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標(biāo)簽 > 碳化硅

碳化硅

碳化硅

+關(guān)注25人關(guān)注

金剛砂又名碳化硅(SiC)是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑(生產(chǎn)綠色碳化硅時(shí)需要加食鹽)等原料通過(guò)電阻爐高溫冶煉而成。碳化硅在大自然也存在罕見(jiàn)的礦物,莫桑石。

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碳化硅技術(shù)

關(guān)于碳化硅半導(dǎo)體的8大誤區(qū)有哪些

SiC的魯棒性不如硅IGBT在這里,“魯棒性”是一個(gè)工程術(shù)語(yǔ),通常用來(lái)描述一個(gè)系統(tǒng)或部件在面對(duì)不確定性、干擾或異常條件時(shí)的穩(wěn)定性或可靠性。

2023-09-21 標(biāo)簽:IGBTSiC氮化鎵 395 0

2 kV SiC功率模塊:推動(dòng)1500 V系統(tǒng)的革命

2 kV SiC功率模塊:推動(dòng)1500 V系統(tǒng)的革命

由于在可靠性、成本和系統(tǒng)級(jí)價(jià)值方面的顯著提升,具有1700V阻斷電壓的碳化硅(SiC)在工業(yè)電力轉(zhuǎn)換中變得越來(lái)越普遍。通過(guò)將最新一代SiC芯片的阻斷電壓...

2025-03-14 標(biāo)簽:SiC功率模塊碳化硅 390 0

SiC SBD-P3D06008T2 650V 碳化硅肖特基二極管數(shù)據(jù)手冊(cè)

SiC SBD-P3D06008T2 650V 碳化硅肖特基二極管數(shù)據(jù)手冊(cè)

P3D06008T2 是一款 650V SiC 肖特基二極管,采用 TO - 220 - 2 封裝,符合 AEC - Q101 標(biāo)準(zhǔn)和 RoHS標(biāo)準(zhǔn)。封...

2025-02-27 標(biāo)簽:肖特基二極管SiC數(shù)據(jù)手冊(cè) 390 0

碳化硅肖特基二極管B1D06065KS在PFC電路中的應(yīng)用有哪些?

碳化硅肖特基二極管B1D06065KS在PFC電路中的應(yīng)用有哪些?

年來(lái)碳化硅材料應(yīng)用于電子設(shè)備技術(shù)有了長(zhǎng)足的發(fā)展,碳化硅材料比通用硅有更突出的優(yōu)點(diǎn)

2023-05-05 標(biāo)簽:MOSFETPFC肖特基二極管 375 0

分立SIC器件在電驅(qū)系統(tǒng)中的應(yīng)用

更高的效率,省電池,省電費(fèi) 碳化硅控制器具有更高的能量轉(zhuǎn)換效率,在不同的應(yīng)用工況下可使能耗降低3%~6% -同樣的電池容量,增加續(xù)航里程 -同樣的...

2023-02-20 標(biāo)簽:控制器SiC碳化硅 375 0

基于SiC碳化硅功率模塊的高效、高可靠PCS解決方案

基于SiC碳化硅功率模塊的高效、高可靠PCS解決方案

亞非拉市場(chǎng)工商業(yè)儲(chǔ)能破局之道:基于SiC碳化硅功率模塊的高效、高可靠PCS解決方案 —— 為高溫、電網(wǎng)不穩(wěn)環(huán)境量身定制的技術(shù)革新 傾佳電子楊茜致力于推動(dòng)...

2025-06-08 標(biāo)簽:SiCPCS碳化硅 371 0

自動(dòng)對(duì)刀技術(shù)對(duì)碳化硅襯底切割起始位置精度的提升及厚度均勻性優(yōu)化

自動(dòng)對(duì)刀技術(shù)對(duì)碳化硅襯底切割起始位置精度的提升及厚度均勻性優(yōu)化

摘要:碳化硅襯底切割對(duì)起始位置精度與厚度均勻性要求極高,自動(dòng)對(duì)刀技術(shù)作為關(guān)鍵技術(shù)手段,能夠有效提升切割起始位置精度,進(jìn)而優(yōu)化厚度均勻性。本文深入探討自動(dòng)...

2025-06-26 標(biāo)簽:碳化硅晶圓厚度TTV厚度 370 0

如何采用碳化硅設(shè)計(jì)高效可再生能源系統(tǒng)呢?

