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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場(chǎng)問題,國產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
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IMEC公司首席執(zhí)行官兼總裁Luc Van den hove首先發(fā)表了主題演講,介紹了公司研究概況,他強(qiáng)調(diào)通過與ASML公司緊密合作,將下一代高分辨率...
比利時(shí)的獨(dú)立半導(dǎo)體高科技研究機(jī)構(gòu)——imec每年都會(huì)在東京舉辦“imec Technology Forum(ITF) Japan”,并介紹他們的年度研發(fā)...
體上,三分之二的調(diào)查參與者認(rèn)為這將產(chǎn)生積極的影響。前往EUV時(shí),口罩的數(shù)量減少了。這是因?yàn)镋UV將整個(gè)行業(yè)帶回單一模式。具有多個(gè)圖案的193nm浸入需要...
三星在奧斯汀的新廠已確認(rèn)將生產(chǎn)非內(nèi)存半導(dǎo)體和系統(tǒng)LSI
鉅亨網(wǎng)援引韓媒報(bào)道稱,為如期在2022 年量產(chǎn) 3 納米芯片,三星將在美國德州奧斯汀的半導(dǎo)體子公司啟動(dòng)EUV專用系統(tǒng) LSI 新廠投資計(jì)劃。據(jù)悉,此項(xiàng)投...
三星電子已決定在美國建立完全采用EUV生產(chǎn)設(shè)備的LSI工廠
據(jù)韓國媒體《Infostock Daily》11月18日引述消息人士報(bào)道,三星電子已決定在美國建立完全采用EUV(極紫外光)生產(chǎn)設(shè)備的LSI(Large...
14億人的戰(zhàn)爭(zhēng): 中國人用了30年望見計(jì)算力的珠峰文 | 史中 日本是一個(gè)喜歡畫面感的民族。 從浮世繪、歌舞伎,到茶道、花道,到活著就是為了打籃球的《灌...
韓國企業(yè)在EUV光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展
在過去的十年中,包括三星電子在內(nèi)的全球公司進(jìn)行了深入的研究和開發(fā),以確保技術(shù)處于領(lǐng)先地位。最近,代工公司(意指三星)開始使用 5 納米 EUV 光刻技術(shù)...
在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入7nm之后,EUV光刻機(jī)就成為兵家必備大殺器了,全球也只有ASML公司能生產(chǎn),單價(jià)達(dá)到10億人民幣一臺(tái)。不過在EUV技術(shù)上,ASML還真...
韓國本土企業(yè)在EUV光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展
據(jù)韓國媒體 BusinessKorea 上周報(bào)道,韓國本土企業(yè)在 EUV 光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展。但并沒有提到是哪一家企業(yè),合理推測(cè)應(yīng)指代韓國整個(gè)半...
韓國加快研發(fā)EUV光刻技術(shù),專利申請(qǐng)量猛增
援引韓媒 BusinessKorea 報(bào)道,以三星為代表的韓國企業(yè)在 EUV 光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展。根據(jù)對(duì)韓國知識(shí)產(chǎn)權(quán)局(KIPO)過去十年(20...
臺(tái)積電正在使用具有EUV層的制造技術(shù)來提高產(chǎn)量
在今年早些時(shí)候,臺(tái)積電表示,公司已在全球范圍內(nèi)部署并運(yùn)行了大約50%的所有極紫外(EUV)光刻工具,這意味著該公司使用的EUV機(jī)器比業(yè)內(nèi)任何其他公司都要...
韓國EUV光刻技術(shù)方面取得極大進(jìn)展 專利申請(qǐng)是國外的兩倍以上
IT之家 11 月 16 日消息 據(jù)韓國媒體 BusinessKorea 上周報(bào)道,韓國本土企業(yè)在 EUV 光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展。但并沒有提到是哪...
臺(tái)積電EUV設(shè)備明年將超50臺(tái) 劍橋大學(xué)繼續(xù)和華為進(jìn)行5G合作
據(jù)臺(tái)灣媒體消息,全年臺(tái)積電已向ASML下單量約15-16臺(tái),而2021年至少13臺(tái),估計(jì)全年需求約可達(dá)16-17臺(tái)。臺(tái)積電在先進(jìn)制程的優(yōu)勢(shì)逐漸擴(kuò)大,與研...
商務(wù)部長(zhǎng)威爾伯·羅斯(Wilbur Ross)宣稱:“關(guān)鍵技術(shù)和新興技術(shù)國家戰(zhàn)略是保護(hù)美國國家安全,確保美國在軍事、情報(bào)和經(jīng)濟(jì)事務(wù)中保持技術(shù)領(lǐng)先地位的重...
三星Exynos 1080處理器 5nm EUV FinFET工藝制造
蘋果A14仿生芯片拉動(dòng)手機(jī)芯片正式跨入了5nm時(shí)代。三星不甘人后,今天發(fā)布的三星Exynos 1080處理器,采用了5nm制程工藝,在性能和功耗控制等方...
紫光展銳ic設(shè)計(jì)給力 6納米工藝的5G芯片的手機(jī)明年將上市
紫光展銳ic設(shè)計(jì)很給力;紫光展銳積極布局5G,除了搭載其6納米5G芯片的手機(jī)將于明年量產(chǎn),展銳還推出了一系列5G產(chǎn)品。 T7520很快會(huì)達(dá)到CS(商業(yè)樣...
2020-11-12 標(biāo)簽:IC設(shè)計(jì)socEUV 1221 0
6nm EUV的5G SoC:搭載虎賁T7520的手機(jī)將于明年量產(chǎn)
今年2月,紫光展銳發(fā)布了首款采用SoC單芯片設(shè)計(jì)的5G方案虎賁T7520,采用了6nm EUV工藝制造,擁有多層極紫外光刻技術(shù)加持,相比初代7nm晶體管...
荷蘭ASML中國總裁全力支持向中國出口光刻機(jī) 11月5日,在第三屆中國國際進(jìn)口博覽會(huì)現(xiàn)場(chǎng),荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)全球副總裁、中國區(qū)總裁沈波在接...
EUV受限,ASML開綠燈,向中國展示7nmDUV光刻機(jī)
正在進(jìn)行的第三屆進(jìn)博會(huì)上,光刻機(jī)巨頭ASML也參展了,并且還在自己的展臺(tái)上曬出展示了DUV光刻機(jī)。
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