99精品伊人亚洲|最近国产中文炮友|九草在线视频支援|AV网站大全最新|美女黄片免费观看|国产精品资源视频|精彩无码视频一区|91大神在线后入|伊人终合在线播放|久草综合久久中文

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

支持高功率應(yīng)用的RDL技術(shù)解析

CHANBAEK ? 來源:學(xué)術(shù)搬運工Up主 ? 作者:學(xué)術(shù)搬運工Up主 ? 2023-12-06 18:26 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

如之前的介紹用于 IC 封裝的再分布層(RDL)技術(shù)及晶圓級封裝中的窄間距RDL技術(shù)及應(yīng)用]技術(shù)通常用于芯片封裝中的信號電源引腳映射,用于實現(xiàn)芯片與封裝之間的連接。然而,對于高功率應(yīng)用,尤其是需要傳輸大電流或高功率的電路,額外的考慮和技術(shù)措施是必要的。

以下是一些支持高功率的RDL技術(shù)和策略:

(1). 金屬線選擇:對于高功率應(yīng)用, RDL中使用的金屬線材料需要具備低電阻和高導(dǎo)熱性能。例如,采用銅作為金屬線材料,可以降低線路電阻,并提高導(dǎo)熱性能,以便更好地分散熱量。

(2). 線寬和厚度增加:對于高功率應(yīng)用,RDL中的金屬線寬度和厚度通常需要增加,以增加電流傳輸?shù)哪芰?。這可以通過優(yōu)化工藝參數(shù)來實現(xiàn),例如,在制造過程中采用更多的薄膜沉積或更厚的金屬層。

(3). 熱管理:對于高功率應(yīng)用,熱管理至關(guān)重要。有效的熱管理可以通過添加散熱結(jié)構(gòu)、熱沉、熱傳導(dǎo)路徑等手段來實現(xiàn)。在RDL設(shè)計中,可以考慮增加散熱結(jié)構(gòu),例如散熱金屬填充或其他有助于熱量傳導(dǎo)和散熱的結(jié)構(gòu)。

(4). 絕緣材料選擇:對于高功率應(yīng)用,絕緣材料在RDL中的選取也很重要。選擇低介電常數(shù)的絕緣材料可以降低信號延遲和損耗,同時具備較好的絕緣性能。此外,有些絕緣材料也具備較高的導(dǎo)熱性能,可以幫助熱量的傳導(dǎo)和散熱。

(5). 布線規(guī)則優(yōu)化:在設(shè)計和布線過程中,還需要優(yōu)化布線規(guī)則,以確保高功率信號的穩(wěn)定傳輸。這包括合理的電流密度分布、避免高功率線路之間的相互干擾以及對電流路徑進行充分考慮等。

因此,對于高功率應(yīng)用,RDL技術(shù)需要綜合考慮金屬線材料選擇、線寬和厚度增加、熱管理、絕緣材料選擇和布線規(guī)則優(yōu)化等因素。這些技術(shù)和策略的采用可以提供更好的功率傳輸能力和熱管理性能,以適應(yīng)高功率應(yīng)用的需求。

如下圖所示的高功率RDL方案的橫截面示意圖,此設(shè)計適用于需要厚銅的應(yīng)用,例如用于功率芯片的應(yīng)用。由于電鍍銅 UBM被化學(xué)鍍NiAu (E-less) NiAu UBM取代,因此 后者的RDL可以做得更厚,使其更堅固。

圖片

CuNi RDL 高功率應(yīng)用與 Cu RDL 窄間距應(yīng)用具有類似的工藝流程,如下圖所示:

圖片

主要區(qū)別在于在電鍍 Cu 的頂部增加了一層薄薄的電鍍 Ni 層,它們共同形成 CuNi RDL。

電鍍鎳層有兩個用途,首先,它充當(dāng)定義著陸焊盤開口的 PI2 層具有非常好的附著力的表面,比銅層好得多。憑借出色的附著力,可以直接在CuNi RDL頂部的PI開口中進行化學(xué)鍍鎳,而不會有分層或電解液滲入PI2層下方的風(fēng)險。

使用CuNi RDL方法,可以降低工藝成本、時間和設(shè)備利用率,因為不需要Cu UBM,所以相對更昂貴光刻和電鍍步驟可以省略。特別是通過省略種子層濺射、銅電鍍、光刻、剝離光刻膠和蝕刻等工藝來實現(xiàn)成本節(jié)約。

