動(dòng)態(tài)

• 發(fā)布了文章 2023-05-25 11:19

  晶圓鍵合機(jī)中的無油真空系統(tǒng)

  

  晶圓鍵合機(jī)主要用于將晶圓通過真空環(huán)境, 加熱, 加壓等指定的工藝過程鍵合在一起, 滿足微電子材料, 光電材料及其納米等級(jí)微機(jī)電元件的制作和封裝需求. 晶圓鍵合機(jī)需要清潔干燥的高真空工藝環(huán)境, 真空度一般要求 5E-4 mbar 至 5E-8 mbar, 因?yàn)槿绻麉㈦s了其他氣體雜雜質(zhì), 會(huì)影響到器件的性能. 無油干式真空泵搭配分子泵是晶圓鍵合機(jī)真空系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)配

  晶圓 系統(tǒng)

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• 發(fā)布了文章 2023-05-25 11:12

  分析儀器中的真空系統(tǒng)(分流分子泵應(yīng)用)

  

  分析儀器對(duì)于真空技術(shù)的需求非常復(fù)雜. 在基于控制成本的情況下, 對(duì)真空泵性能和空間限制要求也很高. 需要在設(shè)計(jì)階段就考慮要達(dá)到更高的靈敏度, 分辨率和樣品通量, 明顯改善數(shù)據(jù)管理等目標(biāo), 以及新分析系統(tǒng)中成本和空間的優(yōu)化, 在這個(gè)過程中, 真空系統(tǒng)至關(guān)重要, 上海伯東德國(guó) Pfeiffer SplitFlow? 智能分流分子泵滿足分析儀器設(shè)備廠家要求并接受定

  分析儀器 系統(tǒng)

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2023-05-25 11:07

  銷售維修渦輪分子泵 HiPace 350-800

  

  產(chǎn)品型號(hào)：HiPace 350-800 品牌：德國(guó) Pfeiffer 產(chǎn)地：德國(guó)

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2023-05-25 10:55

  銷售維修普發(fā)渦輪分子泵 HiPace 10-300

  

  產(chǎn)品型號(hào)：HiPace 10-300 品牌：德國(guó) Pfeiffer 產(chǎn)地：德國(guó)

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• 發(fā)布了文章 2023-05-25 10:27

  KRi 射頻離子源應(yīng)用于國(guó)產(chǎn)離子束濺射鍍膜機(jī) IBSD

  

  上海伯東客戶某高校使用國(guó)產(chǎn)品牌離子束濺射鍍膜機(jī)用于金屬薄膜制備, 工藝過程中, 國(guó)產(chǎn)離子源鎢絲僅使用 18個(gè)小時(shí)就會(huì)燒斷, 必須中斷鍍膜工藝更換鎢絲, 無法滿足長(zhǎng)時(shí)間離子束濺射鍍膜的工藝要求, 導(dǎo)致薄膜質(zhì)量低的情況. 客戶需要離子源的穩(wěn)定工作時(shí)間不低于 48個(gè)小時(shí), 經(jīng)過伯東推薦最終改用美國(guó) KRi 射頻離子源 RFICP 100 替換原有的國(guó)產(chǎn)離子源, 單

  射頻 工藝 離子源

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• 發(fā)布了方案 2023-05-25 10:22

  KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應(yīng)用

  

  上海伯東美國(guó) KRi 考夫曼離子源 KDC 系列, 通過加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 離子源增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出低電流高能量寬束型離子束, 通過同時(shí)的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 實(shí)現(xiàn)輔助鍍膜 IBAD.

  電子 離子源

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• 發(fā)布了方案 2023-05-25 10:18

  KRi 射頻離子源 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用

  

  上海伯東美國(guó) KRi 考夫曼品牌 RF 射頻離子源, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 IBD 離子束沉積是其典型的應(yīng)用.

  射頻 離子源

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• 發(fā)布了方案 2023-05-25 10:10

  KRi 考夫曼離子源表面預(yù)清潔 Pre-clean 應(yīng)用

  

  上海伯東代理美國(guó) KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發(fā)系統(tǒng), PLD 脈沖激光系統(tǒng)等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進(jìn)行預(yù)清潔 Pre-clean 的工藝, 對(duì)基材表面有機(jī)物清洗, 金屬氧化物的去除等, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應(yīng)力, 工藝效率等！

  硅片 離子源

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• 發(fā)布了方案 2023-05-24 17:22

  美國(guó) KRi 大尺寸射頻離子源樹脂鏡片高性能 AR 工藝

  

  上海伯東美國(guó) KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380, 利用高均勻性的離子分布及高穩(wěn)定的離子能量成功搭配于 1米7 的大型蒸鍍?cè)O(shè)備, 解決了在樹脂基材鏡頭上無法達(dá)到高質(zhì)量鍍膜要求的問題, 同時(shí)也提升了企業(yè)生產(chǎn)效能.

  Ar 離子源

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2023-05-11 16:45

  美國(guó) KRi 霍爾離子源,真空鍍膜離子源

  

  產(chǎn)品型號(hào)：eH 400 產(chǎn)地：美國(guó) 類型：霍爾型 品牌：KRi

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