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從ASML年收入140億歐元,看光刻機市場格局

21克888 ? 來源:電子發(fā)燒友 ? 作者:程文智 ? 2021-01-22 09:27 ? 次閱讀
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電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/程文智)1月20日,ASML發(fā)布了其第四季度的財報,銷售額達(dá)到了43億歐元,全年凈銷售額140億歐元,毛利率48.6%,凈利潤金額36億歐元。

據(jù)ASML的CFO Roger Dassen介紹,2020年,ASML共售出了258臺光刻系統(tǒng),包括236臺新系統(tǒng)和22臺二手系統(tǒng),其中去年出貨了31臺EUV設(shè)備,比前年多了5臺。在該公司100多億歐元的設(shè)備銷售收入中,EUV設(shè)備的收入占了43%。不過沒有一臺EUV產(chǎn)品進(jìn)入中國,因為荷蘭政府在美國的壓力下拒絕了ASML在中國的銷售許可。

圖:ASML的CFO Roger Dassen在介紹該公司Q4及2020年全年的財務(wù)概況。(來源:ASML)

ASML一家獨大

ASML 總裁兼首席執(zhí)行官Peter Wennink認(rèn)為,從銷售和利潤來看,ASML在2020年實現(xiàn)了強勁增長。他預(yù)計2021年在強勁的邏輯市場需求和存儲業(yè)務(wù)持續(xù)復(fù)蘇的推動下,光刻機市場還將繼續(xù)保持增長勢頭。ASML預(yù)期2021年第一季度的銷售額在39億歐元和41億歐元之間,毛利率在50%和51%之間,研發(fā)投入約6.2億歐元,銷售及管理費用約1.65億歐元。

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圖:ASML出售的光刻機種類及數(shù)量。(數(shù)據(jù)來源:ASML)


雖然ASML沒有把最先進(jìn)的EUV光刻機出售給中國,但可以購買其他DUV的設(shè)備,比如晶瑞股份近期順利購得了ASML XT 1900Gi型光刻機一臺,且該設(shè)備已經(jīng)于2021年1月19日運抵蘇州并成功搬入公司高端光刻機膠研發(fā)實驗室,用于28nm光刻膠的研究。此前武漢弘芯也曾購買了一臺1980Di光刻機,雖然沒有進(jìn)行生產(chǎn),但設(shè)備是買回來了。

因此,ASML仍然在中國獲得了業(yè)績的增長,中國市場占其2020年銷售額的18%,高于2019年同期的12%,幫助ASML在第四季度超過了盈利預(yù)期。有分析師預(yù)測2021年該公司的利潤也將超過預(yù)期。

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圖:2016年至2020年ASML的財務(wù)情況。(數(shù)據(jù)來源:ASML)


據(jù)統(tǒng)計,ASML是全球唯一EUV光刻機的供應(yīng)商,而且在DUV領(lǐng)域也擁有絕對的優(yōu)勢。當(dāng)然使用EUV設(shè)備的企業(yè)也需要有較高的技術(shù)才行,目前臺積電、三星電子和英特爾都已經(jīng)采購了該設(shè)備,幾年前曾經(jīng)傳言中芯國際有下單,不過由于近年來中美關(guān)系的惡化,美國對中國科技產(chǎn)業(yè)的打壓,限制了該設(shè)備的交貨。


據(jù)關(guān)牮維護(hù)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈共享數(shù)據(jù)庫統(tǒng)計,目前ASML的光刻機產(chǎn)品最為全面,有EUV、ArFi、KrF及i-line四種類型的產(chǎn)品。

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圖:ASML主要產(chǎn)品參數(shù)。(數(shù)據(jù)來源:關(guān)牮維護(hù)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈共享數(shù)據(jù)庫)

ASML之外的光刻機企業(yè)

在光刻機領(lǐng)域雖然ASML一家獨大,但是除了它之外,還有其他幾家企業(yè)也做得還不錯,比如日本的尼康和佳能,以及開始成長的中國光刻機企業(yè),比如上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司等。

曾經(jīng)的王者---尼康

其實在光刻設(shè)備領(lǐng)域,尼康和佳能此前曾經(jīng)席卷世界市場,但是在與ASML的競爭中敗下陣來,在EUV開發(fā)方面全面掉隊。而在半導(dǎo)體領(lǐng)域,隨著制造流程變得越來越困難,贏家通吃的傾向不斷加強,以EUV為契機的代際更迭還將加速設(shè)備企業(yè)的優(yōu)勝劣汰。

