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      標(biāo)簽　>　euv

      euv

      +關(guān)注8人關(guān)注

      EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了，EUV已經(jīng)遇到了一些延遲，將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段，本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī)，EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用，EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場問題，國產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。

      文章：595個(gè) 瀏覽：87269次 帖子：0個(gè)

      euv資訊

      英特爾宣布制造擴(kuò)張計(jì)劃：新建兩座晶圓廠

      今天，英特爾新任首席執(zhí)行官Pat Gelsinger在一場演講中概述了在對英特爾未來幾年的愿景。在題為“英特爾釋放：未來

      2021-03-24 標(biāo)簽：芯片晶圓廠EUV 2131 0

      臺(tái)積電宣布5nm工藝已經(jīng)量產(chǎn)，也在提升EUV工藝的效率及性能

      在先進(jìn)半導(dǎo)體工藝上，臺(tái)積電已經(jīng)一騎絕塵了，其他人望不到尾燈了，今年量產(chǎn)了5nm，明年就輪到3nm了。

      2020-10-17 標(biāo)簽：臺(tái)積電EUV5nm 2125 0

      三星晶圓廠最新路線圖 2025年推出首個(gè)GAA制程先進(jìn)封裝

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      三星電子公布了其在小于 3 納米（1 米的十億分之一）半導(dǎo)體領(lǐng)域獲得競爭優(yōu)勢的技術(shù)路線圖。

      2023-07-06 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶圓EUV 2121 0

      新一期《光學(xué)學(xué)報(bào)》發(fā)表特邀綜述，透露我國EUV光刻物鏡系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計(jì)進(jìn)展

      論文介紹說，2002年，中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械及物理研究所研制出國內(nèi)最早由Schwarzschild物鏡組成的euv光角原理實(shí)驗(yàn)裝置，實(shí)現(xiàn)了0.75...

      2023-08-18 標(biāo)簽：光學(xué)系統(tǒng)EUV精密機(jī)械 2105 0

      美光科技開始提速EUV DRAM開發(fā)速度

      美國美光科技開始提速EUV DRAM。加入到三星電子、SK海力士等全球第一、第二EUV廠商選擇的EUV陣營后，后續(xù)EUV競爭或?qū)⒏鼮榧ち摇?/p>

      2020-12-25 標(biāo)簽：DRAM三星電子EUV 2099 0

      光刻膠分類與市場結(jié)構(gòu)

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      光刻膠主要下游應(yīng)用包括：顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等，其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用，占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%，是第三...

      2024-01-03 標(biāo)簽：光源EUV光刻膠 2098 0

      使用標(biāo)準(zhǔn)濕法清潔從EUV掩?？瞻字腥コ{米顆粒

      使用標(biāo)準(zhǔn)濕法清潔從EUV掩模空白中去除納米顆粒

      準(zhǔn)備好無缺陷掩模供應(yīng)是將極端紫外線光刻(EUVL)應(yīng)用于32納米半間距(HP)及更大的大批量半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵挑戰(zhàn)之一。根據(jù)ITRS在2008年更新的數(shù)據(jù)...

      2022-02-17 標(biāo)簽：納米微米EUV 2094 0

      直線電機(jī)光刻機(jī)的介紹

      10月1日，國慶當(dāng)天，“光刻機(jī)10億一臺(tái)仍供不應(yīng)求”相關(guān)話題登上微博熱搜。

      2021-10-09 標(biāo)簽：直線電機(jī)EUV驅(qū)動(dòng)裝置 2073 0

      SK海力士M16新廠竣工 將首次使用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)

      存儲(chǔ)芯片廠商SK海力士宣布，其公司位于韓國首爾南部利川市的M16新廠已經(jīng)竣工，SK海力士將首次使用極紫外輻射（EUV）光刻機(jī)在生產(chǎn)存儲(chǔ)芯片。SK海力士經(jīng)...

      2021-02-03 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVSK海力士 2068 0

      臺(tái)積電5納米制程將在2019年的第2季試產(chǎn) 并與4家合作伙伴達(dá)成協(xié)議

      根據(jù)晶圓代工龍頭臺(tái)積電在日前公布的2018年9月份財(cái)報(bào)顯示，其營收達(dá)到949.22億元（新臺(tái)幣，下同）的歷史次高水準(zhǔn)，不但將8月時(shí)因?yàn)樵獾讲《靖腥臼录?..

