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標(biāo)簽 > 蝕刻
最早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版,也廣泛地被使用于減輕重量(Weight Reduction)儀器鑲板,銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工;經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展,亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工,特別在半導(dǎo)體制程上,蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。
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AlGaN/GaN結(jié)構(gòu)的氧基數(shù)字蝕刻
寬帶隙GaN基高電子遷移率晶體管(HEMTs)和場效應(yīng)晶體管(fet)能夠提供比傳統(tǒng)Si基高功率器件更高的擊穿電壓和電子遷移率。常關(guān)GaN非常需要HEM...
關(guān)于氮化鋁單晶的濕法化學(xué)蝕刻的研究報告
引言 氮化鎵因其獨特的性質(zhì)和在光電和微電子器件中的潛在應(yīng)用而引起了廣泛的興趣。然而,GaN異質(zhì)外延層中高達(dá)108 cm-2的位錯密度縮短了GaN基器件的...
瑞鑫環(huán)保:致力于讓PCB生產(chǎn)廢物“變廢為寶”
電解提銅過程中,陽極區(qū)的氫離子會透過陽離子膜遷移到陽極區(qū)中,使藥水酸度增加,正好可以補(bǔ)充蝕刻過程中藥水酸度的損耗,使蝕刻液可以不斷循環(huán)使用。
摘要 本文對本克斯使用的鋁蝕刻劑進(jìn)行調(diào)查,以長期提高蝕刻部件的質(zhì)量。非常薄的鋁箔圖案在磷酸、氯化鐵和水銹溶液中精確蝕刻的鋁箔圖案符合尺寸和一致性標(biāo)準(zhǔn)。蝕...
《華林科納-半導(dǎo)體工藝》減薄硅片的蝕刻技術(shù)
摘要 高效指間背接觸太陽能電池有助于減少太陽能電池板的面積,需要提供足夠數(shù)量的能源供家庭消費。我們認(rèn)為適當(dāng)?shù)牟捎霉廒寮夹g(shù)的IBC電池即使在厚度不足的情況...
GaN及相關(guān)合金可用于制造藍(lán)色/綠色/紫外線發(fā)射器以及高溫、高功率電子器件。由于 III 族氮化物的濕法化學(xué)蝕刻結(jié)果有限,因此人們投入了大量精力來開發(fā)干...
引言 近年來,硅/硅鍺異質(zhì)結(jié)構(gòu)已成為新型電子和光電器件的熱門課題。因此,人們對硅/硅鍺體系的結(jié)構(gòu)制造和輸運研究有相當(dāng)大的興趣。在定義Si/SiGe中的不...
這個復(fù)合體由兩種設(shè)施組成。第一個裝置是為“無掩模納米光刻”設(shè)計的,可以在沒有口罩的情況下將圖像投射到基板上。第二種設(shè)備位于第一種設(shè)備制造的基板圖案上,利...
通過紫外線輔助光蝕刻技術(shù)實現(xiàn)的濕式蝕刻
我們?nèi)A林科納使用K2S2O8作為氧化劑來表征基于KOH的紫外(UV)光輔助濕法蝕刻技術(shù)。該解決方案提供了良好控制的蝕刻速率,并產(chǎn)生了光滑的高質(zhì)量蝕刻表面...
引言 III-V半導(dǎo)體廣泛應(yīng)用于氣體檢測系統(tǒng)、光電探測器、光遺傳學(xué)、生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用、高電子遷移率和異質(zhì)結(jié)雙極晶體管、諧振隧穿二極管和自旋電子器件太陽能電池...
半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中,蝕刻工藝是非常重要的工藝。蝕刻工藝中使用的方法通常有batch式和枯葉式兩種。Batch式是用傳統(tǒng)的方法,在藥液bath中一次性加入數(shù)...
韓國晶圓蝕刻設(shè)備優(yōu)質(zhì)制造商 APTC 今日宣布,已成功與一家美國芯片制造商達(dá)成供應(yīng)協(xié)議。APTC首席執(zhí)行官 Choi Woo-hyung 指出,成為合作...
我們開發(fā)了一種改進(jìn)的各向異性濕法蝕刻工藝,通過在晶片上使用單個蝕刻掩模來制造各種硅微結(jié)構(gòu),這些微結(jié)構(gòu)具有圓形凹角和尖銳凸角、用于芯片隔離的凹槽、蜿蜒的微...
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