現(xiàn)其“四年五個(gè)制程節(jié)點(diǎn)”的目標(biāo),目前,Intel 7,采用EUV(極紫外光刻)技術(shù)的Intel 4和Intel 3均已實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)。
SK海力士擬將無(wú)錫C2工廠升級(jí)為第四代D-ram工藝,并引進(jìn)EUV技術(shù)
Sk海力士期望通過(guò)在無(wú)錫工廠完成第四代D-RAM制造環(huán)節(jié)中的部分工藝流程,隨后將芯片運(yùn)回韓國(guó)總部利川園區(qū)進(jìn)行EUV處理,最后送回?zé)o錫工廠進(jìn)行后續(xù)操作。盡...
改進(jìn)芯片技術(shù)的關(guān)鍵因素——光刻技術(shù)
使用13.5nm波長(zhǎng)的光進(jìn)行成像的EUV光刻技術(shù)已被簡(jiǎn)歷。先進(jìn)的邏輯產(chǎn)品依賴于它,DRAM制造商已經(jīng)開(kāi)始大批量生產(chǎn)。
ASML聲稱:EUV設(shè)備最快會(huì)在2016年推出
電子發(fā)燒友網(wǎng)訊: 光刻設(shè)備廠商ASML Holding NV的CEO Eric Meurice 宣稱該公司已經(jīng)投入到下一代元紫外線光刻技術(shù)(EUV)設(shè)備...
IMEC公司首席執(zhí)行官兼總裁Luc Van den hove首先發(fā)表了主題演講,介紹了公司研究概況,他強(qiáng)調(diào)通過(guò)與ASML公司緊密合作,將下一代高分辨率...
中國(guó)EUV購(gòu)買(mǎi)受限,半導(dǎo)體面臨難產(chǎn)
盡管EUV現(xiàn)在還存在各種障礙,但是其未來(lái)應(yīng)用前景依然各方被看好。從長(zhǎng)遠(yuǎn)角度來(lái)看,發(fā)展EUV技術(shù)是非常必要的。對(duì)此,林雨指出:“自上世紀(jì)九十年代起,中國(guó)...
2017-11-15 標(biāo)簽:半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)三星電子臺(tái)積電 1464 0
臺(tái)積電A16制程采用EUV光刻機(jī),2026年下半年量產(chǎn)
據(jù)臺(tái)灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機(jī),而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計(jì)...
? ? 今年冬天特別「缺電」。 最近,湖南、江西、浙江等地開(kāi)始限電,多年不見(jiàn)的「拉閘限電」又回來(lái)了。 2004、2011年,中國(guó)曾出現(xiàn)大規(guī)模的「用電荒」...
英特爾突破技術(shù)壁壘:首臺(tái)商用High NA EUV光刻機(jī)成功組裝
英特爾的研發(fā)團(tuán)隊(duì)正致力于對(duì)這臺(tái)先進(jìn)的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行細(xì)致的校準(zhǔn)工作,以確保其能夠順利融入未...
最近聽(tīng)到一則消息說(shuō)是ASML說(shuō)是壓貨太多,但是其實(shí)我們買(mǎi)都買(mǎi)不到。
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