已經(jīng)完成，現(xiàn)在可以為客戶提供樣品。通過在其基于極紫外（EUV）的工藝產(chǎn)品中添加另一個尖端節(jié)點，三星再次證明了其在先進晶圓代工市場的領(lǐng)導地位。 與7nm相比，三星的5nm FinFET工藝技術(shù)將邏輯區(qū)域效率提高了25％，功耗降低了20％，性能提高了10％，從而使其能夠擁有更多創(chuàng)
2019-04-18 15:48:47
6010 ，臺積電目前的7nm已經(jīng)廣泛應用在各大半導體企業(yè)的芯片當中，如麒麟980、蘋果A12等。臺積電方面也表示，7nm是其產(chǎn)能提升最快的一代工藝。 目前公開的信息顯示，臺積電7nm工藝共有兩代，第一代在2018年4月份大規(guī)模投產(chǎn)，第二代，將EUV（極紫外光）技術(shù)引入進7nm的商業(yè)生產(chǎn)當
2020-08-23 08:23:005211 推動科技進步的半導體技術(shù)真的會停滯不前嗎？這也不太可能，7nm工藝節(jié)點將開始應用EUV光刻工藝，研發(fā)EUV光刻機的ASML表示EUV工藝將會支持未來15年，部分客戶已經(jīng)在討論2030年的1.5nm工藝路線圖了。
2017-01-22 11:45:423424 傳統(tǒng)的光刻工藝是相對目前已經(jīng)或尚未應用于集成電路產(chǎn)業(yè)的先進光刻工藝而言的，普遍認為 193nm 波長的 ArF 深紫外光刻工藝是分水嶺（見下表）。這是因為 193nm 的光刻依靠浸沒式和多重曝光技術(shù)的支撐，可以滿足從 0.13um至7nm 共9個技術(shù)節(jié)點的光刻需要。
2022-10-18 11:20:2913995 10月10日晚間消息，著名半導體制造公司臺積電宣布了有關(guān)極紫外光刻(EUV)技術(shù)的兩項重磅突破，一是首次使用7nm EUV工藝完成了客戶芯片的流片工作，二是5nm工藝將在六個月后開始試產(chǎn)！
2018-10-11 11:45:233704 中芯國際的7nm工藝發(fā)展跟臺積電的路線差不多，7nm節(jié)點一共發(fā)展了三種工藝，分別是低功耗的N7、高性能的N7P、使用EUV工藝的N7＋，前兩代工藝也沒用EUV光刻機，只有N7＋工藝上才開始用EUV工藝，不過光罩層數(shù)也比較少，5nm節(jié)點寸是充分利用EUV光刻工藝的，達到了14層EUV光罩。
2020-02-28 09:49:163525 翁壽松(無錫市羅特電子有限公司，江蘇無錫214001)1 32 nm/22 nm工藝進展2006年1月英特爾推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特爾將投資90億美元在以下4座
2019-07-01 07:22:23
Tock步伐，工藝進步至7nm，首款產(chǎn)品為面向數(shù)據(jù)中心的GPU。在7nm工藝方面，英特爾提出，光刻技術(shù)將成為7nm乃至更新工藝制程的挑戰(zhàn)。英特爾計劃在進入7nm后才使用EUV光刻（意味著目前的10nm產(chǎn)品
2020-07-07 11:38:14
7nm新工藝的加持：RX 5500 XT可輕輕松松突破2GHz
2021-06-26 07:05:34
，購買或者開發(fā)EUV光刻機是否必要？中國應如何切實推進半導體設備產(chǎn)業(yè)的發(fā)展？EUV面向7nm和5nm節(jié)點所謂極紫外光刻，是一種應用于現(xiàn)代集成電路制造的光刻技術(shù)，它采用波長為10～14納米的極紫外光作為
