1. 英特爾將獲美國35億美元芯片補貼
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美國國會助理表示,美國政府計劃對英特爾補貼35億美元,以生產(chǎn)軍用先進半導體,該預算編列在當?shù)貢r間3月6日通過的一項快速支出法案中。
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這筆資金為期三年,用于支持所謂“安全飛地(secure enclave)”的計劃。計劃的資金來自總金額390億美元的《芯片和科學法案》。芯片法案立法的宗旨是鼓勵芯片制造商在美國生產(chǎn)半導體,目前已有600多家公司表明希望獲得補助。2023年11月有報道稱,英特爾正協(xié)商就“安全飛地”的計劃爭取30億至40億美元的補貼。另有報道稱,英特爾有望從芯片法案拿到超過100億美元的現(xiàn)金和貸款補助。
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2. 美光將首先采用佳能納米壓印光刻機,降低DRAM生產(chǎn)成本
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美國存儲廠商美光計劃首先采用日本佳能的納米壓?。∟IL)光刻機,希望借此進一步降低生產(chǎn)DRAM存儲器的成本。美光日前舉辦演講,介紹納米壓印技術用于DRAM生產(chǎn)的細節(jié)。美光闡述了DRAM制程和浸潤式曝光解析度的問題,通過Chop層數(shù)不斷增加,必須增加更多曝光步驟,以取出密集存儲陣列周圍的虛置結構。
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由于光學系統(tǒng)特性,DRAM層圖案很難用光學曝光圖案,納米壓印可實現(xiàn)更精細的圖案,且成本是浸潤式光刻的20%,成為較佳的解決方案。但納米壓印并不能在存儲器生產(chǎn)所有階段取代傳統(tǒng)光刻,兩者并非純粹競爭關系,但至少可以降低部分技術操作成本。佳能于2023年10月推出新型FPA-1200NZ2C納米壓印光刻機,可將電路圖案直接印在晶圓上,佳能強調(diào)了該設備的低成本和低功耗,其前景成為行業(yè)爭論的話題。
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3. 傳三星與應用材料合作簡化EUV光刻技術
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消息稱三星電子正在與應用材料公司合作,希望減少極紫外(EUV)工藝步驟的數(shù)量,如果成功,將有助于降低半導體生產(chǎn)成本。韓國業(yè)界表示,隨著越來越多的公司采用EUV工藝,預計許多公司將開始投資減少EUV工藝步驟的技術。
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業(yè)內(nèi)消息人士稱,三星正在嘗試與應用材料公司合作,以減少4nm的工藝步驟數(shù)量。這將主要通過應用材料的“Centura Sculpta”圖案化系統(tǒng)來實現(xiàn),該系統(tǒng)于2023年開發(fā),旨在減少EUV工藝步驟。Centura Sculpta是一種圖案成型系統(tǒng),可幫助客戶減少光刻時間。應用材料在2023年2月表示,光刻技術正變得越來越復雜和昂貴,新技術方法可以簡化芯片生產(chǎn)流程,同時減少浪費和環(huán)境影響。應用材料聲稱,Centura Sculpta可以將每片晶圓的生產(chǎn)成本降低50美元以上。
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4. 高塔半導體回應工廠停工:仍將按計劃履行晶圓交付承諾
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近日媒體報道稱,在行業(yè)放緩的情況下,高塔半導體計劃對其美國紐波特海灘市(Newport Beach)的大部分業(yè)務進行為期三周的停工,此舉將使近700名員工休假。高塔半導體確認將于4月1日至7日關閉其大部分業(yè)務,并計劃在7月1日至7日和10月7日至13日關閉更多業(yè)務。
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對此,高塔半導體發(fā)布聲明指出,Tower Newport Beach工廠計劃在 4 月 1 日至 4 月 7 日期間進行維護,晶圓上線計劃和生產(chǎn)在此期間會受限制。因為這是一次計劃中的正常維護,我們?nèi)詫从媱澛男芯A交付承諾。Tape out工作將繼續(xù)進行,不會中斷。
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5. 傳HBM良率僅為65%,存儲大廠力爭通過英偉達測試
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HBM高帶寬存儲芯片被廣泛應用于最先進的人工智能(AI)芯片,據(jù)業(yè)界消息,英偉達的質(zhì)量測試對存儲廠商提出挑戰(zhàn),因為相比傳統(tǒng)DRAM產(chǎn)品,HBM的良率明顯較低。
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臺積電、三星代工等公司,此前在加工單一硅晶圓時一直面臨將良率維持在最佳水平的挑戰(zhàn),但當前這一問題蔓延到了HBM行業(yè)。消息稱美光、SK海力士等存儲廠商,在英偉達下一代AI GPU的資格測試中將進行競爭,似乎差距不大,而良率將是廠商們的阻礙。消息人市場稱,目前HBM存儲芯片的整體良率在65%左右,其中美光、SK海力士似乎在這場競爭中處于領先地位。據(jù)悉,美光已開始為英偉達當前最新的H200 AI GPU生產(chǎn)HBM3e存儲芯片,因為其已通過Team Green設定的認證階段。
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6. 消息稱特斯拉 FSD Beta 輔助駕駛功能 2025 年登陸歐洲,中國最快今年夏天開始測試
