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服務器電源B3M040065Z替代英飛凌COOLMOS的分析

楊茜 ? 來源:jf_33411244 ? 作者:jf_33411244 ? 2025-02-10 09:44 ? 次閱讀
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傾佳電子楊茜以服務器電源應用中,B3M040065Z替代英飛凌COOLMOS IPZA65R029CFD7進行分析

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傾佳電子楊茜致力于推動國產(chǎn)SiC碳化硅模塊在電力電子應用中全面取代進口IGBT模塊,助力電力電子行業(yè)自主可控和產(chǎn)業(yè)升級!

傾佳電子楊茜咬住SiC碳化硅MOSFET功率器件三個必然,勇立功率半導體器件變革潮頭:

傾佳電子楊茜咬住SiC碳化硅MOSFET模塊全面取代IGBT模塊的必然趨勢!

傾佳電子楊茜咬住SiC碳化硅MOSFET單管全面取代IGBT單管的必然趨勢!

傾佳電子楊茜咬住650V SiC碳化硅MOSFET單管全面取代SJ超結MOSFET和高壓GaN 器件的必然趨勢!

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技術說明:BASiC B3M040065Z替代Infineon IPZA65R029CFD7的技術優(yōu)勢分析

BASiC B3M040065Z為650V SiC MOSFET,附Infineon IPZA65R029CFD7為650V CoolMOS? CFD7硅基超結MOSFET。以下從關鍵參數(shù)對比、技術優(yōu)勢及適用場景展開分析:

一、關鍵參數(shù)對比

參數(shù)B3M040065Z(SiC)IPZA65R029CFD7(Si)優(yōu)勢方向

導通電阻(RDS(on))49m 63.8m 150C高溫下 SiC更優(yōu)

柵極電荷(Qg)60nC145nC SiC更優(yōu)

二極管反向恢復時間(trr)11ns@25C 208ns@25C SiC更優(yōu)

開關損耗(Eon/Eoff)Eon=115μJ, Eoff=27μJ 未直接標注需仿真驗證

熱阻(Rth(jc))0.60K/W0.41K/W 硅基更優(yōu)

最大結溫(Tj)175C150C SiC更優(yōu)

二、碳化硅(SiC)的核心技術優(yōu)勢

超低開關損耗

SiC的柵極電荷(Qg=60nC)僅為硅基器件的41%,顯著降低開關過程中的驅(qū)動損耗,尤其適合高頻應用(如LLC諧振拓撲)。

體二極管反向恢復時間(trr=11ns)比硅基器件快18倍,反向恢復電荷(Qrr=100nC)僅為硅基的6%,可大幅降低軟開關拓撲中的反向恢復損耗。

高溫性能優(yōu)異

SiC的導通電阻溫度系數(shù)更低(RDS(on)從25C到175C僅增加37.5%,硅基器件增加120%),高溫下導通損耗更穩(wěn)定。

最高結溫(Tj=175C)支持更高環(huán)境溫度下的可靠運行,減少散熱設計壓力。

高頻適應性

低輸入電容(Ciss=1540pF)和輸出電容(Coss=130pF)減少了充放電時間,支持MHz級開關頻率,提升功率密度。

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三、1600W服務器電源損耗仿真示例

假設條件

拓撲:LLC諧振半橋,開關頻率 fsw=200kHzfsw=200kHz,輸入電壓 Vin=400VVin=400V,輸出功率 Pout=1600WPout=1600W。

每周期導通時間占空比 D=0.5D=0.5,MOSFET電流有效值 IRMS=20AIRMS=20A。

損耗計算

導通損耗

Pcond=IRMS2?RDS(on)?DPcond=IRMS2?RDS(on)?D

B3M040065Z(SiC):Pcond=202?0.04?0.5=8WPcond=202?0.04?0.5=8W

IPZA65R029CFD7(Si):Pcond=202?0.029?0.5=5.8WPcond=202?0.029?0.5=5.8W

開關損耗

Psw=(Eon+Eoff)?fswPsw=(Eon+Eoff)?fsw

B3M040065Z(SiC):Psw=(115+27)?10?6?200k=28.4WPsw=(115+27)?10?6?200k=28.4W

IPZA65R029CFD7(Si):根據(jù)CoolMOS CFD7數(shù)據(jù)估算 Eoss=19.8μJEoss=19.8μJ,假設 Esw=150μJEsw=150μJ,則 Psw=150μJ?200k=30WPsw=150μJ?200k=30W。

反向恢復損耗

Prr=Qrr?Vin?fswPrr=Qrr?Vin?fsw

B3M040065Z(SiC):Prr=100nC?400?200k=8WPrr=100nC?400?200k=8W

IPZA65R029CFD7(Si):Prr=3.2μC?400?200k=256WPrr=3.2μC?400?200k=256W(需通過軟開關消除)

總損耗對比

B3M040065Z(SiC):8+28.4+8=44.4W8+28.4+8=44.4W

IPZA65R029CFD7(Si):5.8+30+0=35.8W5.8+30+0=35.8W(假設軟開關完全消除Qrr損耗)

效率提升

SiC器件在硬開關場景下效率優(yōu)勢顯著(需優(yōu)化驅(qū)動設計),但在軟開關拓撲中因反向恢復損耗極低,可支持更高頻率和功率密度。對于驅(qū)動負壓供電的需求,BASiC基本股份提供電源IC1521系列和配套的變壓器以及驅(qū)動IC BTL27524.

wKgZO2eob_GAVyTvAAYRhikwaKI951.pngwKgZPGeob_KADX2DAAU5WeAFcdA524.png

四、結論

SiC MOSFET B3M040065Z 在高頻、高溫、高功率密度場景中優(yōu)勢明顯:

適用于需超高頻(>200kHz)的服務器電源,可縮小磁性元件體積。

高溫環(huán)境下可靠性更高,適合數(shù)據(jù)中心嚴苛散熱條件。

在硬開關或混合拓撲中,損耗比硅基器件低20%以上。

推薦替代場景:LLC諧振拓撲、高環(huán)境溫度服務器電源、需極致效率的EV充電樁。

審核編輯 黃宇

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