2017-11-14 16:24:44
，光源是ArF（氟化氬）準分子激光器，從45nm到10/7nm工藝都可以使用這種光刻機，但是到了7nm這個節(jié)點已經(jīng)的DUV光刻的極限，所以Intel、三星和臺積電都會在7nm這個節(jié)點引入極紫外光（EUV
2020-07-07 14:22:55
。但從技術(shù)層面來看，開始領(lǐng)先于AMD的英特爾慢慢被后來者居上，AMD也使勁全力向頂層技術(shù)發(fā)起總攻，如10nm、7nm工藝。在AMD漫長的奮斗下，英特爾稍顯疲態(tài)。有分析師預測，隨著英特爾緩慢的研發(fā)步伐
2018-09-29 17:42:03
設計差異性并更快地推出他們的最終產(chǎn)品?！盕usion Design Platform提供基于7nm極紫外單次曝光的優(yōu)化，支持過孔支柱和連排打孔，以實現(xiàn)最大的設計可布線性和利用率，以及最少的電壓降和電遷移
2020-10-22 09:40:08
`請問PCB蝕刻工藝質(zhì)量要求有哪些？`
2020-03-03 15:31:05
XX nm制造工藝是什么概念？為什么說7nm是物理極限？
2021-10-20 07:15:43
Smith表示，“很高興首次在中國與大家分享英特爾制程工藝路線圖中的多項重要進展，展現(xiàn)了我們持續(xù)推動摩爾定律向前發(fā)展所獲得的豐碩成果?！?b class="flag-6" style="color: red">英特爾公司全球副總裁兼中國區(qū)總裁楊旭英特爾公司全球副總裁兼中國區(qū)總裁楊
2017-09-22 11:08:53
從7nm到5nm，半導體制程芯片的制造工藝常常用XXnm來表示，比如Intel最新的六代酷睿系列CPU就采用Intel自家的14nm++制造工藝。所謂的XXnm指的是集成電路的MOSFET晶體管柵極
2021-07-29 07:19:33
45-50臺的交付量。這其中很大一部分都供給了臺積電，用于擴充5nm，以及7nm產(chǎn)能。中微半導體除光刻機之外，蝕刻機也是5nm制程工藝不可缺少的，目前，全球高端刻蝕機玩家僅剩下應用材料、Lam
2020-03-09 10:13:54
們的投入中，80%的開支會用于先進產(chǎn)能擴增，包括7nm、5nm及3nm，另外20%主要用于先進封裝及特殊制程。而先進工藝中所用到的EUV極紫外光刻機，一臺設備的單價就可以達到1.2億美元，可見半導體
2020-02-27 10:42:16
快照】：極紫外(EUV)光刻技術(shù)一直被認為是光學光刻技術(shù)之后最有前途的光刻技術(shù)之一,國際上對EUV光刻技術(shù)已開展了廣泛的研究[1-4]。在EUV光刻技術(shù)中,EUV光源是其面臨的首要技術(shù)難題。實現(xiàn)EUV
2010-04-22 11:41:29
10nm、7nm等到底是指什么？芯片工藝從目前的7nm升級到3nm后，到底有多大提升呢？
2021-06-18 06:43:04
壇上，其總經(jīng)理兼聯(lián)合CEO劉德音表示，他們早已制造出7nm的SRAM，并確認10nm將在2016年初試產(chǎn)，7nm則預期在2017年Q1開試。報道稱，臺積電非常高興，因為終于超過英特爾了。他們還趁熱預告
2016-01-25 09:38:11
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設備，對芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國際的公報，目...