太陽(yáng)能逆變器和儲(chǔ)能系統(tǒng)應(yīng)用以及其他可再生能源系統(tǒng)正在促使能源網(wǎng)絡(luò)實(shí)現(xiàn)現(xiàn)代化,以提高其韌性,滿足全球能源需求并減少總體碳排放量。

2023-09-11 標(biāo)簽:二極管MOSFETPCB布局 365 0

如何搭配碳化硅電源管理解決方案

綠色倡議持續(xù)推動(dòng)工業(yè)、航空航天和國(guó)防應(yīng)用,尤其是運(yùn)輸行業(yè)的電力電子系統(tǒng)設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)型。碳化硅(SiC)是引領(lǐng)這一趨勢(shì)的核心技術(shù),可提供多種新功能不斷推動(dòng)各種車...

2023-02-03 標(biāo)簽:SiC飛機(jī)碳化硅 351 0

碳化硅襯底厚度測(cè)量探頭溫漂與材料各向異性的耦合影響研究

碳化硅襯底厚度測(cè)量探頭溫漂與材料各向異性的耦合影響研究

在碳化硅襯底厚度測(cè)量中,探頭溫漂與材料各向異性均會(huì)影響測(cè)量精度,且二者相互作用形成耦合效應(yīng)。深入研究這種耦合影響,有助于揭示測(cè)量誤差根源,為優(yōu)化測(cè)量探頭...

2025-06-11 標(biāo)簽:測(cè)量碳化硅晶圓厚度 349 0

中國(guó)SiC碳化硅器件行業(yè)技術(shù)情況研究報(bào)告

公司在IGBT的技術(shù)基礎(chǔ)上不斷發(fā)展以SiC和主的寬禁帶功率半導(dǎo)體器件關(guān)鍵技術(shù)。斯達(dá)作為國(guó)內(nèi)車規(guī)級(jí)SiC模塊的重要供應(yīng)商,車規(guī)級(jí)SiC模塊已獲得了國(guó)內(nèi)外多...

2023-02-17 標(biāo)簽:SiC碳化硅 335 0

碳化硅襯底切割進(jìn)給量與磨粒磨損狀態(tài)的協(xié)同調(diào)控模型

碳化硅襯底切割進(jìn)給量與磨粒磨損狀態(tài)的協(xié)同調(diào)控模型

摘要:碳化硅襯底切割過(guò)程中,進(jìn)給量與磨粒磨損狀態(tài)緊密關(guān)聯(lián),二者協(xié)同調(diào)控對(duì)提升切割質(zhì)量與效率至關(guān)重要。本文深入剖析兩者相互作用機(jī)制,探討協(xié)同調(diào)控模型構(gòu)建方...

2025-06-25 標(biāo)簽:碳化硅晶圓厚度TTV 334 0

高效可再生能源系統(tǒng)的碳化硅設(shè)計(jì)方案

高效可再生能源系統(tǒng)的碳化硅設(shè)計(jì)方案

SiC MOSFET和散熱器之間的適當(dāng)爬電距離至關(guān)重要。在太陽(yáng)能應(yīng)用中,散熱器很大,并且通過(guò)機(jī)械固定在機(jī)箱上,因此水平安裝往往很常見(jiàn),在這種情況下,隔離...

2023-11-01 標(biāo)簽:太陽(yáng)能逆變器SiC 309 0

真正實(shí)現(xiàn)碳化硅的汽車資質(zhì)

真正實(shí)現(xiàn)碳化硅的汽車資質(zhì)

車載充電器 (OBC)、DC-DC 轉(zhuǎn)換器和牽引逆變器都受益于 SiC,正在進(jìn)行的工藝和架構(gòu)改進(jìn)肯定會(huì)增加其已經(jīng)相當(dāng)可觀的吸引力。這種增強(qiáng)將擴(kuò)大這種寬帶...

2023-02-21 標(biāo)簽:電動(dòng)汽車MOSFET碳化硅 297 0

蘋果派和電源轉(zhuǎn)換器效率

蘋果派和電源轉(zhuǎn)換器效率

以“母性和蘋果派”的陳述開(kāi)始博客總是很誘人的,比如更好的功率轉(zhuǎn)換效率的好處列表。更高顯然是一個(gè)優(yōu)勢(shì),但有時(shí)凈收益被錯(cuò)誤地陳述了——家用電子產(chǎn)品的一點(diǎn)熱量...

2023-02-20 標(biāo)簽:MOSFET晶體管碳化硅 295 0

碳化硅襯底 TTV 厚度測(cè)量?jī)x器的選型指南與應(yīng)用場(chǎng)景分析

碳化硅襯底 TTV 厚度測(cè)量?jī)x器的選型指南與應(yīng)用場(chǎng)景分析

引言 碳化硅襯底 TTV(總厚度變化)厚度是衡量其質(zhì)量的關(guān)鍵指標(biāo),直接影響半導(dǎo)體器件性能。合理選擇測(cè)量?jī)x器對(duì)準(zhǔn)確獲取 TTV 數(shù)據(jù)至關(guān)重要,不同應(yīng)用場(chǎng)...

