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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個節(jié)點推向下一個階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場問題,國產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
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盡管三星方面沒有透露具體的公司名字,但出售EUV光刻膠的應(yīng)該是日本JSR公司與比利時微電子中心IMEC合作成立的公司,2016年成立,主要由JSR比利時...
三星6nm6LPP將在今年下半年如期投入量產(chǎn) 4nm4LPE也會在年內(nèi)設(shè)計完畢
除了臺積電,三星如今在工藝方面也是十分激進(jìn):7nm 7LPP去年十月投產(chǎn)之后,按照官方最新給出的時間表,6nm 6LPP將在今年下半年如期投入量產(chǎn),5n...
三星EUV技術(shù)成功應(yīng)用于DRAM生產(chǎn)
據(jù)ZDnet報道,三星宣布,已成功將EUV技術(shù)應(yīng)用于DRAM的生產(chǎn)中。
EUV技術(shù)量產(chǎn)進(jìn)入最后沖刺階段
盡管極紫外光(EUV)步進(jìn)機(jī)的大量生產(chǎn)面臨復(fù)雜的問題以及緊迫的時間,專家們?nèi)匀槐С謽酚^態(tài)度...
去年4月,中芯國際向荷蘭ASML公司訂購了一臺EUV光刻機(jī),用于研究7nm及以下的先進(jìn)工藝。花費超過1.2億歐元(約10億人民幣),預(yù)計今年底交貨,20...
NVIDIA或?qū)⒅匦聯(lián)肀?新圖形芯片Ampere將采用三星7nmEUV制程
6月4日消息,據(jù)Digitimes報道,臺積電持續(xù)保持先進(jìn)制程技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢,7nm制程包攬了大廠訂單,三星決定跳過7nm制程,直接上7nm LPP EVU制程。
關(guān)于EUV機(jī)臺的性能分析和應(yīng)用介紹
臺積電方面也同時參與。當(dāng)時消息顯示,臺積電將以8.38億歐元購買ASML的5%股權(quán),并同意在下一代光刻技術(shù)如超紫外技術(shù)和450毫米光刻設(shè)備的研發(fā)上向AS...
臺積電2019年10納米及7納米年總產(chǎn)能較今年將增加3倍
晶圓代工龍頭臺積電7納米已進(jìn)入量產(chǎn),第四季可望再爭取到超微(AMD)中央處理器及高通智能手機(jī)芯片訂單,并在明年放量投片。外資圈指出,臺積電2019年10...
三星EUV光刻膠需求找不到替代,進(jìn)軍代工行業(yè)老大有難度
據(jù)businessKorea報道,自去年7月日本開始限制對韓國的出口以來,三星仍沒有找到為EUV技術(shù)提供足夠光刻膠的替代供應(yīng)商。到2030年成為全球代工...
臺積電3nm工藝技術(shù)開發(fā)進(jìn)展順利 已經(jīng)有早期客戶參與
近兩年先進(jìn)半導(dǎo)體制造主要是也終于迎來了EUV光刻機(jī),這也使7nm之后的工藝發(fā)展得以持續(xù)進(jìn)行下去。臺積電和三星都對自家工藝發(fā)展進(jìn)行了規(guī)劃,現(xiàn)在兩家已經(jīng)逐步...
三星李在镕親自到歐洲斡旋購買光刻機(jī) 追擊臺積電火力全開
韓國財經(jīng)媒體Business Korea報導(dǎo),三星電子副會長、三星集團(tuán)實際大當(dāng)家李在镕上周到荷蘭拜訪ASML談合作,最重要目的其實是親自催促對方,提前1...
ASML與卡爾蔡司合作研發(fā)EUV光刻系統(tǒng) 2024年問世
半導(dǎo)體制造工藝是集成電路產(chǎn)業(yè)的核心,未來摩爾定律是否還能主宰產(chǎn)業(yè)發(fā)展就得看半導(dǎo)體工藝是否能在10nm以下的工藝?yán)^續(xù)突破了,而在這個問題上,荷蘭ASML公...
密度提升近3倍,高NA EUV光刻機(jī)有何玄機(jī)
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/周凱揚)到了3nm這個工藝節(jié)點之后,單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。為了實現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級工藝,將晶...
三星亦加快先進(jìn)制程布局 今年將推進(jìn)至采用EUV技術(shù)的5/4納米
晶圓代工龍頭臺積電支援極紫外光(EUV)微影技術(shù)的7+納米進(jìn)入量產(chǎn)階段,競爭對手韓國三星晶圓代工(Samsung Foundry)亦加快先進(jìn)制程布局,包...
解讀ASML澄清中芯國際購買協(xié)議事件和EUV與DUV的差異性
近日,中芯國際與ASML達(dá)成12億美元交易購買晶圓生產(chǎn)設(shè)備的消息引發(fā)關(guān)注。針對雙方此次合作,有媒體報道稱“除了 EUV 光刻機(jī),中芯國際幾乎可以買到其他...
三星與臺積電投入巨額資金加速3nm工藝研發(fā) 將只有土豪公司才用得起
根據(jù)臺積電的規(guī)劃,他們今年上半年就會量產(chǎn)5nm EUV工藝,下半年產(chǎn)能會提升到7-8萬片晶圓/月,今年的產(chǎn)能主要是供給蘋果和華為。臺積電的3nm工藝工藝...
目前,三星7nm EUV技術(shù)已經(jīng)量產(chǎn),在2019下半年將完成的韓國華城7nm EUV工藝生產(chǎn)線,將在2020年1月份量產(chǎn),5nm制程也計劃在2020年上...
三星預(yù)計6月底完成5nm EUV生產(chǎn)線 且最快在今年底開始生產(chǎn)5nm工藝
2020年,全球最先進(jìn)的半導(dǎo)體工藝要從7nm升級到5nm了,臺積電最近上半年就開始量產(chǎn)5nm EUV工藝,而三星也加碼投資,預(yù)計6月底完成5nm EUV生產(chǎn)線。
Intel還在努力推進(jìn)7nm工藝,最快2021年量產(chǎn)
7nm是Intel下一代工藝的重要節(jié)點,而且是高性能工藝,其地位堪比現(xiàn)在的14nm工藝,而且它還是Intel首次使用EUV光刻的制程工藝,意義重大。
半導(dǎo)體進(jìn)入周期性疲軟 行業(yè)急需技術(shù)創(chuàng)新
近日,半導(dǎo)體風(fēng)向球、芯片制造業(yè)舉足輕重的公司——應(yīng)用材料(AMAT)公布了截止2018年10月28日的2018 Q4財報,盡管符合市場預(yù)期,但本季營收卻...
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