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臺積電3nm晶圓廠敲定 未來2nm制程也在這

aPRi_mantianIC ? 來源:yxw ? 2019-06-13 14:49 ? 次閱讀
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隨著三星加快7nm EUV工藝量產(chǎn),臺積電領(lǐng)先了一年的7nm先進(jìn)工藝今年會迎來激烈競爭,IBM、NVIDIA以及高通都要加入三星的7nm EUV陣營了。

在先進(jìn)工藝路線圖上,臺積電的7nm去年量產(chǎn),7nm EUV工藝今年量產(chǎn),海思麒麟985、蘋果A13處理器會是首批用戶,明年則會進(jìn)入5nm節(jié)點,2021年則會進(jìn)入3nm節(jié)點,最終在2022年規(guī)模量產(chǎn)3nm工藝。

臺積電從去年就開始啟動3nm晶圓廠的建設(shè)工作,由于晶圓廠對水力、電力資源要求很高,初期的環(huán)評工作很嚴(yán)格,今天***環(huán)保部門公布了臺積電3nm晶圓廠的專案初審,通過了新竹科學(xué)園區(qū)有過寶山用地的申請,這意味著臺積電的3nm晶圓廠最終落地在新竹園區(qū)。

根據(jù)臺積電之前的資料,整個3nm晶圓廠預(yù)計會在2020年正式動工建設(shè),耗資超過4000億新臺幣,折合879億人民幣或者130億美元。

由于摩爾定律逐漸到了物理極限,3nm被認(rèn)為是最后的一代硅基半導(dǎo)體工藝,因為1nm節(jié)點會遭遇嚴(yán)重的干擾。為了解決這個問題,三星宣布在3nm節(jié)點使用GAA環(huán)繞柵極晶體管工藝,通過使用納米片設(shè)備制造出了MBCFET(Multi-Bridge-Channel FET,多橋-通道場效應(yīng)管),該技術(shù)可以顯著增強(qiáng)晶體管性能,主要取代FinFET晶體管技術(shù)。

與三星相比,臺積電并沒有公布過3nm工藝的具體技術(shù)細(xì)節(jié),預(yù)計也會改用全新結(jié)構(gòu)的晶體管工藝,只不過目前尚無明確消息。

而且臺媒稱,臺積電也透露持續(xù)深耕***的決心,預(yù)計把五年后的2納米廠研發(fā)及量產(chǎn)都放在新竹。

臺積電廠務(wù)處資深處長莊子壽表示,假設(shè)要再進(jìn)一步研發(fā)2納米制程,必須將研發(fā)人才留在新竹,避免人才外流,因此從整體產(chǎn)業(yè)、人才布局角度,仍希望將研發(fā)廠房設(shè)于新竹。

臺積電成立于1987年,是全球最大的晶圓專工半導(dǎo)體制造廠,客戶包括蘋果、高通等。其總部位于***新竹的新竹科學(xué)工業(yè)園區(qū)。臺積電公司股票在***證券交易所上市,股票代碼為2330,另有美國存托憑證在美國紐約證券交易所掛牌交易,股票代號為TSM。

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