光刻機(jī)被稱為“半導(dǎo)體行業(yè)的璀璨明珠”，融合了光學(xué)、流體力學(xué)、表面物理與化學(xué)、精密儀器、軟件和圖像等多個(gè)領(lǐng)域的尖端技術(shù)，其構(gòu)造由十幾萬個(gè)部件組成。全球有超過5000家領(lǐng)先企業(yè)提供相關(guān)設(shè)備，包括來自德國的光學(xué)儀器以及美國的照明系統(tǒng)和計(jì)量設(shè)備，涉及數(shù)千項(xiàng)專利技術(shù)。

據(jù)工信微報(bào)發(fā)文，此次指導(dǎo)目錄是為促進(jìn)首臺（套）重大技術(shù)裝備創(chuàng)新發(fā)展和推廣應(yīng)用，加強(qiáng)產(chǎn)業(yè)、財(cái)政、金融、科技等國家支持政策的協(xié)同。

對于我國的半導(dǎo)體行業(yè)來說，能夠?qū)崿F(xiàn)28nm工藝的國產(chǎn)化，已經(jīng)是非常重要的進(jìn)步了。28nm芯片廣泛應(yīng)用于智能家電、汽車電子、物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備等領(lǐng)域，因此其市場需求依然很大。如果我們的65nm光刻機(jī)能夠成功量產(chǎn)28nm芯片，不僅能降低對外依賴，還能提升國內(nèi)芯片的整體供應(yīng)能力。

根據(jù)工信部發(fā)布的信息，這次國產(chǎn)光刻機(jī)分為兩款：一款是氟化氪光刻機(jī)，另一款是氟化氬光刻機(jī)。我們這里討論的焦點(diǎn)，就是那款氟化氬光刻機(jī)。光刻機(jī)的工作原理是通過特定波長的光線，把設(shè)計(jì)好的芯片電路圖形印刻在硅片上。波長越短，能刻出的電路圖形就越細(xì)，最終也就能制造出工藝更精細(xì)的芯片。

具體來看，氟化氪光刻機(jī)晶圓直徑為300mm（12英寸）；照明波長為248mm；分辨率≤110nm；套刻≤25nm。

相比之下，阿斯麥（ASML）的氟化氪光刻機(jī)型號有TWINSCANNXT：870、TWINSCANXT：860N和TWINSCANXT：860M。這三個(gè)型號，波長均為248mm；分辨率≤110nm。

而指導(dǎo)目錄中更為先進(jìn)的氟化氬光刻機(jī)，其照明波長為193mm，分辨率≤65nm；套刻≤8nm。

這一數(shù)據(jù)與ASML旗下TWINSCANXT：1460K最為接近。該型號照明波長為193mm，分辨率≤65nm。此外，該系統(tǒng)可以在偏振照明下實(shí)現(xiàn)低至57nm的生產(chǎn)分辨率。

光刻機(jī)的精密制造過程對環(huán)境條件有著極為苛刻的要求，任何微小的塵埃或污染物都可能對芯片的質(zhì)量造成嚴(yán)重影響。因此，一個(gè)高度潔凈、穩(wěn)定的工作環(huán)境是光刻機(jī)正常運(yùn)作和高效產(chǎn)出的前提。廣州澳企憑借其深厚的研發(fā)實(shí)力和行業(yè)經(jīng)驗(yàn)，研發(fā)出了實(shí)驗(yàn)室凈化機(jī)，為光刻機(jī)等高端電子設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)提供了堅(jiān)實(shí)的保障。

半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室環(huán)境可以保證室內(nèi)恒溫恒濕以及其他相關(guān)條件的穩(wěn)定性，但是在半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中，其產(chǎn)生的危廢氣體是室內(nèi)通風(fēng)系統(tǒng)無法及時(shí)處理的盲區(qū)部分，因此大多數(shù)的實(shí)驗(yàn)室都會采用循環(huán)通風(fēng)系統(tǒng)及小范圍凈化兩部分組成。實(shí)驗(yàn)室凈化機(jī)不僅采用了先進(jìn)的過濾技術(shù)和密封設(shè)計(jì)，能夠有效去除空氣中的塵埃、微粒、有害氣體等污染物，將實(shí)驗(yàn)室的潔凈度提升至百級甚至更高標(biāo)準(zhǔn)，還配備了智能控制系統(tǒng)，能夠?qū)崟r(shí)監(jiān)測并調(diào)節(jié)室內(nèi)溫濕度、氣流速度等環(huán)境參數(shù)，確保光刻機(jī)工作在最佳狀態(tài)。此外，其高效節(jié)能、低噪音的特點(diǎn)也贏得了業(yè)界的廣泛贊譽(yù)。

結(jié)合此次工信部發(fā)布的《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024年版)》中提到的氟化氪光刻機(jī)和氟化氬光刻機(jī)，廣州澳企的實(shí)驗(yàn)室凈化機(jī)更是成為了這些高端設(shè)備不可或缺的配套設(shè)施。特別是針對氟化氬光刻機(jī)，其193mm的照明波長和≤65nm的分辨率要求極高的環(huán)境潔凈度，廣州澳企的凈化機(jī)能夠完美滿足這一需求，為光刻機(jī)提供了一個(gè)近乎無塵的工作環(huán)境，助力生產(chǎn)出更高質(zhì)量的芯片。

光刻機(jī)與實(shí)驗(yàn)室凈化機(jī)作為半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備，各自承擔(dān)著不可替代的角色。光刻機(jī)以其高精度和穩(wěn)定性確保了芯片制造的質(zhì)量與效率；而實(shí)驗(yàn)室凈化機(jī)則以其高效的過濾和智能的環(huán)境控制為光刻機(jī)提供了堅(jiān)實(shí)的保障。兩者相輔相成，共同推動著中國半導(dǎo)體行業(yè)的蓬勃發(fā)展。

審核編輯 黃宇