對于 7 納米制程，三星和臺積電兩大晶圓代工龍頭都早已入手布局，以便爭奪 IC 設(shè)計業(yè)者們的訂單。其中，日前傳出三星原定在 2018 年破土動工的韓國華城 18 號生產(chǎn)線，動工時間已經(jīng)被提前到了 2017 年的 11 月，以便在 2019 年能夠進入 7 納米制程的量產(chǎn)階段。其中，18 號生產(chǎn)線將會架設(shè) 10 多臺極紫外光（EUV）設(shè)備，以強化生產(chǎn)效能。

　　至于，臺積電在 7 納米制程的布局，根據(jù)臺積電高層之前在法說會上的說法，表示目前已經(jīng)有 12 個產(chǎn)品設(shè)計定案，這使得第一代 7 納米制程將會在 2017 年底或 2018 年達(dá)成量產(chǎn)。至于，第二代的 7 納米制程則會在 2019 年達(dá)成量產(chǎn)的目標(biāo)，制程中也將導(dǎo)入EUV的技術(shù)。因此，在不論是三星，或者臺積電都將在 7 納米制程上都將引入 EUV 技術(shù)的情況下，而這種被視為延續(xù)摩爾定律的設(shè)備，正是被寄望能推動未來制程進步的重要關(guān)鍵。

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　　我們關(guān)注從一個芯片制程到另一個制程的變化。這些技術(shù)清楚地知道進入7納米制程的重要意義，它們自然而然假定從物理上看下一代芯片制程技術(shù)會碰到不可逾越的問題，從而使得摩爾定律終結(jié)。這樣考慮是正確的，過去也的確出現(xiàn)了巨大的挑戰(zhàn)，但芯片產(chǎn)業(yè)曾擊退這些挑戰(zhàn)；于是，許多人錯誤地相信產(chǎn)業(yè)會再次擊退挑戰(zhàn)。我的看法是，可能會成功，也可能不會，但物理并非唯一的挑戰(zhàn)。