99精品伊人亚洲|最近国产中文炮友|九草在线视频支援|AV网站大全最新|美女黄片免费观看|国产精品资源视频|精彩无码视频一区|91大神在线后入|伊人终合在线播放|久草综合久久中文

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

柔性玻璃的制備方法

工程師 ? 來源:網(wǎng)絡整理 ? 作者:h1654155205.5246 ? 2019-03-10 11:04 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

柔性玻璃的制備方法

1、浮法工藝

采用浮法技術(shù)進行生產(chǎn)柔性玻璃的廠家有旭硝子、電氣硝子等。目前,常用的拉薄成形工藝有兩種:徐冷拉薄法和低溫拉薄法。采用浮法工藝的優(yōu)點是可以連續(xù)生產(chǎn)大噸位和大規(guī)格的產(chǎn)品,但在生產(chǎn)柔性玻璃時面臨的問題較多:

①采用浮法生產(chǎn)柔性玻璃,隨著玻璃厚度的減薄,拉引量會越來越低,使浮法工藝大噸位生產(chǎn)優(yōu)勢減弱;

②隨著玻璃厚度的減薄,需要增加拉邊機的數(shù)量,這就造成拉薄區(qū)長度增加;

③浮法成形時,玻璃帶浮于錫液表面,玻璃下表面會被錫液污染,形成滲錫層,對于厚度極薄且有柔軟性的柔性玻璃后續(xù)處理困難很大。

2、溢流下拉法

溢流下拉法是以康寧公司為代表制備柔性玻璃常用的生產(chǎn)工藝。

優(yōu)點:

①生產(chǎn)玻璃的厚度可達到0.05mm左右,玻璃兩個邊部可采用對輥控制;

②可以進行雙面加熱和冷卻,非常適合卷繞;

③易于實現(xiàn)溫度控制。

缺點:

①制造柔性玻璃基板,需要平衡性良好的調(diào)整下拉熔融玻璃的張力和保持熔融玻璃的橫向張力;

②溢流口處整個板寬方向玻璃液溢出量要一致等。

3、狹縫下拉法

將熔融玻璃液導入鉑合金所制成的槽中,從槽底的狹縫流出,利用自身重力及向下的拉力拉制成柔性玻璃。在生產(chǎn)中柔性玻璃表面與狹縫接觸容易受到狹縫的形狀、材質(zhì)的影響,平整度較差造成玻璃表面品質(zhì)變差,需進行二次拋光,才能保證電子顯示的要求。

4、氣相沉積法

在氣相中反應,在石英基板或液錫上生成很薄的玻璃。品質(zhì)較好,但很難大規(guī)模生產(chǎn)。

5、將玻璃板端部加熱軟化,用對輥或拉邊機拉制成柔性玻璃。易批量化生產(chǎn),品質(zhì)高,但還在研究階段。

柔性玻璃的制備方法

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 柔性屏
    +關(guān)注

    關(guān)注

    1

    文章

    165

    瀏覽量

    22050
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    MEMS制造中玻璃的刻蝕方法

    在MEMS中,玻璃因具有良好的絕緣性、透光性、化學穩(wěn)定性及可鍵合性(如與硅陽極鍵合),常被用作襯底、封裝結(jié)構(gòu)或微流體通道基板。玻璃刻蝕是制備這些微結(jié)構(gòu)的核心工藝,需根據(jù)精度要求、結(jié)構(gòu)尺寸及玻璃
    的頭像 發(fā)表于 07-18 15:18 ?183次閱讀

    漢思新材料取得一種PCB板封裝膠及其制備方法的專利

    漢思新材料取得一種PCB板封裝膠及其制備方法的專利漢思新材料(深圳市漢思新材料科技有限公司)于2023年取得了一項關(guān)于PCB板封裝膠及其制備方法的發(fā)明專利(專利號:CN20231015
    的頭像 發(fā)表于 06-27 14:30 ?165次閱讀
    漢思新材料取得一種PCB板封裝膠及其<b class='flag-5'>制備</b><b class='flag-5'>方法</b>的專利

    淺談半導體薄膜制備方法

    本文簡單介紹一下半導體鍍膜的相關(guān)知識,基礎(chǔ)的薄膜制備方法包含熱蒸發(fā)和濺射法兩類。
    的頭像 發(fā)表于 06-26 14:03 ?339次閱讀
    淺談半導體薄膜<b class='flag-5'>制備</b><b class='flag-5'>方法</b>

    Micro OLED 陽極像素定義層制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    優(yōu)勢,為光刻圖形測量提供了可靠手段。 ? Micro OLED 陽極像素定義層制備方法 ? 傳統(tǒng)光刻工藝 ? 傳統(tǒng) Micro OLED 陽極像素定義層制備常采用光刻剝離工藝。首先在基板上沉積金屬層作為陽極材料,接著旋涂光刻膠,
    的頭像 發(fā)表于 05-23 09:39 ?140次閱讀
    Micro OLED 陽極像素定義層<b class='flag-5'>制備</b><b class='flag-5'>方法</b>及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    LPCVD方法在多晶硅制備中的優(yōu)勢與挑戰(zhàn)

    本文圍繞單晶硅、多晶硅與非晶硅三種形態(tài)的結(jié)構(gòu)特征、沉積技術(shù)及其工藝參數(shù)展開介紹,重點解析LPCVD方法在多晶硅制備中的優(yōu)勢與挑戰(zhàn),并結(jié)合不同工藝條件對材料性能的影響,幫助讀者深入理解硅材料在先進微納制造中的應用與工藝演進路徑。
    的頭像 發(fā)表于 04-09 16:19 ?785次閱讀
    LPCVD<b class='flag-5'>方法</b>在多晶硅<b class='flag-5'>制備</b>中的優(yōu)勢與挑戰(zhàn)

