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標簽 > 光刻機
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近年來國內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)投資一片火熱,各地爭相引進上馬半導體建設項目,由此造成一哄而上、同質(zhì)化競爭等現(xiàn)象。專家表示,集成電路投資門檻高、風險大,國內(nèi)出現(xiàn)的...
中國半導體產(chǎn)業(yè)芯片國產(chǎn)化正在加速
美國限制芯片出口的政策,引起了不少國人的震動,更推動了中國芯片產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展,希望國產(chǎn)芯片能早日擺脫“卡脖子”的問題。
國際知名市場調(diào)研機構(gòu)Yole Développement公布《2020年熱像儀和熱探測器報告》。
從前文的仿真結(jié)果可知,運動臺系統(tǒng)一階模態(tài)頻率為55Hz,而設計要求運動臺系統(tǒng)的一階模態(tài)頻率大于70Hz,從而可知初始的設計不能滿足系統(tǒng)性能要求,需要對系...
世界首顆光芯片將誕生 中國打破技術(shù)封鎖,開辟新科技之路
近段時間,中國迎來一個好消息,世界上首顆光芯片即將誕生,一旦投入使用,那么無疑會替代如今的光刻機,這讓西方國家不得不羨慕,如今科技飛速發(fā)展,美西方國家對...
是干法刻蝕中最常見的一種形式,其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體,由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,從而形成了等離子或離子,電離氣體原子...
2020年,全球晶圓市場實現(xiàn)持續(xù)增長。專業(yè)晶圓代工廠受益的同時,產(chǎn)業(yè)鏈頂端的光刻機制造商也隨著悶聲發(fā)大財。
ASML新動態(tài):ASML已完成1nm芯片EUV光刻機設計
根據(jù)其所公布的內(nèi)容來看,ASML 對于 3 納米、2 納米、1.5 納米、1 納米,甚至是小于 1 納米的工藝都做了清楚的發(fā)展規(guī)劃,代表著 ASML 基...
近些年,美國對華為芯片實施打壓和制裁,不僅僅是華為需要解決問題,也是中國半導體企業(yè)需要解決芯片的問題。
AMSL宣布:無須美國許可同意可向中國供貨DUV光刻機,但EUV受限
光刻機,在整個芯片生產(chǎn)制造環(huán)節(jié),是最最最核心的設備,技術(shù)難度極高。在全球光刻機市場,日本的尼康、佳能,和荷蘭的ASML,就占據(jù)了市場90%以上份額。而最...
光刻機的霸主無疑是荷蘭ASML,其預計2017年收入將增長25%,主要是光刻機越來越復雜、昂貴(一臺EUV極紫外光刻機就得七八個億人民幣),市場需求又越來越高。
截至2019年4月15日,科創(chuàng)板共申報了72家企業(yè),其中半導體行業(yè)企業(yè)共9家,7家來自上海,6家辦公地址都在浦東張江。張江可謂是中國半導體企業(yè)的搖籃,下...
光刻機行業(yè)需求空間廣闊,國產(chǎn)設備有優(yōu)勢嗎?
光刻機技術(shù)壁壘高且投資占比大,芯片尺寸的縮小以及性能的提升依賴于光刻技術(shù)的發(fā)展。
SK 海力士 M16 新廠已竣工:首次使用極紫外輻射(EUV)光刻機在生產(chǎn)存儲芯片
存儲芯片廠商 SK 海力士 2 月 1 日宣布,其公司位于韓國首爾南部利川市的 M16 新廠已經(jīng)竣工,SK 海力士將首次使用極紫外輻射(EUV)光刻機在...
半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展落后,這是已經(jīng)形成的共識,也是以美國為首的西方國家打壓我們的重點領域,因為被他們拿住了七寸,一時間,讓不過人感覺我們的發(fā)展陷入了困境。
清華大學工程物理系教授唐傳祥研究組與來自亥姆霍茲柏林材料與能源研究中心(HZB)以及德國聯(lián)邦物理技術(shù)研究院(PTB)的合作團隊,報告了一種新型粒子加速器...
美國時間2月15日,格芯宣布與美國國防部達成戰(zhàn)略合作關(guān)系,利用紐約州馬耳他鎮(zhèn)的Fab 8工廠來供應穩(wěn)定可靠的半導體。Fab 8始建于格芯從AMD獨立出來...
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