99精品伊人亚洲|最近国产中文炮友|九草在线视频支援|AV网站大全最新|美女黄片免费观看|国产精品资源视频|精彩无码视频一区|91大神在线后入|伊人终合在线播放|久草综合久久中文

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

關(guān)于EUV機(jī)臺的性能分析和應(yīng)用介紹

lC49_半導(dǎo)體 ? 來源:djl ? 2019-09-04 16:56 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

三星有意一口氣買下10臺單價為1.76億美元的EUV。三星如果真的這樣做,那就會提升其在7nm等先進(jìn)工藝上的領(lǐng)先優(yōu)勢。這一方面是由于EUV設(shè)備是未來集成電路發(fā)展的關(guān)鍵,另一方面則在于三星如果真能買下10臺,那么臺積電、Intel和格芯等廠商則會面臨幾乎未來一年內(nèi)無EUV設(shè)備可買的風(fēng)險。

因為根據(jù)EUV設(shè)備唯一供應(yīng)商——荷蘭ASML的消息顯示,他們每年大概能生產(chǎn)12臺EUV設(shè)備??紤]到三星之前已經(jīng)快對手一步購入了一些EUV設(shè)備,使得韓媒做出了這樣的猜測。但三星的計劃真的得逞嗎?

關(guān)于EUV機(jī)臺的性能分析和應(yīng)用介紹

巨頭們的EUV布局,未來勝負(fù)的關(guān)鍵

在摩爾定律的指導(dǎo)下,經(jīng)歷數(shù)十年發(fā)展的集成電路開始面臨瓶頸:工藝制程進(jìn)入10nm之后,過往的可見光光刻技術(shù)似乎不能應(yīng)對如此小的溝通,因此業(yè)界將目光投向了EUV(極紫外光)光刻。

利用這種波長為13.4nm的光源打造的EUV光刻設(shè)備能夠在晶圓上刻上先進(jìn)工藝所需的電路。于是包括臺積電、三星、Intel和格芯在內(nèi)的幾大先進(jìn)晶圓代工廠都將目光投向了這個設(shè)備,并說出了他們在EUV光刻機(jī)上的布局和規(guī)劃:

首先在臺積電方面,雖然臺積電他們透露已經(jīng)在7nm研發(fā)上使用了7nm工藝,并實現(xiàn)了EUV掃描機(jī)、光罩和印刷的集成。但根據(jù)臺積電聯(lián)席CEO 劉德銀在2016年的某會議上的演講透露,臺積電方面認(rèn)為EUV光刻工藝直到2020年才能有效量產(chǎn)。按照臺積電的路線圖,也就就是說,臺積電會在5nm上采用EUV工藝取代現(xiàn)在的傳統(tǒng)光刻。已達(dá)到在新工藝上提高密度,簡化工藝并降低成本的目的。

來到三星這邊似乎則更為激進(jìn)。在之前的報道中我們看到,三星計劃在7nm制程中采用EUV光刻。在ASML與今年7月的半導(dǎo)體設(shè)備站上宣布突破了250瓦EUV光源的瓶頸后(光源功率(source power)──也就是傳送到掃描機(jī)以實現(xiàn)晶圓曝光的EUV光子(photon)數(shù)量之量測值──直接等同于生產(chǎn)力,芯片制造商一直以來都堅持250瓦的光源功率是達(dá)成每小時125片晶圓(WPH)生產(chǎn)量的必要條件,即production-ready。),三星宣布將會在2018年推出使用EUV等先進(jìn)制造技術(shù)的7nm新工藝。

來到Intel方面,作為制造巨頭,英特爾在先進(jìn)制程方面的引進(jìn)相當(dāng)克制。在早前的制程大會上,在問到EUV的布局上面,英特爾方面表示,從他們方面看來,EUV光刻的產(chǎn)能和配套服務(wù),目前還不能符合量產(chǎn)需求,因此他們會保持對新設(shè)備的關(guān)注,在適合的時候會進(jìn)行公布。

來到格芯方面,在今年六月份,格芯公布了他們的7nm進(jìn)度,根據(jù)他們的Roadmap,他們將會在2018年進(jìn)入7nm,但是這時候用的是DUV技術(shù),根據(jù)他們的布局,會在2019年引入EUV技術(shù)。

三星真能壟斷EUV光刻機(jī)?