      2018-10-12 標(biāo)簽：臺(tái)積電EUV 2061 0

      受疫情影響 ASML宣布下調(diào)Q1季度營收預(yù)期

      由于COVID-19新冠病毒在全球的蔓延，多個(gè)行業(yè)的生產(chǎn)、消費(fèi)都受到影響了，半導(dǎo)體行業(yè)也不例外。ASML公司今天宣布下調(diào)Q1季度營收預(yù)期，同時(shí)暫停股票回...

      2020-03-31 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVASML 2010 0

      三星決定7nm率先導(dǎo)入EUV后，臺(tái)積電緊跟步伐！

      在三星決定7nm率先導(dǎo)入EUV后，讓EUV輸出率獲得快速提升，臺(tái)積電決定在7nm強(qiáng)化版提供客戶設(shè)計(jì)定案，5nm才決定全數(shù)導(dǎo)入。

      2017-08-23 標(biāo)簽：英特爾臺(tái)積電EUV 2010 3

      EUV遭受新挫折 半導(dǎo)體10nm工藝步履維艱

      期EUV光刻機(jī)出現(xiàn)一系列的問題被曝光。有些專家認(rèn)為在TSMC現(xiàn)場出現(xiàn)的光源故障對于EUV的實(shí)用性，尤其是對于未來的量產(chǎn)型EUV光刻機(jī)客戶會(huì)產(chǎn)生疑惑，可能...

      2014-02-28 標(biāo)簽：半導(dǎo)體臺(tái)積電EUV 1987 0

      EUV光刻機(jī)加持，SK海力士宣布明年量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存

      ASML公司的EUV光刻機(jī)全球獨(dú)一份，現(xiàn)在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上，臺(tái)積電、三星用它生產(chǎn)CPU、GPU等芯片。馬上內(nèi)存芯片也要跟進(jìn)了，SK海力...

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      臺(tái)積電狂砸440億購買55臺(tái)EUV光刻機(jī)，以加快相關(guān)工藝制程發(fā)展

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      2020-09-28 標(biāo)簽：臺(tái)積電光刻機(jī)EUV 1974 0

      芯片突破摩爾定律？英特爾說EUV光刻技術(shù)可做到

      據(jù)美國科技博客BusinessInsider報(bào)道，在近50年的科技發(fā)展中，技術(shù)變革的速度一直遵循著摩爾定律。一次又一次的質(zhì)疑聲中，英特爾堅(jiān)定不移地延續(xù)著...

      2013-11-01 標(biāo)簽：芯片英特爾摩爾定律 1972 0

      美國要求荷蘭ASML進(jìn)一步限制DUV***出口到中國

      美國要求荷蘭ASML進(jìn)一步限制DUV***出口到中國

      奮斗不息！ ? 美國芯片法案-2022 1 對華限制 關(guān)注半導(dǎo)體行業(yè)的小伙伴們都知道，前不久美國商務(wù)部工業(yè)安全局（BIS）對中國實(shí)施了芯片出口管制措施，...

      2023-10-20 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVASML 1965 0

      能耗成了EUV***的最大掣肘

      電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）隨著雙碳目標(biāo)的提出，越來越多的行業(yè)應(yīng)用開始注意到能耗問題，尤其是在半導(dǎo)體制造設(shè)備上。就拿我們常常提及的EUV光刻機(jī)來說，就...

      2023-10-25 標(biāo)簽：EUV 1964 0

      拜登是否會(huì)延續(xù)特朗普對中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的高壓路線？

      拜登政府是否延續(xù)特朗普政府時(shí)期對中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的高壓路線，備受關(guān)注。彭博社報(bào)道，荷蘭光刻機(jī)制造商ASML 總裁兼CEO 彼得·溫寧克（Peter Wen...

      2021-02-01 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV 1962 0

      ASML帶來了長期問題

      為什么這很重要？在引入EUV系統(tǒng)之前，最先進(jìn)的IC是使用DUV浸沒式光刻系統(tǒng)制造的。這些DUV系統(tǒng)在193nm的光波長下無法到達(dá)7nm節(jié)點(diǎn)，因此EUV取...

      2021-03-14 標(biāo)簽：邏輯芯片EUVASML 1960 0

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        瑞芯微電子有限公司（Fuzhou Rockchips Electronics CO., Ltd）主要致力于數(shù)字音視頻和廣播領(lǐng)域，為消費(fèi)品生產(chǎn)廠家提供從芯片到系統(tǒng)SoC軟件的整體解決方案。主要產(chǎn)品線包括：數(shù)字音視頻處理芯片、語言復(fù)讀機(jī)主控芯片以及數(shù)字電調(diào)諧收音機(jī)控制芯片。
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