CuNi RDL 適用于高功率應(yīng)用,添加了 Ni,并且能夠?qū)⒄麄€ RDL 層鍍得更厚。下圖顯示了兩種方案,一種是帶錫球的,另一種是提供具有高支架的 UBM,并結(jié)合 CuNi RDL 設(shè)計。

圖片

上圖是顯示形成了一個高支架 NiAu UBM,下圖是一個帶有額外錫球的較小NiAu UBM?;瘜W(xué)鎳(E-less Ni)直接沉積在PI2層開口內(nèi),形成與RDL Ni相連的實際UBM。在實現(xiàn)化學(xué)鍍鎳的沉積之前,通過去除氧化鎳來重新活化RDL鎳?;瘜W(xué)鍍 Ni 和電鍍 RDL Ni 結(jié)合良好,沒有任何空隙。通過在 PI2 層頂部略微重疊化學(xué)鍍 Ni 覆蓋層。Ni UBM 帶有一層薄薄的沉金(immersion Au)。

如下圖顯示,電鍍鎳 (Ni RDL) 具有更結(jié)晶的外觀,而化學(xué)鍍鎳具有更無定形的結(jié)構(gòu)。這是因為化學(xué)鎳中沉積了約 7% 的磷 (P)。電解液中的還原劑中含有磷化合物,因此,一些P與Ni共沉積。

圖片

在化學(xué)鍍 NiAu 工藝之后,通常完成錫球焊?;蛘?,化學(xué)鎳可以鍍高達25μm,用作各向異性導(dǎo)電薄膜(ACF)或各向異性導(dǎo)電粘合劑(ACA)、ACF/ACA上的倒裝芯片應(yīng)用。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 半導(dǎo)體
    +關(guān)注

    關(guān)注

    335

    文章

    28938

    瀏覽量

    238449
  • IC封裝
    +關(guān)注

    關(guān)注

    4

    文章

    188

    瀏覽量

    27243
  • 芯片封裝
    +關(guān)注

    關(guān)注

    11

    文章

    578

    瀏覽量

    31476
  • 晶圓級封裝
    +關(guān)注

    關(guān)注

    5

    文章

    41

    瀏覽量

    11671
  • 功率芯片
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    112

    瀏覽量

    15651
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    芯片設(shè)計中再分布層(RDL)技術(shù)的優(yōu)勢

    Redistribution layer (再分布層,RDL),是添加到集成電路或微芯片中以重新分配電氣連接的金屬層。這種RDL技術(shù)是一種用于集成電路(IC)的先進封裝解決方案,允許將多個芯片集成到
    的頭像 發(fā)表于 12-06 18:18 ?4w次閱讀
    芯片設(shè)計中再分布層(<b class='flag-5'>RDL</b>)<b class='flag-5'>技術(shù)</b>的優(yōu)勢

    晶圓級封裝中的窄間距RDL技術(shù)

    上篇文章提到用于 IC 封裝的再分布層(RDL)技術(shù)Redistribution layer, RDL 的基本概念是將 I/O 焊盤的位置分配到芯片的其他位置,即用RDL轉(zhuǎn)接到錫球焊接
    的頭像 發(fā)表于 12-06 18:19 ?1.7w次閱讀
    晶圓級封裝中的窄間距<b class='flag-5'>RDL</b><b class='flag-5'>技術(shù)</b>

    先進封裝RDL-first工藝研究進展

    隨著摩爾定律逐步達到極限,大量行業(yè)巨頭暫停了 7 nm 以下工藝的研發(fā),轉(zhuǎn)而將目光投向先進封裝領(lǐng)域。其中再布線先行( RDL-first ) 工藝作為先進封裝技術(shù)的重要組成部分,因其具備良率
    的頭像 發(fā)表于 12-07 11:33 ?3024次閱讀
    先進封裝<b class='flag-5'>RDL</b>-first工藝研究進展

    充電樁負載測試系統(tǒng)技術(shù)解析

    設(shè)備。本文將深入解析該系統(tǒng)的技術(shù)架構(gòu)與核心功能。 一、系統(tǒng)技術(shù)架構(gòu) 現(xiàn)代充電樁負載測試系統(tǒng)采用模塊化設(shè)計,主要由功率負載單元、數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)、控制平臺三部分構(gòu)成。
    發(fā)表于 03-05 16:21

    通中國技術(shù)支持團隊大概多少人,如何才能獲得官方技術(shù)團隊支持?謝謝

    通中國技術(shù)支持團隊大概多少人,如何才能獲得官方技術(shù)團隊支持?謝謝
    發(fā)表于 02-02 11:50

    【下載】《功率脈沖電源》

    作為高等院校脈沖功率技術(shù)專業(yè)師生的教學(xué)參考書。目錄緒論0.1功率脈沖電源的進展0.2能量壓縮的基本概念0.3
    發(fā)表于 04-11 19:18

    功率LED怎么散熱?