2021-07-29 09:36:46
目前的GS464V升級到LA664，因此單核性能有較大提升，達到市場上主流設計。至于未來的工藝，龍芯表示目前公司針對7nm的工藝制程對不同廠家的工藝平臺做評估，不過他們沒有透露什么時候跟進7nm工藝
2023-03-13 09:52:27
Intel 22nm光刻工藝背后的故事
去年九月底的舊金山秋季IDF 2009論壇上，Intel第一次向世人展示了22nm工藝晶圓，并宣布將在2011年下半年發(fā)布相關(guān)產(chǎn)品。
2010-03-24 08:52:581085 光刻膠與光刻工藝技術(shù) 微電路的制造需要把在數(shù)量上精確控制的雜質(zhì)引入到硅襯底上的微小 區(qū)域內(nèi),然后把這些區(qū)域連起來以形成器件和VLSI電路.確定這些區(qū)域圖形 的工藝是由光刻來完成的,也就是說,首先在硅片上旋轉(zhuǎn)涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21
0 的34%，而且良率很好，而三星展示的7nm SRAM芯片只有8Mb，更多的是研究性質(zhì)，他們要等EUV光刻工藝成熟。 在ISSCC國際固態(tài)電路會議上，各
2017-02-11 02:21:11277 
本周在火奴魯魯舉行的VLSI（超大規(guī)模集成電路）研討會上，三星首次分享了基于EUV技術(shù)的7nm工藝細節(jié)。
2018-06-22 15:16:00967 ? 前些天，新聞曝光的中芯國際花了1．2億美元從荷蘭ASML買來一臺EUV極紫外光刻機，未來可用于生產(chǎn)7nm工藝芯片，而根據(jù)最新消息稱，長江存儲也迎來了自己的第一臺光刻機，國產(chǎn)SSD固態(tài)硬盤將迎來重大突破。
2018-06-29 11:24:008478 三星官網(wǎng)發(fā)布新聞稿，三星、高通宣布擴大晶圓代工業(yè)務合作，包含高通下一代5G移動芯片，將采用三星7納米LPP（Low-Power Plus）極紫外光（EUV）制程。 新聞稿指出，通過7納米LPP
2018-02-23 07:31:561279 納米電子與數(shù)字技術(shù)研發(fā)創(chuàng)新中心 IMEC 與美國楷登電子( Cadence) 公司聯(lián)合宣布，得益于雙方的長期深入合作，業(yè)界首款 3nm 測試芯片成功流片。該項目采用極紫外光刻(EUV)技術(shù)。
2018-03-19 15:08:308347 。 GlobalFoundries、英特爾、三星和臺積電希望將EUV光刻技術(shù)加入到7nm和5nm生產(chǎn)中。但就像以前一樣，EUV由幾部分組件組成，在芯片制造商能夠引入之前，它們必須整合在一起。
2018-03-31 11:52:005861 率先引入EUV極紫外光刻設備，去年向光刻巨頭ASML一口氣買了10臺EUV設備，要知道ASML去年一年的產(chǎn)能不過才12臺而已，其他廠商買不到設備，必然會影響產(chǎn)能。
2018-04-07 00:30:008927 、臺積電近年來在新工藝方面競爭激烈，為搶奪訂單打得火熱。7nm工藝上，三星計劃全球第一家導入EUV極紫外光刻，原本被寄予厚望，但是新技術(shù)在研發(fā)、調(diào)校和設備上都需要花費更長時間，進展不順。
2018-06-08 13:35:004418 非關(guān)鍵層面上首次嘗試使用EVU極紫外光刻系統(tǒng)，工藝節(jié)點從CLN7FF升級為CLN7FF+，號稱晶體管密度可因此增加20%，而在同樣密度和頻率下功耗可降低10%。 臺積電5nm(CLN5)將繼續(xù)使用荷蘭
2018-05-15 14:35:133793 
5nm、4nm、3nm工藝，直逼 這兩年，三星電子、臺積電在半導體工藝上一路狂奔，雖然有技術(shù)之爭但把曾經(jīng)的領(lǐng)導者Intel遠遠甩在身后已經(jīng)是不爭的事實。
2018-06-08 07:12:003708 問題，工藝延期、產(chǎn)品路線圖不給力等等，不過AMD的追趕也是個重要因素。在半導體芯片市場上，英特爾以往最大的籌碼就是制程工藝領(lǐng)先對手兩三年，但是今年一切變了，英特爾10nm難產(chǎn)，還在使用14nm工藝，AMD的7nm芯片今年就會出貨，制程工藝趕超英特爾不是夢。
2018-06-27 16:29:00548 今年臺積電、三星及Globalfoundries等公司都會量產(chǎn)7nm工藝，第一代7nm工藝將使用傳統(tǒng)的DUV光刻工藝，二代7nm才會上EUV光刻工藝，預計明年量產(chǎn)。那么存儲芯片行業(yè)何時會用上EUV
