1濕化學(xué)

1.1濕蝕刻

1.1.1原則

濕法蝕刻工藝的原理是利用化學(xué)溶液將固體材料轉(zhuǎn)化為liquid化合物。由于采用了高選擇性化學(xué)物質(zhì)可以非常精確地適用于每一部電影。對(duì)于大多數(shù)解決方案選擇性大于100:1。

1.1.2需求

液體化學(xué)必須滿足以下要求:

?蒙版層不能被攻擊

?選擇性必須高

?刻蝕過(guò)程必須能夠通過(guò)用水稀釋來(lái)停止

?反應(yīng)產(chǎn)物不能是氣態(tài)的，因?yàn)樗鼈兛赡苷诒纹渌麉^(qū)域

?在整個(gè)過(guò)程中恒定的蝕刻速率

?反應(yīng)產(chǎn)物必須是可溶解的，以避免顆粒

?環(huán)境安全和易于處理是必要的

1.1.3批量蝕刻

在批量蝕刻中，多個(gè)晶圓可以同時(shí)蝕刻、過(guò)濾和循環(huán)泵阻止顆粒到達(dá)晶圓。由于每加工一次晶圓，化學(xué)物質(zhì)的濃度就會(huì)降低，因此必須經(jīng)常更新。腐蝕速率，換句話說(shuō)，每次磨損，必須是眾所周知的，以確保一個(gè)可再生的過(guò)程。精確的回火是必要的，因?yàn)楦g速率隨著增加溫度。

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一個(gè)杠桿可以在水平和垂直方向轉(zhuǎn)移晶圓后的晶片被蝕刻后，蝕刻過(guò)程在不同的槽中用水清洗來(lái)停止，隨后在旋轉(zhuǎn)干燥機(jī)中除去水分。批量蝕刻的優(yōu)點(diǎn)是處理量高，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的蝕刻工具。但是，均勻性較低。

1.1.4噴霧蝕刻

噴射蝕刻可與光刻中的噴射顯影相媲美。由于晶圓的旋轉(zhuǎn)同時(shí)穩(wěn)定地更新了蝕刻化學(xué)的均勻性很好。由于晶圓旋轉(zhuǎn)速度快，晶圓內(nèi)部不會(huì)出現(xiàn)氣泡必須分開(kāi)處理。作為單一晶圓工藝的替代方案，噴射蝕刻可以在多晶圓上進(jìn)行一次一塊硅片。在旋轉(zhuǎn)蝕刻機(jī)中，晶圓被放置在噴管周圍，然后同心旋轉(zhuǎn)。然后，硅片在熱氮?dú)猸h(huán)境中干燥

　　審核編輯：湯梓紅