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@Florian Minderop 表示,歐盟已經(jīng)在剛剛舉行的世界車輛法規(guī)協(xié)調(diào)論壇(WP.29)上通過了新規(guī),確認特斯拉 FSD 歐洲版將于 2025 年登陸歐洲市場,這一消息還得到了 @Teslascope 的證實。
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@Teslascope 還補充道,特斯拉 FSD Beta 測試版可能會從今年 10 月開始在歐盟部分地區(qū)進行測試。此外,特斯拉 FSD Beta 中國版也在快速推進中,目前暫定的發(fā)布目標是今年夏天。實際上,今年以來已經(jīng)傳出多次“特斯拉 FSD 入華”的消息,但特斯拉官方只表示“目前沒有推出的準確時間”。不過早在去年 11 月,隨著四部委聯(lián)合印發(fā)通知部署開展智能網(wǎng)聯(lián)汽車準入、上路通行試點工作,特斯拉 FSD 當時也被認為進入“倒計時”階段。特斯拉中國曾回應稱:“目前確實正在推進中”。
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今日看點丨美光將首先采用佳能納米壓印光刻機;傳三星與應用材料合作簡化EUV光刻技術
- 美光(50950)
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EUV光刻機對半導體制程的重要性
晶圓產(chǎn)率方面還有很大發(fā)大空間。EUV光刻機對7nm及以下的工藝節(jié)點非常重要,臺積電、三星兩大代工巨頭均已在最新產(chǎn)品中引入7納米EUV技術?! ?b class="flag-6" style="color: red">EUV光刻機壟斷者ASML 目前,光刻機領域的龍頭老大是荷蘭
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ASML發(fā)布2019年Q2季度財報 EUV光刻機最主要的問題還是產(chǎn)能不足
掌握全球唯一EUV光刻機研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML(阿斯麥)公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財報,當季營收25.68億歐元,其中凈設備銷售額18.51億歐元,總計出貨了41臺光刻機,其中EUV光刻機7臺。
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關于EUV光刻機的分析介紹
格芯首席技術官Gary Patton表示,如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機,那么光刻的步驟將會超過100步,這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具,未來圍繞EUV光刻機的爭奪戰(zhàn)將會變得異常激烈。因為這是決定這些廠商未來在先進工藝市場競爭的關鍵。
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ASML研發(fā)第二代EUV光刻機的微縮分辨率、套準精度提升了70%
據(jù)韓媒報道稱,ASML正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機,與現(xiàn)有光刻機相比,二代EUV光刻機最大的變化就是High NA透鏡,通過提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機的微縮分辨率、套準精度兩大光刻機核心指標提升70%,達到業(yè)界對幾何式芯片微縮的要求。
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曝ASML新一代EUV光刻機預計2022年開始出貨 將進一步提升光刻機的精度
在EUV光刻機方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機,去年出貨26臺,創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機,預計在2022年開始出貨。
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EUV光刻機全球出貨量達57臺
與此同時, 他指出,EUV繼續(xù)為ASML的客戶提高產(chǎn)量,迄今為止,他們的客戶已經(jīng)使用EUV光刻機曝光了超過1100萬個EUV晶圓,并交付了57個3400x EUV系統(tǒng)(3400平臺是EUV生產(chǎn)平臺)。
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【重磅】王毅到訪荷蘭,期待放行ASML EUV光刻機 來源:中國半導體論壇 彭博引述知情人士消息稱,荷蘭政府極有可能不會給予ASML向中國出貨EUV光刻機的許可證。一年前的許可證到期后,在美國
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2020-10-13 13:51:52
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荷蘭阿斯麥(ASML)公司的光刻機作為世界上最貴最精密的儀器,相信大家都有耳聞,它是加工芯片的設備。其最先進的EUV(極紫外光)光刻機已經(jīng)能夠制造7nm以下制程的芯片,據(jù)說一套最先進的7納米EUV
2020-10-15 09:20:05
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一文詳解光刻機技術
最近光刻機十分火,我們經(jīng)常聽到別人說7納米光刻機、5納米光刻機,但其實嚴格意義上來說并不存在7納米光刻機,5納米光刻機,我為什么會這樣說呢?