BusinessKorea的報道顯示,ASML從2000年開始就投入了EUV光刻的研究。在研發(fā)早期,三星和Intel就對ASML提供了極大的支持。

在2012年8月,三星宣布加入了ASML的客戶聯(lián)合投資計劃。根據(jù)協(xié)議規(guī)定,三星承諾在未來五年內(nèi)(從2012年算起),向ASML的次時代微影技術(shù)投入2.76億歐元,占整個項目13.8億歐元籌款目標(biāo)的15%。與此同時三星向ASML投資了5.03億歐元,取得ASML約3%股權(quán)。

但到了2016年,三星宣布出售價值約6.06億歐元的ASML股權(quán),這占了當(dāng)時ASML整體股權(quán)的1.45%。也就是說三星手上的ASML股權(quán)大約剩下1.55%。

英特爾方面也加入了三星的客戶聯(lián)合投資計劃,根據(jù)當(dāng)時的報道,Intel參與ASML的計劃分為兩期,第一期目標(biāo)為Intel投資5.53億歐元(6.8億美元)協(xié)助ASML開發(fā)18英寸晶圓制造工具,同時Intel將以17億歐元(21億美元)的代價收購ASML公司大約10%的盤前交易已發(fā)行股票。

第二期目標(biāo)還要等ASML股東批準(zhǔn),它包括額外的2.76億歐元(3.4億美元)的有關(guān)EUV技術(shù)的R&D研發(fā)資金,以及價值8.38億歐元(10億美元)的5%盤后交易已發(fā)行股票。屆時Intel將持有ASML 15%股份,整個產(chǎn)權(quán)交易價值約為25億歐元(31億美元)。

作為協(xié)議的一部分,Intel需要提前購買ASML的450mm晶圓及EUV開發(fā)、生產(chǎn)工具。

臺積電方面也同時參與。當(dāng)時消息顯示,臺積電將以8.38億歐元購買ASML的5%股權(quán),并同意在下一代光刻技術(shù)如超紫外技術(shù)和450毫米光刻設(shè)備的研發(fā)上向ASML投資2.76億歐元。不過臺積電在2015年全部處理了ASML 股權(quán),獲利6.95 億美元。

至于格芯方面,從公開信息查找,似乎他們并沒有參與這個計劃。

如果光從股權(quán)上看,則是Intel、三星、臺積電三者按照從先到后,如果這些股份占有董事會的決策權(quán)的話,那么Intel在ASML中的話事權(quán)似乎更大,三星想一下子包攬所有的EUV設(shè)備,是否會獲得來自Intel等的阻撓,這未能盡知。

這些基于股權(quán)話事的說法是來自作者的猜測,不過按照常理,Intel和三星等投入到ASML的計劃和股份中,除了推動EUV的進(jìn)展,共同受益外,在未來競購中處于領(lǐng)先地位,應(yīng)該也是他們前赴后繼投入的一個重要原因。

當(dāng)然,至于隱藏在后面的具體細(xì)則,作者未能得知,希望有知情者透露。

我們不妨從EUV之前的購買狀況來分析一下。

根據(jù)ASML的公開信息顯示, 2016年第四季度賣掉了6臺EUV光刻機(jī),而根據(jù)分析師透露,當(dāng)中的五臺都是賣給了臺積電。

三星方面無疑是最大買主,據(jù)相關(guān)消息透露,他們已經(jīng)購入了超過十臺的EUV設(shè)備,并將其裝設(shè)于韓國華城市的18號生產(chǎn)線(Line 18)全力搶占晶圓代工版圖。

至于英特爾方面,和他們的EUV規(guī)劃一樣,沒有消息透露他們買了多少臺設(shè)備,但在2015年,有消息泄露有美商一口氣買了好幾臺EUV光刻機(jī)。有人就猜測那是Intel。

至于格芯方面的具體布局依然是沒有消息源可尋。

正如開頭所說,ASML今年的EUV產(chǎn)能是12臺,全部銷售一空,但他們在明年會將產(chǎn)能提升到24臺。但根據(jù)ASML在7月發(fā)布的報告顯示,他們擠壓的EUV訂單已經(jīng)達(dá)到了21臺??紤]到現(xiàn)在晶圓廠的競爭情況,未來的競爭肯定會加劇的。

綜上所述,三星想一口氣買下所有的EUV光刻機(jī),也許只是一個大膽的設(shè)想。不過考慮三星之前斥巨資壟斷了OLED生產(chǎn)關(guān)鍵設(shè)備供應(yīng)商CanonTokki多年的產(chǎn)能,可以看出三星再次做出這種事也有很大可能。通過內(nèi)存瘋長掙得盤滿缽滿的韓國巨頭現(xiàn)在真可謂是財大氣粗,況且對ASML來說,Business is business,和誰不是做生意呢?

