俄羅斯圣彼得堡理工大學（spbpu）的研究人員利用蝕刻開發(fā)出國產光刻復合設備，用于生產無掩模芯片，這對實現(xiàn)俄羅斯微電子的自給自足非常重要。一種設備的價格為500萬盧布（約4.95萬美元），但其他設備的價格尚不清楚。

這個復合體由兩種設施組成。第一個裝置是為“無掩模納米光刻”設計的，可以在沒有口罩的情況下將圖像投射到基板上。第二種設備位于第一種設備制造的基板圖案上，利用蝕刻形成納米結構。另外，還可以制造用于船舶和壓力傳感器等的硅膠片。這些膠片被認為比其他方法制成的膠片更可靠，更敏感。

目前俄羅斯的半導體生產局限在65納米工程技術上。與此同時，全球標準縮小為3nm工藝。需求諾夫哥羅德應用物理研究所（iap ras）的目標是，到2028年為止，開發(fā)出能夠生產7納米芯片的照相技術。為了推動這一勢頭，俄羅斯工貿部投資11億盧布開發(fā)微電子專用光刻材料。

除了制造芯片和硅膜外，這兩種設備還能給其他行業(yè)帶來不少收益。例如，這些裝備可以使雷達設備的使用壽命延長20倍以上。在綠色能源領域，這些裝置使太陽能電池板變得更輕、更高效和更小。

開發(fā)者對自己的發(fā)明抱有很大的希望。他們正在考慮將人工智能融合到這兩個裝置中來提高他們的能力。但俄羅斯半導體制造企業(yè)是否對該設備感興趣尚不清楚，設備何時投入實際生產尚未確定。