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三星急需EUV光刻機趕產(chǎn)量_2022年或將再購買60部EUV設備
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2020-10-24 09:37:30
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11月5日,世界光刻機巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進博會。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV(極紫外光)光刻機的企業(yè),由于ASML目前仍不能向中國出口EUV光刻機,所以此次展示的是其DUV(深紫外光)光刻機。據(jù)悉,該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。
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ASML EUV光刻機被美國限制 中國企業(yè)出多少錢都買不回
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2020-12-01 12:03:15
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什么是納米壓印光刻技術
產(chǎn)業(yè)的基礎技術。目前,納米壓印技術在國際半導體藍圖(ITRS)中被列為下一代32nm、22nm和16nm節(jié)點光刻技術的代表之一。國內(nèi)外半導體設備制造商、材料商以及工藝商紛紛開始涉足這一領域,短短25年,已經(jīng)取得很大進展。 ? 納米壓印技術首先通過接觸式壓印
2021-01-03 09:36:00
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國產(chǎn)光刻機之路,任重而道遠
荷蘭阿斯麥公司作為掌握光刻機系統(tǒng)集成和整體架構的核心企業(yè),自然成了歐美自家的小棉襖,順利趕上了歐美EUV技術研究發(fā)展的風口,投資德國卡爾蔡司,收購美國Cymer光源。集成世界各國頂尖科技的EUV
2020-12-28 09:25:55
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臺積電向ASML購買更多更先進制程的EUV光刻機
Luc Van den hove表示,IMEC的目標是將下一代高分辨率EUV光刻技術高NA EUV光刻技術商業(yè)化。由于此前得光刻機競爭對手早已經(jīng)陸續(xù)退出市場,目前ASML把握著全球主要的先進光刻機產(chǎn)能,近年來,IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機,目前目標是將工藝規(guī)模縮小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:48
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佳能發(fā)售新型光刻機“FPA-3030i5a”,搶占高功能半導體市場
光刻機(圖源:日經(jīng)中文網(wǎng)) 時隔7年,佳能更新了面向小型基板的半導體光刻機,該設備使用波長為365納米的“i線”光源,支持直徑從2英寸(約5厘米)到8英寸(約20厘米)的小型基板,生產(chǎn)效率較以往機型提高了約17%。 就工藝水平而言,佳能的這款新型光
2021-01-06 17:41:06
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佳能即將發(fā)售新型光刻機“FPA-3030i5a”
日本的佳能曾經(jīng)是最大的光刻機制造商之一,后來逐漸衰微。但佳能并沒有放棄光刻機業(yè)務。據(jù)日經(jīng)中文網(wǎng)報道,佳能將于2021年3月發(fā)售新型光刻機“FPA-3030i5a”,用來搶占高功能半導體市場。
2021-01-07 09:03:22
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佳能將推新光刻機,效率提升17%
日本的佳能曾經(jīng)是最大的光刻機制造商之一,后來逐漸衰微。但佳能并沒有放棄光刻機業(yè)務。據(jù)日經(jīng)中文網(wǎng)報道,佳能將于2021年3月發(fā)售新型光刻機“FPA-3030i5a”,用來搶占高功能半導體市場。
2021-01-07 11:21:09
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為何EUV光刻機會這么耗電呢
呢?OFweek君根據(jù)公開資料整理出了一些原因,供讀者參考。 與DUV(深紫外光)光刻機相比,EUV光刻機的吞吐量相對較低,每小時可曝光處理的晶圓數(shù)量約在120片-175片之間,技術改進后,速度可以提升至275片每小時。但相對而言,EUV生產(chǎn)效率還是更高,
2021-02-14 14:05:00
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為什么都搶著買價格更昂貴的EUV光刻機?