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 臺積電
    +關(guān)注

    關(guān)注

    44

    文章

    5755

    瀏覽量

    169861
  • 晶圓
    +關(guān)注

    關(guān)注

    53

    文章

    5165

    瀏覽量

    129829
  • EUV
    EUV
    +關(guān)注

    關(guān)注

    8

    文章

    609

    瀏覽量

    87259
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    同步電機(jī)步進(jìn)運(yùn)動性能分析

    對同步電動機(jī)采用步進(jìn)控制,模擬仿真該動態(tài)下電機(jī)各種參數(shù)對性能的影響,同時提出如何選取初值和確定合適的參數(shù)。 純分享帖,需要者可點(diǎn)擊附件免費(fèi)獲取完整資料~~~*附件:同步電機(jī)步進(jìn)運(yùn)動性能分析.pdf【免責(zé)
    發(fā)表于 06-20 17:38

    永磁體磁角度偏差對電機(jī)性能影響的分析

    、諧波、齒槽轉(zhuǎn)矩的影響進(jìn)行分析,對高精度、高功率密度電機(jī)的研究開發(fā)以及生產(chǎn)過程中保持產(chǎn)品質(zhì)量的一致性有一定積極意義。 點(diǎn)擊附件查看全文*附件:永磁體磁角度偏差對電機(jī)性能影響的分析.pdf
    發(fā)表于 03-25 15:37

    N9020A 頻譜分析介紹性能、特點(diǎn)及應(yīng)用

    的理想選擇。本文將詳細(xì)介紹 N9020A 的性能特點(diǎn)、主要功能以及實際應(yīng)用場景,幫助讀者了解其在高頻測試中的重要作用。 一、N9020A 頻譜分析儀概述 N9020A 頻譜分析儀屬于是
    的頭像 發(fā)表于 03-03 11:49 ?647次閱讀
    N9020A 頻譜<b class='flag-5'>分析</b>儀<b class='flag-5'>介紹</b>:<b class='flag-5'>性能</b>、特點(diǎn)及應(yīng)用

    EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    ? EUV光刻有多強(qiáng)?目前來看,沒有EUV光刻,業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)也是歷史上最復(fù)雜、最昂貴的機(jī)器之一。 EUV光刻有哪些瓶頸?
    的頭像 發(fā)表于 02-18 09:31 ?1029次閱讀
    <b class='flag-5'>EUV</b>光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    調(diào)制信號的性能分析

    調(diào)制信號的性能分析涉及多個方面,以下是對調(diào)制信號性能分析介紹: 一、調(diào)制信號的基礎(chǔ) 調(diào)制是將信息編碼到載波信號的過程,包括改變載波的幅度、
    的頭像 發(fā)表于 01-21 09:23 ?972次閱讀

    ES60S與半自動燒錄機(jī)臺配合燒錄

    電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《ES60S與半自動燒錄機(jī)臺配合燒錄.pdf》資料免費(fèi)下載
    發(fā)表于 01-16 15:39 ?1次下載
    ES60S與半自動燒錄<b class='flag-5'>機(jī)臺</b>配合燒錄

    ES-linkII、ES-linkII-PRO與半自動燒錄機(jī)臺配合燒錄

    電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《ES-linkII、ES-linkII-PRO與半自動燒錄機(jī)臺配合燒錄.pdf》資料免費(fèi)下載
    發(fā)表于 01-16 15:24 ?2次下載
    ES-linkII、ES-linkII-PRO與半自動燒錄<b class='flag-5'>機(jī)臺</b>配合燒錄

    清洗EUV掩膜版面臨哪些挑戰(zhàn)

    本文簡單介紹了極紫外光(EUV)掩膜版的相關(guān)知識,包括其構(gòu)造與作用、清洗中的挑戰(zhàn)以及相關(guān)解決方案。
    的頭像 發(fā)表于 12-27 09:26 ?699次閱讀