2018-06-07 14:49:006059 另外，7nm EUV的好處還在于，比多重曝光的步驟要少，也就是相同時間內(nèi)的產(chǎn)量將提升。當然，這里說的是最理想的情況， 比如更好的EUV薄膜以減少光罩的污染、自修正機制過關(guān)堪用等。三星稱，7nm EUV若最終成行，將被證明是成本更優(yōu)的方案。
2018-06-22 15:53:453469 隨著技術(shù)的發(fā)展，今年臺積電、三星及Globalfoundries等公司都會量產(chǎn)7nm工藝，下一代將在2020年進入5nm工藝，2022年進入3nm工藝。目前第一代7nm工藝將使用傳統(tǒng)的DUV光刻工藝，預計到5nm工藝將會上EUV光刻工藝。
2018-08-20 17:41:491149 10月10日晚間消息，著名半導體制造公司臺積電宣布了有關(guān)極紫外光刻(EUV)技術(shù)的兩項重磅突破，一是首次使用7nm EUV工藝完成了客戶芯片的流片工作，二是5nm工藝將在六個月后開始試產(chǎn)！
2018-10-11 08:44:334918 今年4月開始，臺積電第一代7nm工藝(CLN7FF/N7)投入量產(chǎn)，蘋果A12、華為麒麟980、高通“驍龍855”、AMD下代銳龍/霄龍等處理器都正在或?qū)褂盟圃?，但仍在使用傳統(tǒng)的深紫外光刻(DUV)技術(shù)。
2018-10-17 15:44:564730 隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn)，2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了，這是EUV工藝研發(fā)三十年來的一個里程碑。不過EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多技術(shù)挑戰(zhàn)，目前的光源功率以及晶圓產(chǎn)能輸出還沒有
2018-10-30 16:28:403376 現(xiàn)在的EUV光刻機使用的是波長13.5nm的極紫外光，而普通的DUV光刻機使用的是193nm的深紫外光，所以升級到EUV光刻機可以大幅提升半導體工藝水平，實現(xiàn)7nm及以下工藝。
2018-11-01 09:44:264268 作為全球頭號代工廠，臺積電的新工藝正在一路狂奔，7nm EUV極紫外光刻工藝已經(jīng)完成首次流片，5nm工藝也將在2019年4月開始試產(chǎn)。
2018-12-19 15:01:021550 GlobalFoundries、聯(lián)電等國際代工巨頭已經(jīng)紛紛放棄10/7/5nm等更先進工藝，中芯國際承載著無數(shù)人的希望還在努力奮進，去年年中就向荷蘭ASML(阿斯麥)訂購了一臺EUV極紫外光刻機，單價1.2億美元，今年初交付，未來將用于7nm工藝。
2019-02-27 15:48:066183 臺積電指出，5nm制程將會完全采用極紫外光(EUV)微影技術(shù)，因此可帶來EUV技術(shù)提供的制程簡化效益。5nm制程能夠提供全新等級的效能及功耗解決方案，支援下一代的高端移動及高效能運算需求的產(chǎn)品。目前，其他晶元廠的7nm工藝尚舉步維艱，在5nm時代臺積電再次領(lǐng)先。
2019-04-04 16:05:571660 目前華為最新的麒麟980處理器與蘋果的A12處理器均采用了臺積電的7nm工藝，這也是市面上少數(shù)采用7nm工藝的廠商之一。另外此前據(jù)外媒報道，華為今年下半年將推出采用7nm+EUV（極紫外光刻工藝）工藝的麒麟985芯片。
2019-05-07 18:26:023960 彭博報道稱，臺積電已于4月份就開始了蘋果A13芯片的早期測試生產(chǎn)階段，并且計劃在本月進行量產(chǎn)。預計A13芯片將采用臺積電的第二代7nm工藝，并且率先采用EUV光刻技術(shù)。
2019-05-13 16:39:514527 臺積電官方宣布，已經(jīng)開始批量生產(chǎn)7nm N7+工藝，這是臺積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù)，意義非凡，也領(lǐng)先Intel、三星一大步。
2019-05-28 11:20:413233 臺積電官方宣布，已經(jīng)開始批量生產(chǎn)7nm N7+工藝，這是臺積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù)，意義非凡。
2019-05-28 16:18:243401 通過使用三星7nm EUV工藝代替臺積電的7nm工藝，Nvidia可能能夠獲得更多供應。
