EUV（Extreme Ultraviolet）***是一種高級光刻設(shè)備，用于半導(dǎo)體制造業(yè)中的微電子芯片生產(chǎn)。EUV***是目前最先進的光刻技術(shù)之一，它采用極端紫外光作為曝光光源，具有更短的波長（通常為13.5納米），相比傳統(tǒng)的光刻技術(shù)，EUV技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)更小的芯片尺寸和更高的集成度。

EUV***的工作原理是通過將極端紫外光投影到硅片上，在光敏材料上形成圖案，從而實現(xiàn)芯片的精密圖案化。與傳統(tǒng)的光刻技術(shù)相比，EUV技術(shù)的短波長可以顯著提高曝光的分辨率和精度，使得制造更小、更復(fù)雜的芯片成為可能。

EUV光刻技術(shù)在半導(dǎo)體行業(yè)中具有重要的意義，因為隨著芯片尺寸的不斷縮小和集成度的提高，傳統(tǒng)光刻技術(shù)已經(jīng)逐漸達到了極限。EUV技術(shù)的引入為半導(dǎo)體制造業(yè)帶來了新的突破，有助于滿足日益增長的電子產(chǎn)品需求。

根據(jù)阿譜爾（APO）的統(tǒng)計及預(yù)測，全球EUV光刻市場規(guī)模在2022年達到56.99億美元，預(yù)計到2030年將達到292.39億美元，在2023-2030年的預(yù)測期內(nèi)，年復(fù)合增長率為22.61%。全球EUV光刻市場正在見證全球范圍內(nèi)半導(dǎo)體需求的激增，這是由于激光生產(chǎn)的等離子體EUV光刻領(lǐng)域的顯著擴張，在應(yīng)用部分占據(jù)超過1/3的市場份額。

EUV光刻技術(shù)的不斷進步在推動市場增長方面發(fā)揮了舉足輕重的作用，世界各地也認識到提高光刻系統(tǒng)的重要性，并實施了支持發(fā)展的政策。由于極端紫外線輻射的危險性，EUV光刻技術(shù)的使用必須遵守嚴格的安全協(xié)議。世界各地都有嚴格的規(guī)定和準則，以確保工人和環(huán)境的安全，遵守這些法規(guī)需要對安全措施、員工培訓和監(jiān)測系統(tǒng)進行額外投資，從而阻礙了市場的增長。

然而，EUV***技術(shù)也面臨一些挑戰(zhàn)，包括設(shè)備復(fù)雜性、光源穩(wěn)定性、制造成本等。為了推廣EUV技術(shù)的商業(yè)化應(yīng)用，制造商和研發(fā)機構(gòu)不斷投入資源，致力于解決這些挑戰(zhàn)?？傮w來說，EUV***作為一項前沿技術(shù)，對半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展具有重要意義。隨著技術(shù)不斷進步，預(yù)計EUV***在未來將在半導(dǎo)體芯片制造過程中發(fā)揮越來越重要的作用。

2023-2029年全球與中國EUV***市場：增長趨勢、競爭格局與前景展望

阿譜爾（APO Research）關(guān)于全球與中國EUV***市場的報告研究了過去以及當前的增長趨勢和機會，以獲得對2023年至2029年預(yù)測期間市場指標的寶貴見解。報告提供了2018-2029年期間全球與中國市場EUV***的產(chǎn)能、產(chǎn)量、銷量、銷售額、價格及未來趨勢?？紤]到2023年為基準年，2029年為預(yù)測年，報告還提供了2023年至2029年全球與中國EUV***市場的復(fù)合年增長率（CAGR XX%）。

該報告是在廣泛研究后編寫的。一級研究涉及大部分的研究工作，報告深入研究了全球與中國EUV***市場的競爭格局，其中分析師與關(guān)鍵意見領(lǐng)袖、行業(yè)領(lǐng)袖和意見制造者進行了訪談，確定了在全球與中國EUV***市場運作的主要參與者，其中每一個參與者都在各種屬性方面進行了分析，公司概況、財務(wù)狀況、近期發(fā)展和SWOT是本報告對全球EUV***市場參與者的屬性描述。二級研究包括參考主要參與者的產(chǎn)品文獻、年度報告、新聞稿和相關(guān)文件，以了解EUV***市場。

按光源類型劃分有：

激光產(chǎn)生的等離子體(LPP)

真空火花

氣體放電

按應(yīng)用類型劃分有：

通信

人工智能

其他

主要參與者

ASML

其他公司......
需要注意的是，具體的市場發(fā)展情況可能因地區(qū)和時間而異，建議進一步參考最新的市場研究報告，關(guān)注我了解更詳盡和具體的信息

審核編輯 黃宇