    功率LED極為節(jié)約能源,而且與比其它技術(shù)相比,LED每瓦電發(fā)出更高的亮度。例如普通功率LED每瓦可以提供80流明,而節(jié)能燈(CFL)可以
    發(fā)表于 09-27 09:11

    氮化鎵功率半導(dǎo)體技術(shù)解析

    氮化鎵功率半導(dǎo)體技術(shù)解析基于GaN的高級模塊
    發(fā)表于 03-09 06:33

    有償求RDL布線圖

    有償求RDL布線圖
    發(fā)表于 09-10 09:42

    集微連線:板級封裝潛力無窮 RDL工藝勇挑大梁

    、AIoT和HPC應(yīng)用不斷崛起,給了這項技術(shù)更大的發(fā)展空間。而作為實現(xiàn)扇出型板級封裝的核心技術(shù),RDL(Redistribution Layer,重布線層)更是為實現(xiàn)芯片的異構(gòu)集成奠定了堅實的基礎(chǔ)。 為了更好理清
    發(fā)表于 11-02 14:10 ?2796次閱讀
    集微連線:板級封裝潛力無窮 <b class='flag-5'>RDL</b>工藝勇挑大梁

    芯片先進封裝里的RDL

    文章來源:學(xué)習(xí)那些事 原文作者:新手求學(xué) RDL是一層布線金屬互連層,可將I/O重新分配到芯片的不同位置。 Redistribution layer(RDL)是將半導(dǎo)體封裝的一部分電連接到另一
    的頭像 發(fā)表于 09-20 16:29 ?2144次閱讀
    芯片先進封裝里的<b class='flag-5'>RDL</b>

    先進封裝中RDL工藝介紹

    電層頂部創(chuàng)建圖案化金屬層,然后將IC的輸入/輸出(I/O)重新分配到新位置。新位置通常位于芯片邊緣,可以使用標準表面貼裝技術(shù)(SMT)將 IC連接到印刷電路板(PCB)。 RDL工藝使得設(shè)計人員能夠以緊湊且高效的方式放置芯片,從而減少器件的整體占地面積。 資料來源:Lam
    的頭像 發(fā)表于 01-03 10:27 ?2962次閱讀
    先進封裝中<b class='flag-5'>RDL</b>工藝介紹

    碳化硅功率器件的封裝技術(shù)解析

    碳化硅(SiC)功率器件因其低內(nèi)阻、耐壓、高頻率和結(jié)溫等優(yōu)異特性,在電力電子系統(tǒng)中得到了廣泛關(guān)注和應(yīng)用。然而,要充分發(fā)揮SiC器件的性能,封裝技術(shù)至關(guān)重要。本文將詳細
    的頭像 發(fā)表于 02-03 14:21 ?650次閱讀

    芯片封裝中的RDL(重分布層)技術(shù)

    封裝中的RDL(Redistribution Layer,重分布層)是集成電路封裝設(shè)計中的一個重要層次,主要用于實現(xiàn)芯片內(nèi)電氣連接的重新分配,并且在封裝中起到連接芯片和外部引腳之間的橋梁作用。RDL的設(shè)計和實現(xiàn)直接影響到封裝的電氣性能、可靠性和制造成本。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 17:08 ?2179次閱讀
    芯片封裝中的<b class='flag-5'>RDL</b>(重分布層)<b class='flag-5'>技術(shù)</b>

    先進封裝中的RDL技術(shù)是什么

    前面分享了先進封裝的四要素一分鐘讓你明白什么是先進封裝,今天分享一下先進封裝四要素中的再布線(RDL)。
    的頭像 發(fā)表于 07-09 11:17 ?663次閱讀
    先進封裝中的<b class='flag-5'>RDL</b><b class='flag-5'>技術(shù)</b>是什么