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標(biāo)簽 > 芯片制造
《芯片制造》是2010年8月1日電子工業(yè)出版社出版的圖書(shū),作者是(美國(guó))贊特。本書(shū)介紹了半導(dǎo)體工藝的制作制程、誕生、發(fā)展、半導(dǎo)體材料和化學(xué)品的性質(zhì)等方面闡述。
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芯片的常見(jiàn)功耗問(wèn)題盤(pán)點(diǎn)
Cadence產(chǎn)品管理總監(jiān)Melika Roshandell表示:“盡管基本漏電較之前的技術(shù)有所降低,但總體功耗卻更高。所以,熱量問(wèn)題將更加嚴(yán)重,因?yàn)槟?..
平整度(DP)描述了從微米到毫米范圍內(nèi)硅片表面的起伏變化,具體是指對(duì)于某一臺(tái)階處,在完成CMP工藝之后這個(gè)位置硅片表面的平整程度。
2022-10-26 標(biāo)簽:芯片制造 1862 0
芯片制造的最后一道工序?yàn)闇y(cè)試,其又可分為一般測(cè)試和特殊測(cè)試,前者是將封裝后的芯片置于各種環(huán)境下測(cè)試其電氣特性,如消耗功率、運(yùn)行速度、耐壓度等。
一度沉寂的大陸芯片制造行業(yè)最近忽然熱鬧起來(lái),巧的是都與65nm技術(shù)息息相關(guān)。
2012-03-29 標(biāo)簽:芯片制造 1838 0
一個(gè)復(fù)雜的處理器可能包含數(shù)億甚至數(shù)十(百)億個(gè)晶體管,這些晶體管通過(guò)細(xì)金屬線彼此互聯(lián)。芯片的制造過(guò)程極其復(fù)雜,需要經(jīng)歷數(shù)百個(gè)精確控制的步驟。
本文簡(jiǎn)單介紹了芯片制造的7個(gè)前道工藝。 ? 在探索現(xiàn)代科技的微觀奇跡中,芯片制造無(wú)疑扮演著核心角色,它不僅是信息技術(shù)飛速發(fā)展的基石,也是連接數(shù)字世界與現(xiàn)...
半導(dǎo)體芯片制造中的檢測(cè)和量測(cè)技術(shù)
質(zhì)量控制設(shè)備是芯片制造的關(guān)鍵核心設(shè)備之一,對(duì)于確保芯片生產(chǎn)的高良品率起著至關(guān)重要的作用。集成電路制造流程復(fù)雜,涉及眾多工藝步驟,每一道工序都需要達(dá)到近乎...
本文介紹了刻蝕工藝參數(shù)有哪些。 刻蝕是芯片制造中一個(gè)至關(guān)重要的步驟,用于在硅片上形成微小的電路結(jié)構(gòu)。它通過(guò)化學(xué)或物理方法去除材料層,以達(dá)到特定的設(shè)計(jì)要求...
2nm制程報(bào)價(jià)直逼2.5萬(wàn)美元
芯片制造領(lǐng)域正迎來(lái)3納米工藝的興起,并且2納米競(jìng)爭(zhēng)已經(jīng)全面展開(kāi)。
在科技日新月異的今天,芯片作為信息技術(shù)的核心部件,其制作工藝的復(fù)雜性和精密性令人嘆為觀止。從一粒普通的沙子到一顆蘊(yùn)含無(wú)數(shù)晶體管的高科技芯片,這一過(guò)程不僅...
在芯片制造過(guò)程中,測(cè)試是非常重要的一環(huán),它確保了芯片的性能和質(zhì)量。芯片測(cè)試涉及到許多專(zhuān)業(yè)術(shù)語(yǔ)這其中,CP(Chip Probing),F(xiàn)T(Final ...
主要應(yīng)用是鋁刻蝕液原料監(jiān)控: 刻鋁酸含量測(cè)定(4%HNO3、75%H3PO4、10%HAc) 滴定劑(0.2 M KOH-2-Isopronal) 溶劑...
深度解析手機(jī)所能夠支持的無(wú)線通信系統(tǒng)
單極子天線是最最最古老的天線形式之一,在馬可尼的跨大西洋通信中就是應(yīng)用了單極子天線。馬可尼應(yīng)用的發(fā)射天線是從48m高的橫掛線斜拉下50根銅導(dǎo)線形成的扇形...
2023-12-15 標(biāo)簽:智能手機(jī)無(wú)線通信移動(dòng)設(shè)備 1636 1
Low-K材料是介電常數(shù)顯著低于傳統(tǒng)二氧化硅(SiO?,k=3.9–4.2)的絕緣材料,主要用于芯片制造中的層間電介質(zhì)(ILD)。其核心目標(biāo)是通過(guò)降低金...
美光確認(rèn)在印度建設(shè)首座芯片廠 預(yù)計(jì)投資數(shù)額達(dá)8.25億美元
美國(guó)存儲(chǔ)芯片公司美光科技發(fā)布了投資至多8.25億美元在印度古吉拉特邦新建芯片組裝和測(cè)試設(shè)施的計(jì)劃,將成為該公司在印度的首座工廠。
濕法清洗設(shè)備在半導(dǎo)體制造中的應(yīng)用
芯片制造中的各道工序極為精密,那么我們是如何保持工藝中無(wú)污染的呢?
計(jì)算光刻技術(shù)有多重要?計(jì)算光刻如何改變2nm芯片制造?
光刻是在晶圓上創(chuàng)建圖案的過(guò)程,是芯片制造過(guò)程的起始階段,包括兩個(gè)階段——光掩膜制造和圖案投影。
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