俄羅斯推出首臺(tái)光刻機(jī)：350nm
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據(jù)外媒報(bào)道，俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測試。俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長Vasily Shpak表示，該設(shè)備可確保生產(chǎn)350納米工藝的芯片。Shpak表示，“我們組裝并制造了第一臺(tái)國產(chǎn)光刻機(jī)。作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線的一部分，目前正在對其進(jìn)行測試。”俄羅斯接下來的目標(biāo)是在2026年制造可以支持130nm工藝的光刻機(jī)。
據(jù)報(bào)道，俄羅斯科學(xué)院下諾夫哥羅德應(yīng)用物理研究所 (IPF RAS) 曾于2022年宣布，正在開發(fā)俄羅斯首套半導(dǎo)體光刻設(shè)備，并對外夸下?？冢哼@套光刻機(jī)能夠使用7nm生產(chǎn)芯片，可于2028年全面投產(chǎn)。
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