半導體濕法清洗是芯片制造過程中的關(guān)鍵工序，用于去除晶圓表面的污染物（如顆粒、有機物、金屬離子、氧化物等），確保后續(xù)工藝的良率與穩(wěn)定性。隨著芯片制程向更小尺寸（如28nm以下）發(fā)展，濕法清洗設(shè)備的重要性日益凸顯，其技術(shù)復雜度與設(shè)備性能直接影響生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。

一、濕法清洗的原理與工藝

清洗原理

濕法清洗通過化學或物理作用去除晶圓表面污染物，主要包括：

化學腐蝕：使用酸性或堿性溶液溶解氧化物或金屬殘留（如硫酸、氫氟酸混合液腐蝕硅氧化物）。

表面活性劑作用：降低表面張力，增強清洗液對顆粒的潤濕與剝離能力。

超聲波輔助：通過高頻振動剝離頑固顆粒（如光刻膠殘留）。

等離子結(jié)合：部分設(shè)備集成等離子清洗，增強表面潔凈度。

2. 典型工藝步驟

以RCA標準清洗為例：

去有機物：用硫酸+過氧化氫溶液去除光刻膠等有機污染物。

去金屬離子：鹽酸+過氧化氫溶液去除金屬污染（如鈉、鈣離子）。

去氧化物：氫氟酸溶液去除硅表面氧化層。

最終漂洗：超純水（DI Water）沖洗，避免二次污染

二、競爭優(yōu)勢

技術(shù)自主性：

突破海外壟斷，掌握單片清洗設(shè)備的高精度噴淋與旋轉(zhuǎn)技術(shù)（專利覆蓋）。

化學液循環(huán)系統(tǒng)可降低30%耗材成本，符合綠色制造趨勢。

產(chǎn)品線全覆蓋：

從研發(fā)型小型設(shè)備（如6寸單片機）到量產(chǎn)型12寸全自動設(shè)備，支持多場景。

本土化服務(wù)：

快速響應(yīng)客戶需求，提供工藝調(diào)試、設(shè)備維護培訓等增值服務(wù)

半導體濕法清洗設(shè)備作為芯片制造的“隱形冠軍”，其技術(shù)壁壘與市場價值日益凸顯。芯矽科技等國內(nèi)廠商的崛起，不僅打破了海外壟斷，更通過技術(shù)創(chuàng)新與本土化服務(wù)推動產(chǎn)業(yè)升級。未來，隨著芯片制程的迭代與綠色制造的需求，濕法清洗設(shè)備將向更高精度、更智能、更環(huán)保的方向發(fā)展，成為半導體產(chǎn)業(yè)鏈中不可或缺的一環(huán)。