99精品伊人亚洲|最近国产中文炮友|九草在线视频支援|AV网站大全最新|美女黄片免费观看|国产精品资源视频|精彩无码视频一区|91大神在线后入|伊人终合在线播放|久草综合久久中文

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

日本首臺(tái)EUV光刻機(jī)就位

jf_15747056 ? 來源:jf_15747056 ? 作者:jf_15747056 ? 2024-12-20 13:48 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日?qǐng)?bào)道,Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司,已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻系統(tǒng)。

它將分四個(gè)階段進(jìn)行安裝,設(shè)備安裝預(yù)計(jì)在本月底完成。

Rapidus 計(jì)劃 2025 年春季使用最先進(jìn)的 2 納米工藝開發(fā)原型芯片,于 2027 年開始大規(guī)模生產(chǎn)芯片。

EUV 機(jī)器結(jié)合了特殊光源、鏡頭和其他技術(shù),可形成超精細(xì)電路圖案。該系統(tǒng)體積小,不易受到振動(dòng)和其他干擾。

wKgZPGdlBQqAMbfHAAFDtV3LgGQ381.png

ASML 是全球唯一的 EUV 系統(tǒng)供應(yīng)商。每臺(tái)系統(tǒng)的成本約為 1.8 億美元,具體價(jià)格取決于型號(hào)。這些系統(tǒng)需要很高水平的操作技能,只有少數(shù)芯片制造商采用了它們,包括臺(tái)灣半導(dǎo)體制造公司、三星電子和英特爾。去年全球僅交付了 42 臺(tái)。

Rapidus 正與 IBM 合作,計(jì)劃于 2025 年春季采用最先進(jìn)的 2 納米工藝開發(fā)原型芯片,并于 2027 年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。全球最大的代工芯片制造商臺(tái)積電的目標(biāo)是在 2025 年實(shí)現(xiàn) 2 納米芯片的量產(chǎn)。

更精細(xì)的電路賦予邏輯芯片更高的能效和處理能力,邏輯芯片是電子設(shè)備的大腦。這種先進(jìn)的芯片對(duì)于人工智能和其他有望在未來幾十年決定經(jīng)濟(jì)主導(dǎo)地位的技術(shù)至關(guān)重要。

20 世紀(jì) 80 年代,日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的全球市場(chǎng)份額超過 50%。但到了 21 世紀(jì),日本已退出生產(chǎn)越來越小的邏輯芯片的競(jìng)爭(zhēng)。當(dāng)?shù)卣M栌?EUV 光刻工具大規(guī)模應(yīng)用,重振日本先進(jìn)芯片生產(chǎn)能力。

關(guān)于晶揚(yáng)

深圳市晶揚(yáng)電子有限公司成立于2006年,是國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)、國(guó)家專精特新“小巨人”科技企業(yè),是多年專業(yè)從事IC設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、銷售及系統(tǒng)集成的IC DESIGN HOUSE,擁有百余項(xiàng)有效專利等知識(shí)產(chǎn)權(quán)。建成國(guó)內(nèi)唯一的廣東省ESD保護(hù)芯片工程技術(shù)研究中心,是業(yè)內(nèi)著名的“電路與系統(tǒng)保護(hù)專家”。

主營(yíng)產(chǎn)品:ESD、TVS、MOS管、DC-DC,LDO系列、霍爾傳感器,高精度運(yùn)放芯片,汽車音頻功放芯片等。

審核編輯 黃宇

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1167

    瀏覽量

    48204
  • EUV
    EUV
    +關(guān)注

    關(guān)注

    8

    文章

    609

    瀏覽量

    87253
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績(jī)暴雷,芯片迎來新一輪“寒流”?

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV
    的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?3409次閱讀

    奧松半導(dǎo)體8英寸MEMS項(xiàng)目迎重大進(jìn)展 首臺(tái)光刻機(jī)入駐

    奧松傳感傳來好消息,在7月14日11時(shí)38分,重慶奧松半導(dǎo)體特色芯片產(chǎn)業(yè)基地(下稱“奧松半導(dǎo)體項(xiàng)目”)迎來具有里程碑意義的時(shí)刻——8英寸生產(chǎn)線首臺(tái)光刻機(jī)設(shè)備,在眾人關(guān)切注視的目光中平穩(wěn)進(jìn)場(chǎng)。 首臺(tái)
    的頭像 發(fā)表于 07-17 16:33 ?347次閱讀
    奧松半導(dǎo)體8英寸MEMS項(xiàng)目迎重大進(jìn)展 <b class='flag-5'>首臺(tái)</b><b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>入駐

