隨著極紫外光刻(EUV)技術(shù)面臨光源功率和掩模缺陷挑戰(zhàn),X射線光刻技術(shù)憑借其固有優(yōu)勢,在特定領(lǐng)域正形成差異化競爭格局。
發(fā)表于 05-09 10:08
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電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關(guān),電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
進制程領(lǐng)域,曝光波長逐漸縮短至13.5nm,光刻技術(shù)逐步完善成熟。2024年光刻機市場的規(guī)模為230億美元。2025年光刻機市場的規(guī)模預(yù)計為252億美元。 【光刻機的發(fā)展機會主要體現(xiàn)在
發(fā)表于 04-07 09:24
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在芯片制造的復(fù)雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準精度的關(guān)鍵指標。簡單來說,它就像建造摩天大樓
發(fā)表于 02-17 14:09
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光刻機用納米位移系統(tǒng)設(shè)計
發(fā)表于 02-06 09:38
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本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機配置,每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA,又名
發(fā)表于 01-20 09:44
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本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
發(fā)表于 01-16 09:29
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? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程,但精度要求極高,能夠達到
發(fā)表于 01-07 10:02
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? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進 過去半個多世紀,摩爾定律一直推動著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,但當光刻機的光源波長卡在193nm,芯片制程縮小至6
發(fā)表于 11-24 11:04
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? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機:芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位,被譽為芯片制
發(fā)表于 11-24 09:16
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,光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺技術(shù)展開介紹。 一、光刻機發(fā)展歷程 光刻機的發(fā)展歷程
發(fā)表于 11-22 09:09
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高端光刻機研發(fā)是一個系統(tǒng)工程,涉及到各方面技術(shù)的持續(xù)改進和突破,在材料科學(xué)方面涉及低吸收損耗石英材料、高純度薄膜材料的開發(fā),在精密光學(xué)領(lǐng)域涉及精密光學(xué)加工技術(shù)、鍍膜技術(shù)、光學(xué)集成裝配技術(shù)等,在
發(fā)表于 11-21 13:43
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2024 年 4 月 16 日,2024 年 俄羅斯微電子論壇 的回顧和分析會議在莫斯科:ExpoElectronica俄羅斯國際電子元器件、組件、模塊及加工設(shè)備與技術(shù)展(以下簡稱“俄羅斯電子元器件
發(fā)表于 08-14 12:45
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X射線
深圳崧皓電子
發(fā)布于 :2024年08月09日 06:51:54
行業(yè)資訊
北京中科同志科技股份有限公司
發(fā)布于 :2024年08月06日 11:21:22
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