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      標簽　>　euv

      euv

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      EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了，EUV已經遇到了一些延遲，將技術從一個節(jié)點推向下一個階段，本單元詳細介紹了EUV光刻機，EUV光刻機技術的技術應用，EUV光刻機的技術、市場問題，國產euv光刻機發(fā)展等內容。

      文章：595個 瀏覽：87258次 帖子：0個

      euv資訊

      3nm制程工藝或將迎來希望

      2018-11-01 標簽：光刻機EUV 4680 0

      全球三大晶圓代工廠今年將導入極紫外光微影技術 家登EUV光罩盒將大出貨

      全球三大晶圓代工廠臺積電、英特爾、三星，最快將在2019年導入極紫外光微影技術（EUV），值得注意的是，全球可提供EUV光罩盒的業(yè)者只有兩家，家登是其中...

      2019-01-03 標簽：臺積電晶圓EUV 4676 0

      2021年臺積電和三星將需要ASML供應多少臺EUV光刻機

      2021年臺積電和三星將需要ASML供應多少臺EUV光刻機

      2020-12-30 標簽：三星電子臺積電光刻機 4611 0

      什么是EUV***？

      需要明確什么是EUV光刻機。它是一種采用極紫外線光源進行曝光的設備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機相比，EUV光刻機可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級別，從...

      2023-05-22 標簽：光刻機EUV7nm芯片 4580 0

      中國半導體產業(yè)的十大技術“瓶頸”解析

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      半導體技術是現代電子科技的核心，它的發(fā)展水平直接體現了一個國家的科技實力。近年來，我國半導體產業(yè)雖然取得了長足進步，但仍有一些核心技術尚未完全掌握。本文...

      2024-06-06 標簽：芯片半導體封裝EUV 4550 0

      ASML的EUV***研發(fā)歷程

      asml是euv技術開發(fā)的領先者。asml公司是半導體領域光刻機生產企業(yè)的領頭羊，也是全球市場占有率最大的光刻機生產企業(yè)。2012年，asml推出了世界...

      2023-06-08 標簽：光刻機EUVASML 4523 0

      為何EUV光刻機會這么耗電呢

      EUV（極紫外光）光刻機，是目前半導體產業(yè)已投入規(guī)模生產使用的最先進光刻機類型。近來，有不少消息都指出，EUV光刻機耗電量非常大，甚至它還成為困擾臺積電...

      2021-02-14 標簽：晶圓光刻機EUV 4490 0

      ASML一騎絕塵，EUV光刻機出貨過半！國產半導體設備發(fā)展提速！

      電子發(fā)燒友網報道（文/李彎彎）半導體設備廠商目前的銷售情況如何？今年以來，芯片產能不足之下全球各地加快建廠擴產，這帶動半導體設備廠商銷售持續(xù)高增長。近日...

      2021-10-22 標簽：半導體光刻機EUV 4490 0

      臺積電張忠謀細數半導體十大發(fā)明

      臺積電(2330)創(chuàng)辦人張忠謀今在國際半導體展(SEMICON TAIWAN)IC60大師論壇，以《半導體業(yè)的重要創(chuàng)新看半導體公司的盛衰》為題，指出晶圓...

      2018-09-06 標簽：臺積電AIEUV 4476 0

      美光公布DRAM和NANDFlash的最新技術線路圖 將持續(xù)推進1ZnmDRAM技術及研發(fā)128層3DNAND

      作為全球知名的存儲器廠商，近日，美光召開了2019年投資者大會，在大會中上，美光展示了DRAM和NAND Flash下一代技術的發(fā)展以及規(guī)劃。

      2019-05-24 標簽：DRAMNAND美光 4467 0

      ASML放棄EUV光罩防塵薄膜研發(fā)并技轉日本三井化學

      ASML將中斷EUV Pellicle（光罩防塵薄膜）技術的研發(fā)，并將該技術轉讓與日本。

      2019-06-09 標簽：EUVASML 4462 0

      全球第一家！臺積電官宣2nm工藝！

      這幾年，雖然摩爾定律基本失效或者說越來越遲緩，但是在半導體工藝上，幾大巨頭卻是殺得興起。Intel終于進入10nm工藝時代并將在后年轉入7nm，臺積電、...

      2019-06-17 標簽：半導體臺積電晶體管 4443 0

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      2019-02-26 標簽：半導體臺積電EUV 4414 0

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      臺積電供應鏈管理論壇高度強調未來前景正面樂觀，外資買盤昨天重新點火，推升股價大漲6元，以312元作收，市值重回8.09兆元，外資轉為買超1萬4，561張。

      2019-12-06 標簽：臺積電晶圓euv 4388 0

      半導體技術微縮，新材料、材料純度和污染控制扮演重要角色

      然而，真正讓芯片效能提升的關鍵，并非只是晶體管越做越小，也可以用 3D 制程取代 2D，或是導入新材料來提升性能，像是 1997 年 IBM 在半導體制...

      2019-04-04 標簽：半導體晶圓EUV 4367 0

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      光刻機是當前半導體芯片產業(yè)的核心設備，其技術含量和價值含量都很高。那么euv光刻機用途是什么呢？下面我們就一起來看看吧。 光刻設備涉及系統(tǒng)集成、精密光學...

      2022-07-10 標簽：光刻機EUV 4324 0

      英特爾確定的7納米制程會支援新一代EUV技術

      隨著晶圓代工廠臺積電及記憶體廠三星電子的7納米邏輯制程均支援極紫外光（EUV）微影技術，并會在2019年進入量產階段，半導體龍頭英特爾也確定正在開發(fā)中的...

      2019-01-03 標簽：英特爾EUV 4287 0

      國產光刻膠市場前景 國內廠商迎來發(fā)展良機

      半導體光刻膠用光敏材料仍屬于“卡脖子”產品，海外進口依賴較重，不同品質之間價 格差異大。以國內 PAG 對應的化學放大型光刻膠（主要是 KrF、ArF ...

      2022-11-18 標簽：半導體EUV光刻膠 4283 0

      臺積電EUV設備明年將超50臺 劍橋大學繼續(xù)和華為進行5G合作

      據臺灣媒體消息，全年臺積電已向ASML下單量約15-16臺，而2021年至少13臺，估計全年需求約可達16-17臺。臺積電在先進制程的優(yōu)勢逐漸擴大，與研...

      2020-11-16 標簽：臺積電華為EUV 4264 0

      鴻蒙OS的合作伙伴中，京東排在第一位

      華為并非三星和微軟，令人欣慰的是，在華為宣布鴻蒙系統(tǒng)上線后，生態(tài)圈里已吸引了京東、銀聯、百度地圖等120多家企業(yè)的加盟。

      2021-01-11 標簽：光刻機EUV5nm 4237 0

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