    ?石墨烯的基本特性?,制備方法?和應用領(lǐng)域

    的方式鍵合形成單層六邊形蜂窩晶格。它具有出色的導電性、導熱性和機械強度,這些特性使得石墨烯在多個領(lǐng)域具有廣泛的應用前景。 ?石墨烯的制備方法?: 近年來,科學家們研發(fā)出了多種石墨烯的制備方法
    的頭像 發(fā)表于 01-14 11:02 ?871次閱讀

    淺談制備精細焊粉(超微焊粉)的方法

    制備精細焊粉的方法有多種,以下介紹五種常用的方法
    的頭像 發(fā)表于 01-07 16:00 ?376次閱讀
    淺談<b class='flag-5'>制備</b>精細焊粉(超微焊粉)的<b class='flag-5'>方法</b>

    玻璃基板、柔性基板和陶瓷基板的優(yōu)劣勢

    在半導體封裝領(lǐng)域,玻璃基板、柔性基板和陶瓷基板各自具有獨特的優(yōu)勢和劣勢,這些特性決定了它們在不同應用場景中的適用性。
    的頭像 發(fā)表于 12-25 10:50 ?1641次閱讀
    <b class='flag-5'>玻璃</b>基板、<b class='flag-5'>柔性</b>基板和陶瓷基板的優(yōu)劣勢

    不同材料的 EBSD 樣品制備方法

    EBSD技術(shù)的重要地位與樣品制備基礎(chǔ)經(jīng)濟快速發(fā)展以來,電子背散射衍射技術(shù)(EBSD)便在金屬材料研究領(lǐng)域嶄露頭角,成為不可或缺的關(guān)鍵工具,有力地促進了材料科學研究的持續(xù)進展。EBSD技術(shù)的核心
    的頭像 發(fā)表于 12-17 15:06 ?1118次閱讀
    不同材料的 EBSD 樣品<b class='flag-5'>制備</b><b class='flag-5'>方法</b>

    單面磷化銦晶片的制備方法有哪些?

    單面磷化銦晶片的制備方法主要包括以下步驟: 一、基本制備流程 研磨:采用研磨液對InP(磷化銦)晶片進行研磨。研磨液通常包含水、Al2O3(氧化鋁)和懸浮劑,其中Al2O3的粒徑通常在400
    的頭像 發(fā)表于 12-11 09:50 ?407次閱讀
    單面磷化銦晶片的<b class='flag-5'>制備</b><b class='flag-5'>方法</b>有哪些?

    基于石英玻璃外延GaN的工藝改進方法有哪些?

    基于石英玻璃外延GaN的工藝改進方法主要包括以下幾個方面: 一、晶圓片制備優(yōu)化 多次減薄處理: 采用不同材料的漿液和磨盤對石英玻璃進行多次減薄處理,可以
    的頭像 發(fā)表于 12-06 14:11 ?521次閱讀
    基于石英<b class='flag-5'>玻璃</b>外延GaN的工藝改進<b class='flag-5'>方法</b>有哪些?

    氮化硅薄膜的特性及制備方法

    小、化學穩(wěn)定性好以及介電常數(shù)高等一系列優(yōu)點。本文將主要介紹了氮化硅薄膜的制備方法、特性及其在半導體器件制造中的具體應用,重點對比低壓化學氣相沉積(LPCVD)和等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)兩種制備工藝,并詳細解析低應
    的頭像 發(fā)表于 11-29 10:44 ?2240次閱讀
    氮化硅薄膜的特性及<b class='flag-5'>制備</b><b class='flag-5'>方法</b>

    透射電鏡(TEM)樣品制備方法

    透射電子顯微鏡(TEM)是研究材料微觀結(jié)構(gòu)的重要工具,其樣品制備是關(guān)鍵步驟,本節(jié)旨在解讀TEM樣品的制備方法。 ? 透射電子顯微鏡(TEM)是研究材料微觀結(jié)構(gòu)的重要工具,其樣品制備是關(guān)
    的頭像 發(fā)表于 11-26 11:35 ?2317次閱讀
    透射電鏡(TEM)樣品<b class='flag-5'>制備</b><b class='flag-5'>方法</b>

    氮化硅薄膜制備方法及用途

    一、氮化硅薄膜制備方法及用途 氮化硅(Si3N4)薄膜是一種應用廣泛的介質(zhì)材料。作為非晶態(tài)絕緣體,氮化硅薄膜的介電特性優(yōu)于二氧化硅,具有對可移動離子較強的阻擋能力、結(jié)構(gòu)致密、針孔密度小、化學穩(wěn)定性好
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:33 ?1703次閱讀
    氮化硅薄膜<b class='flag-5'>制備</b><b class='flag-5'>方法</b>及用途

    柔性測斜儀數(shù)據(jù)異常故障分析及解決方法

    、不準確等,這些問題嚴重影響了測量的準確性和可靠性。本文將針對柔性測斜儀數(shù)據(jù)異常故障進行深入分析,并提出相應的解決方法,以幫助用戶更好地使用和維護柔性測斜儀。測量
    的頭像 發(fā)表于 11-20 14:37 ?845次閱讀
    <b class='flag-5'>柔性</b>測斜儀數(shù)據(jù)異常故障分析及解決<b class='flag-5'>方法</b>