據(jù)國際半導(dǎo)體設(shè)備與材料協(xié)會(SEMI)和日本半導(dǎo)體制造裝置協(xié)會(SEAJ)的統(tǒng)計,日本造的半導(dǎo)體制造設(shè)備的市場份額2019年為31.3%,在過去約20年內(nèi)徘徊在3成左右。 尼康的光刻機曾占據(jù)全球第一的份額,現(xiàn)今的光刻機巨頭ASML有十多年時間一直被尼康壓著打,但勢易時移,尼康光刻機目前在全球的份額已經(jīng)降到大約7%。 2002年尼康陷入經(jīng)營困境之際,因為它與英特爾關(guān)系比較密切,英特爾以購買尼康可轉(zhuǎn)債的形式承擔(dān)了100億日元開發(fā)費,幫助尼康挺過了困難時期。

但在EUV光刻技術(shù)應(yīng)用的前夜,也就是整個光刻機領(lǐng)域碰壁于157nm波長時,ASML憑借臺積電的“浸入式光刻技術(shù)”方案,率先破壁,將光源波長一舉從193nm縮短到132nm,戰(zhàn)勝仍沿用“干式”微影技術(shù)方案的尼康,搶奪了尼康大部分市場份額。2009年,ASML占據(jù)70%的市場份額,尼康則從全球第一退居第二。

據(jù)日媒報道,尼康已經(jīng)停止了EUV光刻機的研發(fā)。這背后其實有尼康揮之不去的無奈。 EUV光刻技術(shù)的研發(fā)由英特爾和美國能源部共同發(fā)起成立的EUV LLC組織主導(dǎo),匯聚了美國頂級的研究資源。英特爾最初曾邀請尼康和ASML加入,但美國政府擔(dān)心高端技術(shù)落入外國公司手中,反對這兩家公司加入。ASML許下一大堆承諾后,得以留在EUV LLC組織里,尼康則直接被拒絕。

尼康失去了未來的門票,從此再無翻身機會,留下ASML獨霸EUV光刻機市場。

由于尼康和英特爾的親密合作關(guān)系,其70%到90%的光刻機都是英特爾買單,但英特爾目前也是事事不順心,芯片工藝制程迭代進(jìn)展緩慢,已經(jīng)考慮將制造業(yè)務(wù)打包賣給臺積電,不過之前遭到了激進(jìn)投資者的反對。 現(xiàn)在英特爾CEO即將走馬上任,技術(shù)出身的新CEO對英特爾的工藝技術(shù)可能會有新的規(guī)劃,倒是尼康或許還能得以繼續(xù)與英特爾緊密合作,不過由于5nm等更加先進(jìn)的工藝,必須用要EUV光刻機,尼康要想持續(xù)維持與英特爾的合作,還是需要研發(fā)更加先進(jìn)的設(shè)備才行。

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圖:尼康2020年11月5日發(fā)布的財報中關(guān)于光刻機的銷售量。(數(shù)據(jù)來源:尼康)


從尼康在2020年11月5日發(fā)布的財報中,可以看到雖然尼康很久沒有推出新的光刻機產(chǎn)品了,但其銷量其實有在逐年增長,比如2018年Q3季度的半導(dǎo)體光刻設(shè)備的銷量為30臺;2019年是41臺;到2020年增長到了45臺。

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圖:尼康目前在售的光刻機型號及參數(shù)。(數(shù)據(jù)來源:關(guān)牮維護(hù)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈共享數(shù)據(jù)庫)

間隔7年后,佳能更新其半導(dǎo)體光刻機設(shè)備

與尼康的堅持不同,佳能其實早早地就放棄了高端光刻設(shè)備的研發(fā)。不過最近中美關(guān)系越來越緊張,之前有媒體報道說中國欲聯(lián)手尼康和佳能研發(fā)新的不包含美國技術(shù)的先進(jìn)光刻設(shè)備,具體不知道有沒有真的實施。但是最近佳能在光刻設(shè)備的動作確實變得頻繁了。

時隔7年之后,佳能更新了其面向小型基板的半導(dǎo)體光刻機,提高了生產(chǎn)效率。據(jù)日經(jīng)中文網(wǎng)報道,佳能將于2021年3月發(fā)售新型光刻機“FPA-3030i5a”,該設(shè)備使用波長為365納米的“i線”光源,支持直徑從2英寸(約5厘米)到8英寸(約20厘米)的小型基板。分辨率為0.35微米,更新了測量晶圓位置的構(gòu)件和軟件。與以往機型相比,生產(chǎn)效率提高約17%。

