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標簽 > 白光干涉儀
干涉儀是一種對光在兩個不同表面反射后形成的干涉條紋進行分析的儀器。其基本原理就是通過不同光學元件形成參考光路和檢測光路。
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金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物應用及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在半導體及微納制造領域,光刻膠剝離工藝對金屬結構的保護至關重要。傳統(tǒng)剝離液易造成金屬過度蝕刻,影響器件性能。同時,光刻圖形的精確測量是保障工藝質量...
避免寄生柵極效應和斜紋 Mura 的光刻膠剝離裝置及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在半導體和顯示面板制造過程中,光刻膠剝離環(huán)節(jié)若處理不當,易引發(fā)寄生柵極效應和斜紋 Mura 問題,嚴重影響產品性能和顯示質量。同時,光刻圖形的精確...
解鎖微觀測量新境界:光學3D輪廓儀與共聚焦顯微成像的結合應用
在當今科技飛速發(fā)展的時代,眾多行業(yè)正朝著精細化、微型化的方向大步邁進。當芯片上的晶體管小到肉眼不可見,當手機攝像頭鏡片需要納米級平整度,傳統(tǒng)測量工具還能...
引言 在半導體制造和微納加工領域,光刻膠剝離是光刻工藝的重要環(huán)節(jié)。水平式光刻膠剝離工藝憑借其獨特優(yōu)勢在工業(yè)生產中占據(jù)一席之地,而準確測量光刻圖形對保障工...
納米壓印制備硅基 OLED 微型顯示器的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 硅基 OLED 微型顯示器憑借高分辨率、高對比度等優(yōu)勢,在虛擬現(xiàn)實、增強現(xiàn)實等領域應用廣泛。納米壓印技術為其制備提供了新方向,而精確測量光刻圖形是...
在高速光通信與精密傳感領域,保偏光纖的偏振穩(wěn)定性是系統(tǒng)性能的“生命線”。然而,傳統(tǒng)檢測手段受限于靈敏度低、無法實現(xiàn)分布式測量,難以捕捉微弱的偏振耦合信號...
入駐眾多科研機構,優(yōu)可測白光干涉儀助力前沿成果發(fā)布
近年來,優(yōu)可測白光干涉儀在科研領域得到廣泛應用,被多篇科研論文使用,在CFRP/Al鉆孔監(jiān)測、光纖微透鏡制造、超快3D打印等領域的研究成果,展示了其在高...
氧化鎵襯底表面粗糙度和三維形貌,優(yōu)可測白光干涉儀檢測時長縮短至秒級!
傳統(tǒng)AFM檢測氧化鎵表面三維形貌和粗糙度需要20分鐘左右,優(yōu)可測白光干涉儀檢測方案僅需3秒,百倍提升檢測效率!
優(yōu)可測白光干涉儀:助力手機玻璃蓋板品質提升 | 行業(yè)應用
手機蓋板材料從塑料、金屬到玻璃/陶瓷,再到納米紋理玻璃,不斷革新以滿足消費者需求。其中,影響手機玻璃蓋板關鍵因素包括蝕刻深度、角度、粒子統(tǒng)計、粗糙度等。...
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