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半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解

jt_rfid5 ? 來(lái)源:Lightigo ? 2023-08-24 10:38 ? 次閱讀
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來(lái)源:Lightigo

審核編輯:湯梓紅

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原文標(biāo)題:【光電集成】半導(dǎo)體制造工藝(一)光刻工藝

文章出處:【微信號(hào):今日光電,微信公眾號(hào):今日光電】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

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    光刻工藝的基本步驟

    傳統(tǒng)的光刻工藝是相對(duì)目前已經(jīng)或尚未應(yīng)用于集成電路產(chǎn)業(yè)的先進(jìn)光刻工藝而言的,普遍認(rèn)為 193nm 波長(zhǎng)的 ArF 深紫外光刻工藝是分水嶺(見(jiàn)下表)。這是因?yàn)?193nm 的光刻依靠浸沒(méi)式
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    淺談半導(dǎo)體制造中的光刻工藝

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    發(fā)表于 06-28 10:07 ?5998次閱讀
    淺談<b class='flag-5'>半導(dǎo)體制造</b>中的<b class='flag-5'>光刻工藝</b>

    半導(dǎo)體制造之光刻工藝講解

    光刻工藝就是把芯片制作所需要的線(xiàn)路與功能做出來(lái)。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見(jiàn)光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上,從而使薄片具有電
    的頭像 發(fā)表于 12-04 09:17 ?5313次閱讀
    <b class='flag-5'>半導(dǎo)體制造</b><b class='flag-5'>之光刻工藝</b>講解

    光刻工藝的主要流程和關(guān)鍵指標(biāo)

    光刻工藝貫穿整個(gè)芯片制造流程的多次重復(fù)轉(zhuǎn)印環(huán)節(jié),對(duì)于集成電路的微縮化和高性能起著決定性作用。隨著半導(dǎo)體制造工藝演進(jìn),對(duì)光刻分辨率、套準(zhǔn)精度和
    的頭像 發(fā)表于 03-27 09:21 ?1495次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻工藝</b>的主要流程和關(guān)鍵指標(biāo)

    最全最詳盡的半導(dǎo)體制造技術(shù)資料,涵蓋晶圓工藝到后端封測(cè)

    ——薄膜制作(Layer)、圖形光刻(Pattern)、刻蝕和摻雜,再到測(cè)試封裝,一目了然。 全書(shū)共分20章,根據(jù)應(yīng)用于半導(dǎo)體制造的主要技術(shù)分類(lèi)來(lái)安排章節(jié),包括與半導(dǎo)體制造相關(guān)的基礎(chǔ)技術(shù)信息;總體流程圖
    發(fā)表于 04-15 13:52

    #半導(dǎo)體制造工藝 UV光刻:基于掩模的光刻

    制造工藝半導(dǎo)體制造集成電路工藝
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    發(fā)布于 :2022年10月15日 14:59:33

    半導(dǎo)體制造工藝》學(xué)習(xí)筆記

    `《半導(dǎo)體制造工藝》學(xué)習(xí)筆記`
    發(fā)表于 08-20 19:40

    半導(dǎo)體制造的難點(diǎn)匯總

    是各種半導(dǎo)體晶體管技術(shù)發(fā)展豐收的時(shí)期。第一個(gè)晶體管用鍺半導(dǎo)體材料。第一個(gè)制造硅晶體管的是德州儀器公司。20世紀(jì)60年代——改進(jìn)工藝此階段,半導(dǎo)體制造
    發(fā)表于 09-02 18:02

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    MEMS<b class='flag-5'>工藝</b>——<b class='flag-5'>半導(dǎo)體制造</b>技術(shù)

    半導(dǎo)體制造之光刻原理、工藝流程

    光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一,是電子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發(fā)劑和成膜樹(shù)脂三種主要成分組成,是一種具有光化學(xué)敏感性的混合液體。其利用光化學(xué)反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影等光刻工藝,
    發(fā)表于 10-09 14:34 ?4644次閱讀
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    的頭像 發(fā)表于 08-26 10:10 ?2033次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻工藝</b>的基本知識(shí)

    光刻工藝中的顯影技術(shù)

    一、光刻工藝概述 光刻工藝半導(dǎo)體制造的核心技術(shù),通過(guò)光刻膠在特殊波長(zhǎng)光線(xiàn)或者電子束下發(fā)生化學(xué)變化,再經(jīng)過(guò)曝光、顯影、刻蝕等工藝過(guò)程,將設(shè)計(jì)
    的頭像 發(fā)表于 06-09 15:51 ?475次閱讀