硅片切割作為硅片加工工藝過(guò)程中最關(guān)鍵的工藝點(diǎn)，

其加工質(zhì)量直接影響整個(gè)生產(chǎn)全局及后續(xù)電池片工藝制備。

圖1-硅片切割示意圖

圖2-硅片樣品圖

目前各類硅片平均厚度為 75μm~140μm，使用多線切割方式制成，硅片切割大型化、薄片化、高良率、高效率，是各大廠家重點(diǎn)的提升方向。

但隨著切割過(guò)程中金剛線不斷磨損變細(xì)，槽距發(fā)生變化，影響硅片的厚度、表面形貌，導(dǎo)致成品率下降。

常見(jiàn)問(wèn)題有 厚度不均勻、線痕明顯、翹曲度高、TTV過(guò)大、斷線、崩邊等。

針對(duì)此常見(jiàn)問(wèn)題，優(yōu)可測(cè)光譜共焦位移傳感器AP系列提供完美的在線解決方案。

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高精度、小尺寸、小光斑、不受材質(zhì)影響

AP系列光譜共焦位移傳感器具有高精度、小尺寸、小光斑、不受材質(zhì)影響的特點(diǎn)

輕松測(cè)量硅片厚度和表面形貌的微小變化。

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專用微調(diào)云臺(tái)&輔助軟件可輕松設(shè)定

傳統(tǒng)的線激光對(duì)射測(cè)厚無(wú)法保證安裝時(shí)處于完全同軸的狀態(tài)，精度有所損失。

而優(yōu)可測(cè)光譜共焦AP系列通過(guò)易操作的專用微調(diào)云臺(tái)和輔助軟件，輕松調(diào)整光軸，測(cè)量結(jié)果更精準(zhǔn)，更穩(wěn)定。

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實(shí)測(cè)案例

圖5-掃描示意圖

圖6-掃描數(shù)據(jù)圖

利用三組傳感器分別以垂直于線痕的方式放置在硅片的上、中、下側(cè)，實(shí)時(shí)在線輸出硅片的厚度、TTV、線痕和翹曲等重要數(shù)據(jù)。

篩選不良品，避免流入下一道工序，造成更多的成本損失。

最終提高出廠良率，減少客訴。

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不僅僅是太陽(yáng)能硅片?。?/p>

新能源電池極片、玻璃、鋼板壓延，塑料片材、包裝薄膜等等場(chǎng)景，均可使用優(yōu)可測(cè)AP系列雙頭精準(zhǔn)在線測(cè)厚。

想了解更多行業(yè)案例，

關(guān)注小優(yōu)博士，后期繼續(xù)給大家分享吧

審核編輯黃宇