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標簽 > 光刻機
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凈化機與光刻機:陌路交錯,攜手開創(chuàng)行業(yè)未來
光刻機被稱為“半導(dǎo)體行業(yè)的璀璨明珠”,融合了光學(xué)、流體力學(xué)、表面物理與化學(xué)、精密儀器、軟件和圖像等多個領(lǐng)域的尖端技術(shù),其構(gòu)造由十幾萬個部件組成。全球有超...
2024-09-26 標簽:光刻機 684 0
近日,全球光刻機巨頭ASML的首席執(zhí)行官Christophe Fouquet在接受外媒采訪時,發(fā)表了一系列引人深思的言論。他指出,盡管由于復(fù)雜的地緣政治...
掌握半導(dǎo)體核心技術(shù),又一家公司折戟IPO
來源:芯東西 編輯:感知芯視界 Link 芯東西7月4日報道,近日,上交所官網(wǎng)披露終止半導(dǎo)體裝備企業(yè)北京華卓精科科技股份有限公司(簡稱“華卓精科”)的發(fā)...
半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)競速:Hyper-NA EUV光刻機挑戰(zhàn)與機遇并存
在科技日新月異的今天,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)作為信息技術(shù)的基石,正以前所未有的速度向前躍進。隨著人工智能、汽車電子等新興產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展,對芯片制造技術(shù)的要求也日益嚴...
來源:芯榜 編輯:感知芯視界 Link 上交所網(wǎng)站昨日披露了關(guān)于終止對北京華卓精科科技股份有限公司(以下簡稱“華卓精科”)首次公開發(fā)行股票并在科創(chuàng)板上市...
ASML擬于2030年推出Hyper-NA EUV光刻機,將芯片密度限制再縮小
ASML再度宣布新光刻機計劃。據(jù)報道,ASML預(yù)計2030年推出的Hyper-NA極紫外光機(EUV),將縮小最高電晶體密度芯片的設(shè)計限制。 ASML前...
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/周凱揚)隨著去年年底首臺高NA EUV光刻系統(tǒng)正式交貨給英特爾,ASML這條新的產(chǎn)品線似乎即將開啟新一輪的先進晶圓制造設(shè)備統(tǒng)治。可...
2024-06-18 標簽:光刻機ASML光刻系統(tǒng) 2902 0
光刻巨人去世 阿斯麥(ASML)光刻機巨頭聯(lián)合創(chuàng)始人去世
圈內(nèi)突發(fā)噩耗,光刻巨人去世; 阿斯麥(ASML)光刻機巨頭聯(lián)合創(chuàng)始人維姆?特羅斯特去世。 據(jù)外媒報道,在當(dāng)?shù)貢r間11日晚,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML...
據(jù)外媒報道,目前,俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進行測試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造...
來源:IT之家,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 據(jù)外媒報道,俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進行測試。俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長Vasily Sh...
買臺積電都嫌貴的光刻機,大力推玻璃基板,英特爾代工的野心和危機
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/吳子鵬)此前,臺積電高級副總裁張曉強在技術(shù)研討會上表示,“ASML最新的高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(high-NA EUV)價格實在太...
來源:國芯網(wǎng),謝謝 編輯:感知芯視界 Link 5月22日消息,據(jù)外媒報道,臺積電從ASML購買的EUV極紫外光刻機,暗藏后門,可以在必要的時候執(zhí)行遠程...
范登布林克指出,更高的數(shù)值孔徑能提高光刻分辨率。他進一步解釋說,Hyper NA 光刻機將簡化先進制程生產(chǎn)流程,避免因使用 High NA 光刻機進行雙...
阿斯麥稱可遠程癱瘓臺積電光刻機 據(jù)彭博社爆料稱,有美國官員就大陸攻臺的后果私下向荷蘭和中國臺灣官員表達擔(dān)憂。對此,光刻機制造商阿斯麥(ASML)向荷蘭官...
今日看點丨臺積電稱無需ASML新光刻機即可制造下一代A16芯片;傳比亞迪進軍越南受阻
1. 本田裁減中國員工1700 人 或?qū)p少6 月工廠運營天數(shù) ? 由于銷量下滑,本田汽車正在縮減其在中國的全職生產(chǎn)員工隊伍,目前已有約1700名員工同...
4月22日消息,據(jù)法國媒體LeMagIT報道,日本光學(xué)技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商 Hoya Corporation(豪雅)最近遭遇了勒索軟件的攻擊,其總部和多個業(yè)務(wù)部...
英特爾突破技術(shù)壁壘:首臺商用High NA EUV光刻機成功組裝
英特爾的研發(fā)團隊正致力于對這臺先進的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機進行細致的校準工作,以確保其能夠順利融入未...
光刻膠的性能:光刻膠的性能對套刻精度有顯著影響。它決定了圖形的套刻分辨率和邊緣清晰度,光刻膠的收縮和厚度不均勻性都可能導(dǎo)致實際圖案尺寸與設(shè)計尺寸之間的偏差。
ASML公司發(fā)布2024財年一季報,較上季度降幅達到27%
該季度ASML的凈銷售額達到53億歐元,較上季度有所下滑,降幅達到27%。
2024-04-19 標簽:光刻機半導(dǎo)體制造EUV 1012 0
今日看點丨英特爾完成首臺商用高數(shù)值孔徑 EUV 光刻機組裝;聯(lián)發(fā)科發(fā)布天璣 6300 處理器
1. 臺積電估將在第 2 季認列相關(guān)地震損失 30 億元新臺幣 ? 403地震讓臺灣半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)受創(chuàng),臺積電稍早公告,臺灣廠區(qū)在地震后的第三日結(jié)束前完全復(fù)...
2024-04-19 標簽:聯(lián)發(fā)科英特爾光刻機 937 0
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