2019-06-10 09:06:126225 7nm+ EUV節(jié)點之后，臺積電5nm工藝將更深入地應用EUV極紫外光刻技術(shù)，綜合表現(xiàn)全面提升，官方宣稱相比第一代7nm EDV工藝可以帶來最多80%的晶體管密度提升，15%左右的性能提升或者30%左右的功耗降低。
2019-09-26 14:49:114797 日前，高通發(fā)布了新一代旗艦平臺驍龍865、主流平臺驍龍765/765G，分別采用臺積電7nm、三星8nm工藝制造。那么，高通為何在兩個平臺上使用兩種工藝？驍龍865為何沒用最新的7nm EUV？5nm方面高通有何規(guī)劃？
2019-12-09 17:23:236488 7nm是Intel下一代工藝的重要節(jié)點，而且是高性能工藝，其地位堪比現(xiàn)在的14nm工藝，而且它還是Intel首次使用EUV光刻的制程工藝，意義重大。
2019-10-12 14:44:542701 英特爾預計其制造工藝節(jié)點技術(shù)將保持2年一飛躍的節(jié)奏，從2019年的10納米工藝開始，到2021年轉(zhuǎn)向7納米EUV（極紫外光刻），然后在2023年采用5納米，2025年3納米，2027年2納米，最終到2029年的1.4納米。
2019-12-11 10:31:203165 截至目前，華為麒麟990 5G是唯一應用了EUV極紫外光刻的商用芯片，臺積電7nm EUV工藝制造，而高通剛發(fā)布的驍龍765/驍龍765G則使用了三星的7nm EUV工藝。
2019-12-18 09:20:0315995 由于在7nm節(jié)點激進地采用了EUV工藝，三星的7nm工藝量產(chǎn)時間比臺積電要晚了一年，目前采用高通的驍龍765系列芯片使用三星7nm EUV工藝量產(chǎn)。在這之后，三星已經(jīng)加快了新工藝的進度，日前6nm工藝也已經(jīng)量產(chǎn)出貨，今年還會完成3nm GAE工藝的開發(fā)。
2020-01-06 16:13:073254 由于在7nm節(jié)點激進地采用了EUV工藝，三星的7nm工藝量產(chǎn)時間比臺積電要晚了一年，目前采用高通的驍龍765系列芯片使用三星7nm EUV工藝量產(chǎn)。
2020-01-06 16:31:033215 三星宣布，位于韓國京畿道華城市的V1工廠已經(jīng)開始量產(chǎn)7nm 7LPP、6nm 6LPP工藝，這也是全球第一座專門為EUV極紫外光刻工藝打造的代工廠。
2020-02-21 16:19:052214 近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473149 近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 11:42:4529307 在工藝制程方面，臺積電的進度明顯要快于英特爾。其實在2017年的時候，英特爾就指出臺積電7nm并非真實的7nm。而且英特爾呼吁行業(yè)應該統(tǒng)一命名標準，防止命名混亂。英特爾更希望以晶體管密度作為衡量標準。
2020-03-01 08:13:003014 據(jù)國外媒體報道，在芯片的制造過程中，光刻機是必不可少的設備，在芯片工藝提升到7nm EUV、5nm之后，極紫外光刻機也就至關(guān)重要。
2020-03-07 10:50:591943 據(jù)國外媒體報道，在芯片的制造過程中，光刻機是必不可少的設備，在芯片工藝提升到7nm EUV、5nm之后，極紫外光刻機也就至關(guān)重要。
2020-03-07 14:39:545045 臺積電5nm制造工藝基于ULV，也就是紫外線光刻技術(shù)實現(xiàn)，之前的7nm EUV工藝同樣也是基于這項技術(shù)。那么制程的縮小又意味著什么？相比于7nm工藝，5nm工藝可以進一步提升芯片的晶體管密度，提升性能并降低功耗，可廣泛用于PC、智能手機等設備的元器件中。
2020-03-12 14:10:442569 對于芯片制造廠商來說，光刻機的重要性不言而喻，尤其是目前芯片制造工藝已經(jīng)提升至5nm和3nm之后，極紫外光刻機就顯得更為重要。而ASML作為全球唯一有能力制造極紫外光刻機的廠商，他的一舉一動，牽動著所有相關(guān)產(chǎn)業(yè)上下游廠商的心。
2020-04-15 15:44:364093 CFan曾在《芯希望來自新工藝！EUV和GAAFET技術(shù)是個什么鬼？》一文中解讀過EUV（極紫外光刻），它原本是用于生產(chǎn)7nm或更先進制程工藝的技術(shù)，特別是在5nm3nm這個關(guān)鍵制程節(jié)點上，沒有