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進(jìn)步,對(duì)電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長(zhǎng)和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān),電子波長(zhǎng)可通過增加加速電極電壓來減小波長(zhǎng),而電子束聚焦后
    發(fā)表于 05-07 06:03

    成都匯陽(yáng)投資關(guān)于光刻機(jī)概念大漲,后市迎來機(jī)會(huì)

    【2025年光刻機(jī)市場(chǎng)的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一,其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場(chǎng)對(duì)光刻機(jī)的需求持續(xù)增長(zhǎng),尤其是在先
    的頭像 發(fā)表于 04-07 09:24 ?637次閱讀

    EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    ? EUV光刻有多強(qiáng)?目前來看,沒有EUV光刻,業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 02-18 09:31 ?1028次閱讀
    <b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
    的頭像 發(fā)表于 02-06 09:38 ?504次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    如何提高光刻機(jī)的NA值

    本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號(hào)的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)的NA值會(huì)比上一代更大一些。NA,又名
    的頭像 發(fā)表于 01-20 09:44 ?1377次閱讀
    如何提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的NA值

    光刻機(jī)的分類與原理

    本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?2570次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的分類與原理

    組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    納米級(jí)別的分辨率。本文將詳細(xì)介紹光刻機(jī)的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機(jī)的心臟,負(fù)責(zé)提供曝光所需的能量。早期的光刻機(jī)使用汞燈作為光源,但隨著技術(shù)的進(jìn)步,目前多采用深紫外(DUV)或極紫外(
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?2257次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)介紹

    ? 本文介紹了用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進(jìn) 過去半個(gè)多世紀(jì),摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,但當(dāng)光刻機(jī)的光源波長(zhǎng)卡在193nm,芯片制程縮小至6
    的頭像 發(fā)表于 11-24 11:04 ?2480次閱讀
    用來提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>分辨率的浸潤(rùn)式<b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)介紹

    光刻機(jī)的工作原理和分類

    ? 本文介紹了光刻機(jī)在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī):芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機(jī)在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位,被譽(yù)為芯片制
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:16 ?5880次閱讀

    一文看懂光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)及雙工件臺(tái)技術(shù)

    光刻機(jī)作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機(jī)的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺(tái)技術(shù)展開介紹。 一、光刻機(jī)發(fā)展歷程 光刻機(jī)的發(fā)展歷程
    的頭像 發(fā)表于 11-22 09:09 ?4636次閱讀
    一文看懂<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的結(jié)構(gòu)及雙工件臺(tái)技術(shù)

    今日看點(diǎn)丨 2011億元!比亞迪單季營(yíng)收首次超過特斯拉;三星將于2025年初引進(jìn)High NA EUV光刻機(jī)

    1. 三星將于2025 年初引進(jìn)High NA EUV 光刻機(jī),加快開發(fā)1nm 芯片 ? 據(jù)報(bào)道,三星電子正準(zhǔn)備在2025年初引入其首款High NA EUV(極紫外)光刻機(jī)設(shè)備,這標(biāo)
    發(fā)表于 10-31 10:56 ?1047次閱讀

    日本與英特爾合建半導(dǎo)體研發(fā)中心,將配備EUV光刻機(jī)

    英特爾將在日本設(shè)立先進(jìn)半導(dǎo)體研發(fā)中心,配備EUV光刻設(shè)備,支持日本半導(dǎo)體設(shè)備和材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展,增強(qiáng)本土研發(fā)能力。 據(jù)日經(jīng)亞洲(Nikkei Asia)9月3日?qǐng)?bào)導(dǎo),美國(guó)處理器大廠英特爾已
    的頭像 發(fā)表于 09-05 10:57 ?688次閱讀

    日本大學(xué)研發(fā)出新極紫外(EUV)光刻技術(shù)

    近日,日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)院大學(xué)(OIST)發(fā)布了一項(xiàng)重大研究報(bào)告,宣布該校成功研發(fā)出一種突破性的極紫外(EUV光刻技術(shù)。這一創(chuàng)新技術(shù)超越了當(dāng)前半導(dǎo)體制造業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)界限,其設(shè)計(jì)的光刻設(shè)
    的頭像 發(fā)表于 08-03 12:45 ?1637次閱讀