2025-06-03 標(biāo)簽:測(cè)量?jī)x器碳化硅晶圓厚度 295 0

使用碳化硅 MOSFET 降低高壓開(kāi)關(guān)模式電源系統(tǒng)的損耗

使用碳化硅 MOSFET 降低高壓開(kāi)關(guān)模式電源系統(tǒng)的損耗

作者: Art Pini 從電動(dòng)汽車 (EV) 和光伏 (PV) 逆變器到儲(chǔ)能和充電站,電力電子應(yīng)用的數(shù)量和多樣性持續(xù)增加。這些應(yīng)用需要更高的工作電壓、...

2025-05-25 標(biāo)簽:MOSFET碳化硅開(kāi)關(guān)模式電源 264 0

碳化硅襯底高溫加工場(chǎng)景下測(cè)量探頭溫漂的動(dòng)態(tài)修正方法

碳化硅襯底高溫加工場(chǎng)景下測(cè)量探頭溫漂的動(dòng)態(tài)修正方法

引言 碳化硅襯底高溫加工過(guò)程中,溫度的劇烈變化會(huì)引發(fā)測(cè)量探頭溫漂,嚴(yán)重影響襯底厚度等參數(shù)的測(cè)量精度,進(jìn)而干擾加工工藝的精準(zhǔn)控制。探尋有效的動(dòng)態(tài)修正方法,...

2025-06-06 標(biāo)簽:測(cè)量碳化硅晶圓厚度 252 0

聚焦器件可靠性、柵極驅(qū)動(dòng)器創(chuàng)新和總體系統(tǒng)解決方案

聚焦器件可靠性、柵極驅(qū)動(dòng)器創(chuàng)新和總體系統(tǒng)解決方案

第二項(xiàng)關(guān)鍵測(cè)試是短路耐受時(shí)間 (SCWT),或者說(shuō)軌到軌短路條件下設(shè)備發(fā)生故障前的最長(zhǎng)耐受時(shí)間。測(cè)試結(jié)果應(yīng)接近功率轉(zhuǎn)換應(yīng)用中使用的IGBT,其中大多數(shù)擁...

2023-02-15 標(biāo)簽:MOSFET驅(qū)動(dòng)器碳化硅 249 0

切割進(jìn)給量與碳化硅襯底厚度均勻性的量化關(guān)系及工藝優(yōu)化

切割進(jìn)給量與碳化硅襯底厚度均勻性的量化關(guān)系及工藝優(yōu)化

引言 在碳化硅襯底加工過(guò)程中,切割進(jìn)給量是影響其厚度均勻性的關(guān)鍵工藝參數(shù)。深入探究二者的量化關(guān)系,并進(jìn)行工藝優(yōu)化,對(duì)提升碳化硅襯底質(zhì)量、滿足半導(dǎo)體器件制...

2025-06-12 標(biāo)簽:半導(dǎo)體碳化硅晶圓厚度 249 0

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    從背景上看,28nm誕生于2008年那場(chǎng)金融危機(jī)之后。受到金融海嘯的影響,當(dāng)時(shí)很多半導(dǎo)體企業(yè)都受到了影響。于是,在這之后的幾年,包括AMD在內(nèi)的很多半導(dǎo)體企都選擇將制造業(yè)務(wù)剝離以降低運(yùn)營(yíng)資金壓力,將更多的資源集中到相對(duì)投入到芯片設(shè)計(jì)當(dāng)中
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模數(shù)轉(zhuǎn)換器 數(shù)模轉(zhuǎn)換器 數(shù)字電位器 觸摸屏控制器 AFE ADC DAC 電源管理
線性穩(wěn)壓器 LDO 開(kāi)關(guān)穩(wěn)壓器 DC/DC 降壓轉(zhuǎn)換器 電源模塊 MOSFET IGBT
振蕩器 諧振器 濾波器 電容器 電感器 電阻器 二極管 晶體管
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電機(jī)驅(qū)動(dòng)器 步進(jìn)驅(qū)動(dòng)器 TWS BLDC 無(wú)刷直流驅(qū)動(dòng)器 濕度傳感器 光學(xué)傳感器 圖像傳感器
數(shù)字隔離器 ESD 保護(hù) 收發(fā)器 橋接器 多路復(fù)用器 氮化鎵 PFC 數(shù)字電源
開(kāi)關(guān)電源 步進(jìn)電機(jī) 無(wú)線充電 LabVIEW EMC PLC OLED 單片機(jī)
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