2020-09-01 14:00:292234 工藝制程走入10nm以下后，臺積電的優(yōu)勢開始顯現(xiàn)出來。在7nm節(jié)點，臺積電優(yōu)先確保產(chǎn)能，以DUV（深紫外光刻）打頭陣，結(jié)果進度領(lǐng)先三星的7nm EUV，吃掉大量訂單，奠定了巨大優(yōu)勢。
2020-09-02 15:58:441967 工藝制程走入10nm以下后，臺積電的優(yōu)勢開始顯現(xiàn)出來。在7nm節(jié)點，臺積電優(yōu)先確保產(chǎn)能，以DUV（深紫外光刻）打頭陣，結(jié)果進度領(lǐng)先三星的7nm EUV，吃掉大量訂單，奠定了巨大優(yōu)勢。
2020-09-02 16:00:292684 關(guān)于芯片工藝，Intel前幾天還回應稱友商的7nm工藝是數(shù)字游戲，Intel被大家誤會了。不過今年Intel推出了新一代的10nm工藝，命名為10nm SuperFin工藝，簡稱10nm SF，號稱是有史以來節(jié)點內(nèi)工藝性能提升最大的一次，沒換代就提升15%性能，比其他家的7nm還要強。
2020-09-27 10:35:063537 
臺積電是第一家將EUV（極紫外）光刻工藝商用到晶圓代工的企業(yè)，目前投產(chǎn)的工藝包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425 10月26日消息，據(jù)國外媒體報道，在芯片制程工藝方面，英特爾在近幾年已經(jīng)落后于臺積電和三星，臺積電的5nm工藝在今年一季度就已大規(guī)模投產(chǎn)，三季度帶來了近10億美元的營收，三星電子也已在利用5nm工藝為相關(guān)客戶代工芯片，而英特爾的7nm還尚未投產(chǎn)，在研發(fā)上還遇到了困難。
2020-10-26 14:56:241320 EUV工藝的，這是臺積電三種7nm工藝版本之一，與其他兩種工藝相比，它會使用EUV光刻機，光刻處理效率更高。 在Zen3是否會上EUV工藝的問題上，AMD官方的態(tài)度一直很模糊，只強調(diào)是改良版的7nm工藝，官方路線圖中直接去掉了EUV的痕跡。 不過臺灣媒體日前提到，AMD的Zen3這次使用的7nm工
2020-10-26 17:49:532077 ASML公司的EUV光刻機全球獨一份，現(xiàn)在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上，臺積電、三星用它生產(chǎn)CPU、GPU等芯片。馬上內(nèi)存芯片也要跟進了，SK海力士宣布明年底量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存。
2020-10-30 10:54:211646 11月5日，世界光刻機巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進博會。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV（極紫外光）光刻機的企業(yè)，由于ASML目前仍不能向中國出口EUV光刻機，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻機。據(jù)悉，該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:465517 制造工藝EUV（極紫外光刻）。Exynos 1080 所采用的 5nm EUV 工藝與 8nm LPP（成熟低功耗）相比，性能提升 14%，功耗降低 30%；與 7nm DUV（深紫外光刻）相比，
2020-11-12 16:48:291670 在5nm、6nm工藝大規(guī)模投產(chǎn)、第二代5nm工藝即將投產(chǎn)的情況下，芯片代工商臺積電對極紫外光刻機的需求也明顯增加。而外媒最新援引產(chǎn)業(yè)鏈消息人士的透露報道稱，臺積電已向阿斯麥下達了2021的極紫外光刻
2020-11-17 17:20:141640 自從芯片工藝進入到7nm工藝時代以后，需要用到一臺頂尖的EUV光刻機設備，才可以制造7nm EUV、5nm等先進制程工藝的芯片產(chǎn)品，但就在近日，又有外媒豪言：這種頂尖的EUV極紫外光刻機，目前全球
2020-12-03 13:46:226379 更多訣竅，領(lǐng)先對手1到2年。 據(jù)悉，三星的1z nm DRAM第三代內(nèi)存已經(jīng)用上了一層EUV，第四代1a nm將增加到4層。EUV光刻機的參與可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產(chǎn)時間、降低成本，并提高性能。 盡管SK海力士、美光等也在嘗試EUV，但層數(shù)過少對
