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三星電子或2026年將HBM4基底技術(shù)生產(chǎn)外包給臺(tái)積電

要長(zhǎng)高 ? 2024-10-10 15:25 ? 次閱讀
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據(jù)媒體報(bào)道,摩根士丹利(大摩)的分析指出,三星電子預(yù)計(jì)將于2026年將其HBM4基底技術(shù)的生產(chǎn)外包給臺(tái)積電,并計(jì)劃采用12nm至6nm的先進(jìn)制程技術(shù)。同時(shí),展望未來(lái)五年,該領(lǐng)域有望實(shí)現(xiàn)15%至20%的年均復(fù)合成長(zhǎng)率。

大摩的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)分析師詹家鴻進(jìn)一步透露,三星已計(jì)劃在2026年將HBM4基底技術(shù)的生產(chǎn)任務(wù)轉(zhuǎn)交給臺(tái)積電。面對(duì)市場(chǎng)需求的強(qiáng)勁增長(zhǎng),臺(tái)積電正加速其產(chǎn)能擴(kuò)張步伐,并預(yù)計(jì)在2025年將資本支出提升至380億美元。

此外,在高性能計(jì)算(HPC)和人工智能AI)領(lǐng)域需求的強(qiáng)勁推動(dòng)下,臺(tái)積電原本計(jì)劃在2026年將CoWoS技術(shù)的產(chǎn)能擴(kuò)大至每月8萬(wàn)片。然而,由于英偉達(dá)對(duì)該技術(shù)的需求異常旺盛,臺(tái)積電已決定將這一產(chǎn)能擴(kuò)充計(jì)劃提前至2025年底前完成。因此,臺(tái)積電在未來(lái)五年內(nèi)有望實(shí)現(xiàn)15%至20%的年均復(fù)合成長(zhǎng)率。

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