除了目前主流的硅晶圓之外,新機型還可以提高小型晶圓較多的化合物半導(dǎo)體的生產(chǎn)效率。包括功率器件耐壓性等出色的碳化硅(SiC),以及作為5G相關(guān)半導(dǎo)體材料而受到期待的氮化鎵(GaN)等。隨著純電動汽車和物聯(lián)網(wǎng)的普及,高性能半導(dǎo)體的需求有望增加。

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圖:佳能最近的財報顯示器半導(dǎo)體光刻機銷量在大幅增長。(數(shù)據(jù)來源:佳能)

佳能還致力于研發(fā)“后期工序”(制作半導(dǎo)體芯片之后的封裝加工等)中使用的光刻機。2020年7月推出了用于515毫米×510毫米大型基板的光刻機。以此來獲取把制成的多個芯片排列在一起、一次性進(jìn)行精細(xì)布線和封裝的需求。

從佳能最近的財報可以看到,其半導(dǎo)體光刻機設(shè)備2020年第三季度的銷量是31臺,預(yù)計2020年全年的銷售量是124臺,與2019年的84臺相比,增長了47.6%。

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圖:佳能在售的光刻機型號及參數(shù)。(數(shù)據(jù)來源:關(guān)牮維護(hù)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈共享數(shù)據(jù)庫)

中國光刻機企業(yè)異軍突起

中國政府已經(jīng)將培育半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)作為其1.4萬億美元的五年經(jīng)濟(jì)計劃的支柱,此前已經(jīng)向該行業(yè)投資了1500億美元。盡管中國工廠生產(chǎn)了世界上很多電子設(shè)備,但它們主要負(fù)責(zé)總裝,而包括半導(dǎo)體在內(nèi)的許多高科技部件仍來自國外。去年,中國從國外進(jìn)口了大約3000億美元的半導(dǎo)體。 由于美國的限制,中國現(xiàn)在很難購買了含有美國技術(shù)的先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備,因此中國目前在大力投資半導(dǎo)體,及半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)鏈。在光刻機領(lǐng)域,上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司就是一個典型的代表,它目前能實現(xiàn)的工藝節(jié)點為90nm。

據(jù)DIGITIMES報道,上海微電子有望在2021年四季度交付第二代深紫外光(DEV)光刻機,該設(shè)備可使用28納米工藝生產(chǎn)芯片,并使用國產(chǎn)和日本組件,為國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)擺脫對美國依賴邁出的重要一步。

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圖:上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司可以提供的光刻機產(chǎn)品型號及參數(shù)。(數(shù)據(jù)來源:關(guān)牮維護(hù)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈共享數(shù)據(jù)庫)


上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司成立于2002年,致力于半導(dǎo)體裝備、泛半導(dǎo)體裝備、高端智能裝備的開發(fā)、設(shè)計、制造、銷售及技術(shù)服務(wù),公司設(shè)備廣泛應(yīng)用于集成電路前道、先進(jìn)封裝、FPD面板、MEMS、LED等制造領(lǐng)域。

根據(jù)科塔學(xué)術(shù)的資料,上海微電子是集成電路裝備專項(02專項)參與單位之一,“十一五”至今,承擔(dān)國家02重大科技任務(wù)專項“90nm光刻機樣機研制”、“浸沒光刻機關(guān)鍵技術(shù)預(yù)研”等項目,經(jīng)過十幾年的原始創(chuàng)新和集成創(chuàng)新,在光刻機核心領(lǐng)域與關(guān)鍵技術(shù)方面取得了重大突破。 2017年10月,上海微電子承擔(dān)的02重大科技專項“90nm光刻機樣機研制”任務(wù)通過了專家組現(xiàn)場測試,2018年3月,90nm光刻機項目通過正式驗收。

“十三五”期間,上海微電子裝備正在承擔(dān)國家科技重大專項的標(biāo)志性項目“28nm節(jié)點浸沒式分布重復(fù)投影光刻機研發(fā)成功并實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化”等。 也就是說,上海微電子的28nm光刻機項目,早在5年前就已經(jīng)定為研發(fā)目標(biāo),預(yù)計2021年能夠交貨。

結(jié)語

在半導(dǎo)體光刻機領(lǐng)域,荷蘭ASML和日本的佳能、尼康3家企業(yè)占據(jù)了全球9成以上的份額。在促進(jìn)提升半導(dǎo)體性能的精細(xì)化領(lǐng)域,可使用短波長的“EUV”光源的ASML目前處于優(yōu)勢地位。但由于中美關(guān)系的不確定性因素和中國的大力投入,尼康和佳能的參與積極性好像又開始被激發(fā)了,加上中國企業(yè)的參與,未來的半導(dǎo)體光刻機市場或許將會有新的故事發(fā)生,格局也可能發(fā)生新的變化。

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