    日本首臺EUV光刻機(jī)就位

    據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日報道,Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司,已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個階段進(jìn)行安裝,設(shè)備安裝預(yù)計在
    的頭像 發(fā)表于 12-20 13:48 ?922次閱讀
    日本首臺<b class='flag-5'>EUV</b>光刻機(jī)就位

    FIB機(jī)臺的內(nèi)部結(jié)構(gòu)

    簡單介紹FIB機(jī)臺的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。?? 首先,讓我們看一下FIB機(jī)臺的外觀圖 接下來,我們將FIB從中線剖開,是下圖這個樣子: 什么是雙束聚焦離子束顯微鏡? 即同時具有電子束與離子束。 離子束(FIB
    的頭像 發(fā)表于 12-18 09:20 ?880次閱讀
    FIB<b class='flag-5'>機(jī)臺</b>的內(nèi)部結(jié)構(gòu)

    機(jī)臺架環(huán)境試驗箱采購指南

    在電機(jī)制造和研發(fā)領(lǐng)域,電機(jī)臺架環(huán)境試驗箱是不可或缺的重要設(shè)備。它不僅能夠幫助工程師全面評估電機(jī)在不同環(huán)境下的性能表現(xiàn),還能為電機(jī)的設(shè)計優(yōu)化、質(zhì)量控制和故障診斷提供寶貴的數(shù)據(jù)支持。因此,選擇一款合適的電機(jī)臺架環(huán)境試驗箱至關(guān)重要。本
    的頭像 發(fā)表于 12-13 09:42 ?617次閱讀
    電<b class='flag-5'>機(jī)臺</b>架環(huán)境試驗箱采購指南

    ASM推出全新PE2O8碳化硅外延機(jī)臺

    全新推出的PE2O8碳化硅外延機(jī)臺是對行業(yè)領(lǐng)先的ASM單晶片碳化硅外延機(jī)臺產(chǎn)品組合(包含適用于6英寸晶圓的 PE1O6 和適用于8英寸晶圓的 PE1O8)的進(jìn)一步增強(qiáng)。該機(jī)臺采用獨(dú)立雙腔設(shè)計,兼容6
    發(fā)表于 10-17 14:21 ?301次閱讀
    ASM推出全新PE2O8碳化硅外延<b class='flag-5'>機(jī)臺</b>

    ASM推出全新PE2O8碳化硅外延機(jī)臺

    全新推出的PE2O8碳化硅外延機(jī)臺是對行業(yè)領(lǐng)先的ASM單晶片碳化硅外延機(jī)臺產(chǎn)品組合(包含適用于6英寸晶圓的 PE1O6 和適用于8英寸晶圓的 PE1O8)的進(jìn)一步增強(qiáng)。該機(jī)臺采用獨(dú)立雙腔設(shè)計,兼容6
    發(fā)表于 10-17 14:11 ?549次閱讀
    ASM推出全新PE2O8碳化硅外延<b class='flag-5'>機(jī)臺</b>

    日本大學(xué)研發(fā)出新極紫外(EUV)光刻技術(shù)

    近日,日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)院大學(xué)(OIST)發(fā)布了一項重大研究報告,宣布該校成功研發(fā)出一種突破性的極紫外(EUV)光刻技術(shù)。這一創(chuàng)新技術(shù)超越了當(dāng)前半導(dǎo)體制造業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)界限,其設(shè)計的光刻設(shè)備能夠采用更小巧的EUV光源,并且功耗僅為傳統(tǒng)EUV
    的頭像 發(fā)表于 08-03 12:45 ?1639次閱讀

    加速科技ST2500EX測試機(jī)臺再獲封測廠超千萬訂單

    近日,加速科技自主研發(fā)的ST2500EX測試機(jī)臺再次斬獲測試廠超千萬訂單! ST2500EX測試機(jī)臺以其卓越的性能和可靠的穩(wěn)定性備受市場認(rèn)可與青睞。作為加速科技的核心產(chǎn)品之一,性能成熟
    的頭像 發(fā)表于 07-23 09:48 ?624次閱讀
    加速科技ST2500EX測試<b class='flag-5'>機(jī)臺</b>再獲封測廠超千萬訂單