中微公司的電感耦合等離子體（ICP）刻蝕設備Primo nanova系列第500臺反應腔順利付運國內一家先進的半導體芯片制造商。

近日，中微半導體設備（上海）股份有限公司（以下簡稱“中微公司”）的電感耦合等離子體（ICP）刻蝕設備Primo nanova系列第500臺反應腔順利付運國內一家先進的半導體芯片制造商。這是中微公司的又一重要里程碑，標志著ICP刻蝕設備的刻蝕性能、機臺穩(wěn)定性和大規(guī)模量產能力已得到先進邏輯和存儲客戶的廣泛認可。本批次運付的ICP刻蝕設備Primo nanova系列產品，均來自該客戶的重復訂單。

此次付運的Primo nanova是中微公司針對先進的工藝節(jié)點與生產線的各種關鍵應用，基于電感耦合（ICP）技術研發(fā)的12英寸刻蝕設備，適用于先進的邏輯芯片、DRAM存儲芯片以及3DNAND存儲芯片的刻蝕。

中微公司Primo nanova Primo nanova最多可配置六個刻蝕反應腔和兩個可選的除膠反應腔。其中，刻蝕反應腔采用對稱設計，具有高反應氣體通量，其內部涂有的高致密性、耐等離子體侵蝕材料，減少刻蝕的負載效應并保證了更高的工藝重復性和生產率。

此外，Primo nanova發(fā)射天線的低電容耦合 3D線圈設計，可實現(xiàn)均勻的等離子密度，減少等離子體對陶瓷頂蓋的轟擊。Primo nanova的下電極采用了可實現(xiàn)多區(qū)動態(tài)溫控的靜電吸盤，或可選用能實現(xiàn)更多區(qū)域溫度調節(jié)的 Durga 靜電吸盤，使其加工的晶圓內的關鍵尺寸達到高度均勻性?？蛻舯硎痉浅？粗豍rimo nanova在大規(guī)模生產中穩(wěn)定可靠的性能表現(xiàn)、顯著提升的生產率和相對較低的生產成本等方面的優(yōu)勢。

憑借獨特的創(chuàng)新技術和差異化設計，中微公司等離子體刻蝕設備不斷擴大市場占有率，在國內外半導體前道設備行業(yè)占據領先地位。

2023年，中微公司營業(yè)收入約62.64億元，較2022年增加約15.24億元，同比增長約32.15%。其中，2023年刻蝕設備收入約47.03億元，同比增長約49.43%。占公司營業(yè)收入約 75.1% 的刻蝕設備在2021年和2022年分別增長了55.4%和57.1%。公司2023年新增訂單總金額約83.6億元，較2022年增加約20.4億元，同比增長達32.3%，其中刻蝕設備新增訂單達69.5億元，同比增長約60.1%。此外，中微公司綜合競爭優(yōu)勢不斷增強，各項營運KPI指標已達到并在一些方面超過了國際先進半導體設備企業(yè)水平。在過去的十年中，中微公司的營業(yè)收入一直以高于35%的年平均增長速度持續(xù)增長。

中微公司副總裁、ICP產品部總經理陳煌琳談及這一付運里程碑時表示，中微公司始終緊跟先進制程工藝發(fā)展的最前沿，堅持原創(chuàng)創(chuàng)新設計，和國際領先的半導體客戶公司同步前行。中微公司總結過往經驗形成的“四個十大”的企業(yè)文化中，“產品開發(fā)的十大原則”首要強調的就是 “為達到設備的最高性能和客戶最嚴要求而開發(fā)”。正是中微公司的領先技術及專業(yè)服務使我們的刻蝕設備產品贏得了廠商的青睞，這是一種榮譽，更是一種動力。未來，我們也將持續(xù)為客戶和市場提供性能優(yōu)越、高生產效率和高性價比產品，不斷促進技術創(chuàng)新、引領行業(yè)發(fā)展的同時幫助客戶實現(xiàn)技術和盈利目標。

審核編輯：劉清