目前,還有ASML有能力生產(chǎn)最先進的EUV光刻機,三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約,中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機。
2021-01-21 08:56:18
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ASML壟斷第五代光刻機EUV光刻機:一臺利潤近6億
%,凈利潤達到36億歐元。全球光刻機主要玩家有ASML、尼康和佳能三家,他們占到了全球市場90%。 ASML由于技術領先,一家壟斷了第五代光刻機EUV光刻機,這類光刻機用于制造7nm以下先進制程的芯片。 2020年ASML對外銷售了31臺EUV光刻機,帶來了45億歐元(折合352.52億
2021-01-22 10:38:16
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ASML下一代EUV光刻機延期:至少2025年
ASML公司前兩天發(fā)布了財報,全年凈銷售額140億歐元,EUV光刻機出貨31臺,帶來了45億歐元的營收,單價差不多11.4億歐元了。 雖然業(yè)績增長很亮眼,但是ASML也有隱憂,實際上EUV光刻機
2021-01-22 17:55:24
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SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機
隨著半導體工藝進入10nm節(jié)點以下,EUV光刻機成為制高點,之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機,率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝,現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了,SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
2021-02-25 09:28:55
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SK海力士砸4.8萬億韓元買EUV光刻機
隨著半導體工藝進入10nm節(jié)點以下,EUV光刻機成為制高點,之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機,率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝,現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了,SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
2021-02-25 11:39:09
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三星積極向唯一EUV光刻機廠商ASML爭取訂單
三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機廠商ASML爭取訂單,另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 09:52:41
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中科院5nm光刻技術與ASML光刻機有何區(qū)別?
5nm光刻技術與ASML光刻機有何區(qū)別? EUV光刻機產(chǎn)能如何? 大飛_6g(聽友) 請問謝博士,EUV光刻機的產(chǎn)能是怎樣的?比如用最先進的光刻機,滿負荷生產(chǎn)手機芯片麒麟990,每天能產(chǎn)多少片?中芯國際有多少臺投入生產(chǎn)的光刻機?是1臺、5臺還是10臺呢?謝謝 謝志
2021-03-14 09:46:30
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ASML分享未來四代EUV光刻機的最新進展
日前,ASML產(chǎn)品營銷總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了EUV(極紫外)光刻機的最新進展。
2021-03-19 09:39:40
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光刻機原理介紹
光刻機,是現(xiàn)代光學工業(yè)之花,是半導體行業(yè)中的核心技術。 ? ? ? ?可能有很多人都無法切身理解光刻機的重要地位,光刻機,是制造芯片的機器,要是沒有了光刻機,我們就沒有辦法造出芯片,自然也就
2021-07-07 14:31:18
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EUV光刻機何以造出5nm芯片
7nm之下不可或缺的制造設備,我國因為貿(mào)易條約被遲遲卡住不放行的也是一臺EUV光刻機。 但EUV光刻機的面世靠的不僅僅是ASML一家的努力,還有蔡司和TRUMPF(通快)兩家歐洲光學巨頭的合作才得以成功。他們的技術分別為EUV光刻機的鏡頭和光源做出了不
2021-12-07 14:01:10
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光刻膠和光刻機的關系
光刻膠是光刻機研發(fā)的重要材料,換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:00
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光刻機干啥用的
光刻機是芯片制造的核心設備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機,有用于LED制造領域的光刻機,還有用于封裝的光刻機。光刻機是采用類似照片沖印的技術,然后把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:00
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俄羅斯簽署合同欲研發(fā)頂尖X射線光刻機
在半導體的制造中,光刻機作為其中重要的組成部分,其技術非常復雜,價格也十分昂貴。 由于近期沖突,俄羅斯芯片進口遭嚴重限制,在其國內(nèi)沒有光刻機的情況下,俄羅斯貿(mào)工部選擇了與俄羅斯莫斯科電子技術學院簽署
2022-04-06 10:35:33
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關于EUV光刻機的缺貨問題
臺積電和三星從7nm工藝節(jié)點就開始應用EUV光刻層了,并且在隨后的工藝迭代中,逐步增加半導體制造過程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:20
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三星董事李在镕親自拜訪ASML,只為爭取到EUV光刻機