2020-12-04 18:26:542201 這屆CES中英特爾的表現(xiàn)最為搶眼，不僅發(fā)布了多款新品，而且更是在近期接連發(fā)布重大消息。比如英特爾現(xiàn)任CEO司睿博將在2月份辭職，VMWare公司CEO Pat Gelsinger將回歸Intel。此外，英特爾也宣稱公司在7nm工藝上獲得重大進展，股價應聲大漲。
2021-01-14 11:17:011608 會不斷增加，而全球目前唯一能生產(chǎn)極紫外光刻機廠商的阿斯麥，也就大量供應極紫外光刻機。 英文媒體在最新的報道中表示，在芯片制程工藝方面走在行業(yè)前列的臺積電，在今年預計可獲得 18 臺極紫外光刻機，三星和英特爾也將繼續(xù)購買這一類
2021-01-25 17:10:181352 ，對極紫外光刻機的需求會不斷增加，而全球目前唯一能生產(chǎn)極紫外光刻機廠商的阿斯麥，也就大量供應極紫外光刻機。 英文媒體在最新的報道中表示，在芯片制程工藝方面走在行業(yè)前列的臺積電，在今年預計可獲得 18 臺極紫外光刻機，三星和英特爾也將
2021-01-25 17:21:543321 對于臺積電來說，他們今年依然會狂購極紫外光刻，用最先進的工藝來確保自己處于競爭的最有力地位。
2021-01-26 11:21:511137 2600萬片晶圓采用EUV系統(tǒng)進行光刻。隨著半導體技術(shù)的發(fā)展，光刻的精度不斷提高，2021年先進工藝將進入5nm/3nm節(jié)點，極紫外光刻成為必修課，EUV也成為半導體龍頭廠商競相爭奪采購的焦點。未來，極紫外光刻技術(shù)將如何發(fā)展？產(chǎn)業(yè)格局如何演變？我國發(fā)展半導體產(chǎn)業(yè)應如何解決光刻技術(shù)的難題？
2021-02-01 09:30:232588 2月25日消息，據(jù)國外媒體報道，芯片制程工藝提升至5nm的臺積電和三星，已從阿斯麥購買了大量的極紫外光刻機，并且還在大量購買。
2021-02-26 09:22:011530 近日，有外媒稱英特爾最新Meteor Lake的GPU核心可能會交由臺積電公司代工，并且用上臺積電的3nm工藝，加入了EUV光刻技術(shù)。英特爾Meteor Lake處理器預計將于明年正式亮相。
2021-11-24 16:07:161708 臺積電和三星從7nm工藝節(jié)點就開始應用EUV光刻層了，并且在隨后的工藝迭代中，逐步增加半導體制造過程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:202077 
1、IBM的2nm芯片，所有關(guān)鍵功能都是使用EUV光刻機進行刻蝕。而7nm芯片只有在芯片生產(chǎn)的中間和后端環(huán)節(jié)使用EUV光刻機，意味著2nm工藝對EUV光刻機擁有更高的依賴性。
2022-07-05 17:26:497169 EUV光刻機是在2018年開始出現(xiàn)，并在2019年開始大量交付，而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:444523 目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 光刻是半導體工藝中最關(guān)鍵的步驟之一。EUV是當今半導體行業(yè)最熱門的關(guān)鍵詞，也是光刻技術(shù)。為了更好地理解 EUV 是什么，讓我們仔細看看光刻技術(shù)。
2022-10-18 12:54:053180 光刻機譽為“現(xiàn)代半導體行業(yè)皇冠上的明珠”，是一種高度復雜的設備。光刻機是通過紫外光作為“畫筆”，把預先設計好的芯片電路路線書寫在硅晶圓旋涂的光刻膠上，光刻工藝直接決定了芯片中晶體管的尺寸和性能，是芯片生產(chǎn)中最為關(guān)鍵的過程。
2022-10-27 09:39:024118 半導體制造工藝之光刻工藝詳解
2023-08-24 10:38:541223 
三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝
2023-11-23 18:13:02579 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/梁浩斌）近期，2nm工藝被幾大晶圓代工廠推到了風口浪尖處，臺積電、英特爾、三星都在推進2nm的計劃，而距離他們2025年的量產(chǎn)計劃還有三年時間，裝備大戰(zhàn)就已經(jīng)提前展開
2022-06-29 08:32:004635
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