99精品伊人亚洲|最近国产中文炮友|九草在线视频支援|AV网站大全最新|美女黄片免费观看|国产精品资源视频|精彩无码视频一区|91大神在线后入|伊人终合在线播放|久草综合久久中文

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

日本首次批準了向韓國出口EUV光刻膠

cMdW_icsmart ? 來源:芯智訊 ? 2019-12-09 13:56 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

自今年7月4日,日本正式對韓國限制光刻膠、氟化聚酰亞胺和高純度氟化氫等關(guān)鍵材料對韓國的出口之后,目前已經(jīng)過去了一個多月的時間。按照規(guī)定,韓國進口日本這三種原料需要提前90天申請。也就是說,按照流程,韓國企業(yè)可能還需要兩個月的時間才能夠有可能獲得日本的供應(yīng)。

不過,近日據(jù)外媒報道稱,日本近期首次批準了向韓國出口EUV光刻膠。但是,日本針對韓國的出口限制仍未改變。目前尚不清楚三星、SK海力士等韓國芯片大廠是否已經(jīng)從日本獲得了部分EUV光刻膠的供應(yīng)。

不過,據(jù)報道,三星近日從歐洲獲得了EUV光刻膠的供應(yīng),據(jù)悉三星從比利時一家公司獲得了穩(wěn)定的光刻膠供應(yīng),可以使用6到10個月。

盡管三星方面沒有透露具體的公司名字,但出售EUV光刻膠的應(yīng)該是日本JSR公司與比利時微電子中心IMEC合作成立的公司,2016年成立,主要由JSR比利時比利時子公司持股。

資料顯示,目前日本的JSR、東京應(yīng)化、日本信越與富士電子材料占據(jù)了全球光刻膠市場72%的市場份額,其中JSR一家就占據(jù)了全球28%的光刻膠市場。值得一提的是,JSR也是含氟聚酰亞胺的重要供應(yīng)商。

當(dāng)然,三星在這方面依然是利用了日本政策的漏洞——日本的政策限制只針對日本國土上的公司,日本廠商的海外公司對韓國出售產(chǎn)品是不受限制的。

從另一個角度來說,日本制定這樣的政策限制對本國企業(yè)并不是什么好事,不僅影響本土銷售,還會迫使這些公司加速向海外轉(zhuǎn)移以繞過政策限制,畢竟韓國公司一年進口的半導(dǎo)體材料價值50億美元。

值得一提的的是,8月9日消息,據(jù)日本經(jīng)濟新聞報導(dǎo),專注于氟材料長達一個世紀的森田化學(xué)近期也受到了日本對韓出口限貿(mào)管制的影響。社長森田康夫表示,由于強化出口管理,日本企業(yè)(面向韓國的高純度氟化氫出口)的份額有可能下降,森田化學(xué)將在中國工廠啟動高純度氟化氫生產(chǎn)以便向韓國供貨。

資料顯示,森田化學(xué)所指的中國浙江的這家工廠全稱是浙江森田新材料有限公司,于2003年11月28日成立,位于浙江省金華市武義縣青年胡處工業(yè)區(qū),該廠年生產(chǎn)20,000噸的無水氟化氫。由森田化學(xué)工業(yè)株式會社、浙江三美化工股份有限公司共同出資成立,雙方占比各50%。

森田康夫表示,在看到半導(dǎo)體生產(chǎn)從韓國向中國轉(zhuǎn)移的趨勢后,森田化學(xué)兩年前便開始推進這一計劃。2019年內(nèi)將在中國浙江省的工廠啟動高純度氟化氫生產(chǎn)。

除了三星之外,韓國的SK海力士、LGD等公司也在積極的尋找日本供應(yīng)商的海外工廠以及日本之外的相關(guān)材料供應(yīng)。

此外,為應(yīng)對日本制裁,韓國政府此前也宣布了巨額投資計劃,將在未來7年里投資7.8萬億韓元(約合65億美元或者449億人民幣)研發(fā)國產(chǎn)半導(dǎo)體材料及裝備,減少對日本的依賴。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 三星電子
    +關(guān)注

