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標(biāo)簽 > 芯片制造
《芯片制造》是2010年8月1日電子工業(yè)出版社出版的圖書,作者是(美國(guó))贊特。本書介紹了半導(dǎo)體工藝的制作制程、誕生、發(fā)展、半導(dǎo)體材料和化學(xué)品的性質(zhì)等方面闡述。
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中國(guó)電科宣布已實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)離子注入機(jī)28納米工藝制程全覆蓋
離子注入機(jī)是芯片制造中的關(guān)鍵裝備。在芯片制造過(guò)程中,需要摻入不同種類的元素按預(yù)定方式改變材料的電性能,這些元素以帶電離子的形式被加速至預(yù)定能量并注入至特...
芯片制造和傳統(tǒng)IC封裝的生產(chǎn)有何不一樣
DUV是深紫外線,EUV是極深紫外線。從制程工藝來(lái)看,DUV只能用于生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。而只有EUV能滿足7nm晶圓制造,并且還可以向5nm、3n...
如何應(yīng)對(duì)芯片制造中的網(wǎng)絡(luò)威脅問(wèn)題?
云本身包含最先進(jìn)的安全性,但這并不是全部?!按蠖鄶?shù)晶圓廠都會(huì)說(shuō)數(shù)據(jù)安全(云與本地)是最大的問(wèn)題。我相信大型提供商(AWS/Azure 等)的云數(shù)據(jù)安全比...
2023-08-18 標(biāo)簽:芯片網(wǎng)絡(luò)安全芯片制造 1165 0
本文論述了芯片制造中薄膜厚度量測(cè)的重要性,介紹了量測(cè)納米級(jí)薄膜的原理,并介紹了如何在制造過(guò)程中融入薄膜量測(cè)技術(shù)。
2025-02-26 標(biāo)簽:薄膜芯片制造量測(cè)技術(shù) 1164 0
光刻是半導(dǎo)體加工中最重要的工藝之一,決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時(shí)間的40%-50%,占其總成本的30%。光刻膠是光刻環(huán)節(jié)關(guān)鍵耗材,其質(zhì)量和性能與電...
芯片可測(cè)性設(shè)計(jì)技術(shù)有哪些 芯片可靠性測(cè)試流程和標(biāo)準(zhǔn)
從以前的模式中進(jìn)行掃描,然后掃描除第一種以外的所有以及測(cè)試程序中的最后一個(gè)模式。
在集成電路(IC)制造與測(cè)試過(guò)程中,CP(ChipProbing,晶圓探針測(cè)試)和FT(FinalTest,最終測(cè)試)是兩個(gè)重要的環(huán)節(jié),它們承擔(dān)了不同的...
MEMS是Micro Electro Mechanical Systems(微機(jī)電系統(tǒng))的縮寫,具有微小的立體結(jié)構(gòu)(三維結(jié)構(gòu)),是處理各種輸入、輸出信號(hào)...
芯片制造的關(guān)鍵一環(huán):介質(zhì)層制備工藝全解析
在芯片這一高度集成化和精密化的電子元件中,介質(zhì)層扮演著至關(guān)重要的角色。它不僅在芯片中提供了必要的電氣隔離,還在多層互連結(jié)構(gòu)中實(shí)現(xiàn)了信號(hào)的高效傳輸。隨著芯...
2025-02-18 標(biāo)簽:電子元件芯片制造半導(dǎo)體封裝 1103 0
先進(jìn)封裝中架構(gòu)的豐富性和失敗的高成本鼓勵(lì)器件設(shè)計(jì)流程和封裝廠之間更密切的合作。EDA 公司和 OSAT 正在開發(fā)協(xié)作設(shè)計(jì)工具集,以提高封裝性能、降低成本...
2024-01-26 標(biāo)簽:asicIC設(shè)計(jì)soc 1101 0
DIP是很多中小規(guī)模集成電路喜歡采用的封裝形式,其引腳數(shù)一般不超過(guò)100個(gè)。采用DIP封裝的CPU芯片有兩排引腳,在使用時(shí),需要插入到具有DIP結(jié)構(gòu)的芯...
2023-11-17 標(biāo)簽:IC設(shè)計(jì)IC測(cè)試芯片制造 1094 0
半導(dǎo)體設(shè)備主要應(yīng)用于集成電路的制造和封測(cè)環(huán)節(jié),可細(xì)分為晶圓制造設(shè)備(前道設(shè)備)和封裝、測(cè)試設(shè)備(后道設(shè)備)。其中,前道設(shè)備主要有光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、薄膜沉積...
黃仁勛回應(yīng)中國(guó)市場(chǎng)問(wèn)題
英偉達(dá)CEO黃仁勛近日在接受媒體采訪時(shí),深入探討了公司在全球數(shù)據(jù)中心市場(chǎng)的戰(zhàn)略布局以及最新研發(fā)的AI芯片Blackwell的相關(guān)情況。
2024-03-20 標(biāo)簽:數(shù)據(jù)中心芯片制造人工智能 1075 0
ARM攜手臺(tái)積電 探究半導(dǎo)體芯片制造工藝
ARM與臺(tái)積電宣布簽署一項(xiàng)長(zhǎng)期合作協(xié)議,兩家公司將以ARMv8微處理器為研發(fā)對(duì)象,探索用FinFET工藝制程技術(shù)來(lái)研發(fā)ARMv8的生產(chǎn)工藝實(shí)現(xiàn)方法。
10nm以下技術(shù)遭“卡脖子” 中芯國(guó)際表示將重點(diǎn)突圍
中芯國(guó)際頭頂?shù)摹斑_(dá)摩克里斯之劍”,終究還是落下了。 12月20日晚,中芯國(guó)際正式對(duì)外確認(rèn)已被美國(guó)商務(wù)部列入“實(shí)體清單”。 中芯國(guó)際發(fā)布的公告中稱,根據(jù)美...
2020-12-22 標(biāo)簽:中芯國(guó)際芯片設(shè)計(jì)芯片制造 1039 0
二氧化硅是芯片制造中最基礎(chǔ)且關(guān)鍵的絕緣材料。本文介紹其常見沉積方法與應(yīng)用場(chǎng)景,解析SiO?在柵極氧化、側(cè)墻注入、STI隔離等核心工藝中的重要作用。
在過(guò)去幾十年里一直聽到有關(guān)摩爾定律消亡的預(yù)測(cè)的行業(yè)中,這并不令人震驚。然而,令人驚訝的是,經(jīng)過(guò)市場(chǎng)驗(yàn)證的替代品數(shù)量令人眼花繚亂,而且還在不斷增長(zhǎng)。
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