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      標(biāo)簽　>　euv

      euv

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      EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了，EUV已經(jīng)遇到了一些延遲，將技術(shù)從一個節(jié)點(diǎn)推向下一個階段，本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī)，EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用，EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場問題，國產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。

      文章：595個 瀏覽：87261次 帖子：0個

      euv資訊

      從ASML年收入140億歐元，看光刻機(jī)市場格局

      電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/程文智）1月20日，ASML發(fā)布了其第四季度的財報，銷售額達(dá)到了43億歐元，全年凈銷售額140億歐元，毛利率48.6%，凈利潤金額...

      2021-01-22 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVASML 3671 0

      美國泛林宣布與ASML、IMEC合作開發(fā)出新的EUV光刻技術(shù) 成本大幅降低

      2月28日，美國泛林公司宣布與ASML阿斯麥、IMEC比利時微電子中心合作開發(fā)了新的EUV光刻技術(shù)，不僅提高了EUV光刻的良率、分辨率及產(chǎn)能，還將光刻膠...

      2020-02-29 標(biāo)簽：光刻IMECEUV 3662 0

      EUV光刻工藝可用到2030年的1.5nm節(jié)點(diǎn)

      推動科技進(jìn)步的半導(dǎo)體技術(shù)真的會停滯不前嗎？這也不太可能，7nm工藝節(jié)點(diǎn)將開始應(yīng)用EUV光刻工藝，研發(fā)EUV光刻機(jī)的ASML表示EUV工藝將會支持未來15...

      2017-01-22 標(biāo)簽：摩爾定律EUVEUV光刻機(jī) 3661 0

      三星6nm工藝已量產(chǎn)出貨，3nm GAE工藝也將研發(fā)完成

      由于在7nm節(jié)點(diǎn)激進(jìn)地采用了EUV工藝，三星的7nm工藝量產(chǎn)時間比臺積電要晚了一年，目前采用高通的驍龍765系列芯片使用三星7nm EUV工藝量產(chǎn)。在這...

      2020-01-06 標(biāo)簽：三星電子臺積電euv 3656 0

      ASML發(fā)布2019年Q2季度財報 EUV光刻機(jī)最主要的問題還是產(chǎn)能不足

      ASML發(fā)布2019年Q2季度財報 EUV光刻機(jī)最主要的問題還是產(chǎn)能不足

      2019-07-18 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVASML 3621 0

      半導(dǎo)體巨頭為什么追捧EUV光刻機(jī)

      近些年來EUV光刻這個詞大家應(yīng)該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也...

      2020-02-29 標(biāo)簽：處理器cpueuv 3616 0

      探析EUV光刻未來的發(fā)展趨勢

      探析EUV光刻未來的發(fā)展趨勢

      用于高端邏輯半導(dǎo)體量產(chǎn)的EUV(Extreme Ultra-Violet，極紫外線光刻)曝光技術(shù)的未來藍(lán)圖逐漸“步入”我們的視野，從7nm階段的技術(shù)節(jié)點(diǎn)...

      2019-01-21 標(biāo)簽：半導(dǎo)體EUV 3613 0

      英特爾未來十年制造工藝路線圖發(fā)布，1.4納米2029年推出

      英特爾預(yù)計其制造工藝節(jié)點(diǎn)技術(shù)將保持2年一飛躍的節(jié)奏，從2019年的10納米工藝開始，到2021年轉(zhuǎn)向7納米EUV（極紫外光刻），然后在2023年采用5納...

      2019-12-11 標(biāo)簽：英特爾euv 3605 0

      EUV極紫外光時代步伐漸近 或?qū)⒂瓉?50瓦EUV光源

      盡管所花的時間與成本幾乎比所有人預(yù)期得要多，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)終于還是快要盼到極紫外光(extreme ultraviolet，EUV)微影技術(shù)的大量生產(chǎn)──在...

      2018-06-10 標(biāo)簽：英特爾三星電子臺積電 3594 0

      三星稱在GAA技術(shù)領(lǐng)先臺積電一年 更超前英特爾兩到三年

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      2019-08-02 標(biāo)簽：三星電子晶圓EUV 3578 0

      1納米需要什么樣的光刻機(jī)?

      比利時的獨(dú)立半導(dǎo)體高科技研究機(jī)構(gòu)——imec每年都會在東京舉辦“imec Technology Forum（ITF） Japan”，并介紹他們的年度研發(fā)...

      2020-11-30 標(biāo)簽：半導(dǎo)體三星電子EUV 3563 0

      臺積電官宣2nm研發(fā)啟動 N5P量產(chǎn)預(yù)計落在2021年

      6月18日，臺積電在上海舉辦了2019中國技術(shù)論壇（TSMC2019 Technology Symposium）。臺積電總裁魏家哲介紹了先進(jìn)工藝的發(fā)展規(guī)...

      2019-06-19 標(biāo)簽：半導(dǎo)體臺積電EUV 3553 0

      三星宣布已完成5納米FinFET工藝技術(shù)開發(fā)

      4月16日，三星官網(wǎng)發(fā)布新聞稿，宣布已經(jīng)完成5納米FinFET工藝技術(shù)開發(fā)，現(xiàn)已準(zhǔn)備好向客戶提供樣品。

      2019-04-16 標(biāo)簽：三星電子FinFETEUV 3549 0

      先進(jìn)制程微縮變得越來越困難 IC設(shè)計與品牌商同樣面對的成本高墻

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      2018-12-26 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶圓EUV 3514 0

      臺積電和三星再次登上摩爾定律階梯

      臺積電和三星再次登上摩爾定律階梯

      5納米節(jié)點(diǎn)是首個從開始就使用極紫外光刻（EUV）技術(shù)做出來的。在波長只有13.5納米的情況下，EUV燈可以在硅上產(chǎn)生非常精細(xì)的圖案。其中一些圖案可以用上...

      2019-06-02 標(biāo)簽：芯片臺積電EUV 3512 0

      EUV光刻的兩大挑戰(zhàn)者，誰扛大旗？

      過去二十年見證了193 nm以下波長光刻技術(shù)的發(fā)展。在使用 F2 準(zhǔn)分子激光器開發(fā)基于 157 納米的光刻技術(shù)方面付出了一些努力，但主要關(guān)注點(diǎn)是使用 1...

      2023-02-02 標(biāo)簽：摩爾定律光刻技術(shù)EUV 3511 0

      光刻膠國產(chǎn)化的道路上有哪6道坎？

      光刻膠國產(chǎn)化的道路上有哪6道坎？

      材料是半導(dǎo)體大廈的地基，不過，目前中國的這一地基對國外依存度還很高。 2019年，日韓發(fā)生沖突，日本封鎖了三種關(guān)鍵的半導(dǎo)體材料，分別是氟化氫、聚酰亞胺和...

      2021-05-11 標(biāo)簽：半導(dǎo)體EUV光刻膠 3500 0

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        上海安路信息科技有限公司成立于2011年，總部位于浦東新區(qū)張江高科技園區(qū)。安路科技專注于為客戶提供高性價比的可編程邏輯器件（FPGA）、可編程系統(tǒng)級芯片（SOC）、定制化可編程芯片、及相關(guān)軟件設(shè)計工具和創(chuàng)新系統(tǒng)解決方案。
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        　　華為Mate 9系列是華為推出的商務(wù)旗艦手機(jī)。華為Mate 9系列搭載麒麟960海思處理器，操作系統(tǒng)為基于Android 7.0深度定制的EMUI5.0。
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