    關(guān)注

    34

    文章

    15888

    瀏覽量

    182372
  • EUV
    EUV
    +關(guān)注

    關(guān)注

    8

    文章

    609

    瀏覽量

    87259
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    339

    瀏覽量

    30963

原文標題:傳三星從比利時獲得EUV光刻膠

文章出處:【微信號:icsmart,微信公眾號:芯智訊】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    國產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動

    量產(chǎn)到ArF浸沒式驗證,從樹脂國產(chǎn)化到EUV原料突破,一場靜默卻浩蕩的技術(shù)突圍戰(zhàn)已進入深水區(qū)。 ? 例如在248nm波長的KrF光刻膠武漢太紫微的T150A
    的頭像 發(fā)表于 07-13 07:22 ?2848次閱讀

    針對晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié),其效果直接影響芯片性能與良率。同時,光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
    的頭像 發(fā)表于 06-25 10:19 ?230次閱讀
    針對晶圓上芯片工藝的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關(guān)鍵環(huán)節(jié)。銅布線在制程中廣泛應(yīng)用,但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對銅產(chǎn)生腐蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精準測量對確保 ARRAY 制程工藝精度
    的頭像 發(fā)表于 06-18 09:56 ?229次閱讀
    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導(dǎo)體制造過程中,光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)雖在光刻膠剝離方面表現(xiàn)出色,但因其高含量使用帶來的成本、環(huán)保等問題備受關(guān)注。同時,光刻圖形的精準
    的頭像 發(fā)表于 06-17 10:01 ?246次閱讀
    低含量 NMF <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液和制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    ? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對器件性能產(chǎn)生負面影響。同時,光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
    的頭像 發(fā)表于 06-14 09:42 ?304次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時,精準測量光刻圖形對把控工藝質(zhì)量意義重大,白光干涉儀為此提供
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?245次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?2350次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性

    光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

    光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料,在整個電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹脂決定光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能,增感劑有助于提高
    的頭像 發(fā)表于 12-19 13:57 ?998次閱讀

    光刻膠的主要技術(shù)參數(shù)

    分辨率(resolution)。區(qū)別硅片表面相鄰圖形特征的能力。一般用關(guān)鍵尺寸(CD,Critical Dimension)來衡量分辨率。形成的關(guān)鍵尺寸越小,光刻膠的分辨率越好。
    的頭像 發(fā)表于 11-15 10:10 ?2988次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的主要技術(shù)參數(shù)

    光刻膠清洗去除方法

    光刻膠作為掩模進行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
    的頭像 發(fā)表于 11-11 17:06 ?1695次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>清洗去除方法

    一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場前景展望

    光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán),而光刻膠,又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展,對微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強,光刻膠的需求也水漲船高,在微電子制造和納米技
    的頭像 發(fā)表于 11-11 10:08 ?1920次閱讀
    一文解讀<b class='flag-5'>光刻膠</b>的原理、應(yīng)用及市場前景展望

    一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠

    共讀好書關(guān)于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球,領(lǐng)取公眾號資料
    的頭像 發(fā)表于 11-01 11:08 ?2497次閱讀

    光刻膠的使用過程與原理

    本文介紹光刻膠的使用過程與原理。
    的頭像 發(fā)表于 10-31 15:59 ?1604次閱讀

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠

    在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘臺或者烤設(shè)備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進行2-3次。本文簡要介紹SU-8
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:54 ?820次閱讀

    如何成功的旋涂微流控SU-8光刻膠?

    在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的過程中,需要把PDMS或SU-8光刻膠根據(jù)所需要的厚度來選擇合適的旋涂轉(zhuǎn)速并且使PDMS或SU-8涂布均勻化。 如何成功的旋涂微流控SU-
    的頭像 發(fā)表于 08-26 14:16 ?867次閱讀