媒體稱三星的目的是為了搶到ASML的EUV光刻機。 目前芯片短缺的現(xiàn)狀大家也都清楚,再加上7nm制程以下的高端芯片只有EUV光刻機才能打造,而本來EUV光刻機就稀少,因此先進芯片發(fā)展頻頻受限,并且前段時間三星才剛剛和Intel洽談完芯片合作的事宜,因
2022-06-07 14:18:04
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臺積電將于2024年引進ASML最新EUV光刻機,主要用于相關研究
年引進ASML最先進的High-NA EUV光刻機,并且推動臺積電的創(chuàng)新能力。不過另一位高管補充道:臺積電并不打算在2024年將High-NA EUV光刻機投入到生產(chǎn)工作中去,將首先與合作伙伴進行相關的研究。 據(jù)了解,High-NA EUV光刻機的High-NA代表的是高數(shù)值孔徑,相比于現(xiàn)在的光刻技術,
2022-06-17 16:33:27
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新EUV光刻機售價超26億,Intel成為首位買家,將于2025年首次交付
在芯片研發(fā)的過程中,光刻機是必不可少的部分,而隨著芯片制程工藝的不斷發(fā)展,普通的光刻機已經(jīng)不能滿足先進制程了,必須要用最先進的EUV光刻機才能完成7nm及其以下的先進制程,而目前臺積電和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:12
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三星可生產(chǎn)euv光刻機嗎 euv光刻機每小時產(chǎn)能
隨著芯片制程工藝的更新迭代,芯片已進入納米時代,指甲蓋大小的芯片上集成的晶體管數(shù)量高達百億。然而芯片制造最大的困難是光刻機。
2022-07-05 10:57:26
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三星斥資買新一代光刻機 中芯光刻機最新消息
三星電子和ASML就引進今年生產(chǎn)的EUV光刻機和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協(xié)議。
2022-07-05 15:26:15
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euv光刻機出現(xiàn)時間 ASML研發(fā)新一代EUV光刻機
EUV光刻機是在2018年開始出現(xiàn),并在2019年開始大量交付,而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:44
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euv光刻機目前幾納米 中國5納米光刻機突破了嗎
大家都知道,芯片制造的核心設備之一就是光刻機了?,F(xiàn)在,全球最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機,那么euv光刻機目前幾納米呢? 到現(xiàn)在,世界上最先進的光刻機能夠實現(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:42
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euv光刻機是哪個國家的
是哪個國家的呢? euv光刻機許多國家都有,理論上來說,芯片強國的光刻機也應該很強,但是最強的光刻機制造強國,不是美國、韓國等芯片強國,而是荷蘭。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術。 目前,在全世
2022-07-10 11:42:27
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euv光刻機是干什么的
可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術。 目前,最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預計在光路系統(tǒng)的幫助下,能
2022-07-10 14:35:06
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duv光刻機和euv光刻機區(qū)別是什么
目前,光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術,EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:10
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euv光刻機原理是什么
euv光刻機原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機,是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設備,對芯片技術有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。那么euv光刻機原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:10
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euv光刻機用途是什么
光刻機是當前半導體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設備,其技術含量和價值含量都很高。那么euv光刻機用途是什么呢?下面我們就一起來看看吧。 光刻設備涉及系統(tǒng)集成、精密光學、精密運動、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制
2022-07-10 16:34:40
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EUV光刻技術相關的材料
與此同時,在ASML看來,下一代高NA EUV光刻機為光刻膠再度帶來了挑戰(zhàn),更少的隨機效應、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負膠肯定是沒法用了,DUV光刻機上常用的化學放大光刻膠(CAR)也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現(xiàn)瓶頸
2022-07-22 10:40:08
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Microlight3D雙光子聚合3D納米光刻機新突破
MicroFAB-3D雙光子聚合3D納米光刻機是一款超緊湊、超高分辨率交鑰匙型3D打印機。雙光子聚合3D納米光刻機基于雙光子聚合(TPP)激光直寫技術,兼容多種高分子材料,包括生物材料。MicroFAB-3D 3D納米光刻機幫助您以百納米級的分辨率生產(chǎn)出前所未有的復雜的微部件.
2022-08-08 13:54:18
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佳能發(fā)售半導體光刻機解決方案Lithography Plus
來源:佳能集團 通過技術與數(shù)據(jù)優(yōu)勢,提升光刻機的生產(chǎn)效率 佳能將于2022年9月5日起發(fā)售解決方案平臺“Lithography Plus1”服務(以下簡稱“Lithography Plus”),該系
2022-09-06 17:01:49
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除ASML之外的光刻機廠商們近況如何?
廠商尼康和佳能為例,他們就仍在堅持開發(fā)并擴展自己的光刻機業(yè)務。 尼康 尼康的光刻機產(chǎn)品陣容比較全面,包括ArF浸沒式掃描光刻機、ArF步進掃描光刻機、KrF掃描光刻機、i線步進式光刻機和FPD面板光刻機,基本涵蓋了除EUV以外的主流光刻機
2022-11-24 07:10:03
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密度提升近3倍,高NA EUV光刻機有何玄機
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/ 周凱揚 )到了3nm這個工藝節(jié)點之后,單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機就很難維系下去了。 為了實現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級工藝,將晶體管密度推向1000MTr/mm2,全面
2022-12-07 07:25:02
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納米壓印光刻,能讓國產(chǎn)繞過ASML嗎?
日本最寄望于納米壓印光刻技術,并試圖靠它再次逆襲,日經(jīng)新聞網(wǎng)也稱,對比EUV光刻工藝,使用納米壓印光刻工藝制造芯片,能夠降低將近四成制造成本和九成電量,鎧俠 (KIOXIA)、佳能和大日本印刷等公司則規(guī)劃在2025年將該技術實用化。
2023-03-22 10:20:39
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佳能推出5nm芯片制造設備,納米壓印技術重塑半導體競爭格局?
佳能近日表示,計劃年內(nèi)或明年上市使用納米壓印技術的光刻設備FPA-1200NZ2C。對比已商業(yè)化的EUV光刻技術,雖然納米壓印的制造速度較傳統(tǒng)方式緩慢,但由于制程簡化,耗電僅為EUV的十分之一,且投資額也僅為EUV設備的四成。
2024-01-31 16:51:18
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佳能預計到2024年出貨納米壓印光刻機
Takeishi向英國《金融時報》表示,公司計劃于2024年開始出貨其納米壓印光刻機FPA-1200NZ2C,并補充說芯片可以輕松以低成本制造。2023年11月,該公司表示該設備的價格將比ASML的EUV機器便宜一位數(shù)。 佳能表示,與利用光曝光電路圖案的傳統(tǒng)光刻技術不同,納米壓印光刻不需要光源,利用
2024-02-01 15:42:05
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押注2nm!英特爾26億搶單下一代 EUV光刻機,臺積電三星決戰(zhàn)2025!
了。 ? 芯片制造離不開光刻機,特別是在先進制程上,EUV光刻機由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時,盡管目前市面上,EUV光刻機客戶僅有三家,但需求不斷增加的情況底下,EUV光刻機依然供不應求。 ? 針對后3nm時代的芯片制造工藝,High-NA(高數(shù)值孔徑)EUV光刻機
2022-06-29 08:32:00
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繞開EUV光刻,下一代納米壓印光刻技術從存儲領域開始突圍
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/李寧遠)提及芯片制造技術,首先想到的自然是光刻機和光刻技術。眾所周知在芯片行業(yè),光刻是芯片制造過程中最重要、最繁瑣、最具挑戰(zhàn)也最昂貴的一項工藝步驟。在光刻機的支持下,摩爾定律
2023-07-16 01:50:15
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納米壓印光刻技術應用在即,能否掀起芯片制造革命?
壓印光刻技術NIL在這條賽道上備受關注,是最有機會率先應用落地的技術路線。 ? 今年早些時候,根據(jù)英國金融時報的報道,負責監(jiān)督新型光刻機開發(fā)的佳能高管武石洋明在接受采訪時稱,采用納米壓印技術的佳能光刻設備FPA-1200NZ2C目標最快在
2024-03-09 00:15:00
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