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Nvidia聲稱在芯片生產(chǎn)速度方面有所突破

半導(dǎo)體芯科技SiSC ? 來(lái)源:半導(dǎo)體芯科技SiSC ? 作者:半導(dǎo)體芯科技SiS ? 2023-04-07 17:06 ? 次閱讀
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來(lái)源:半導(dǎo)體芯科技編譯

臺(tái)積電與半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML計(jì)劃采用Nvidia的 "cuLitho "軟件庫(kù)來(lái)簡(jiǎn)化芯片生產(chǎn)的一個(gè)關(guān)鍵部分。

Nvidia表示已經(jīng)找到了一種方法,可以讓科技行業(yè)以更快的速度生產(chǎn)下一代芯片,同時(shí)降低能源成本。

Nvidia首席執(zhí)行官Jensen Huang在該公司的GTC活動(dòng)上宣布,這家GPU制造商已經(jīng)開(kāi)發(fā)出一種方法,可以簡(jiǎn)化芯片制造過(guò)程中的一個(gè)關(guān)鍵部分,即光刻技術(shù)。光刻技術(shù)本質(zhì)上是利用光在硅片上創(chuàng)造復(fù)雜的圖案,以形成微觀的晶體管。

臺(tái)積電和英特爾等芯片制造商使用昂貴的***,通過(guò) "光罩 "或 "網(wǎng)罩 "投射光線,從而在硅晶圓上打印出圖案。為了打印出納米級(jí)的圖案,半導(dǎo)體制造商必須依靠所謂的計(jì)算光刻技術(shù)(在新窗口中打開(kāi))或?qū)iT的計(jì)算機(jī)模型來(lái)優(yōu)化光罩,防止制造過(guò)程中出現(xiàn)缺陷。

問(wèn)題是,計(jì)算光刻技術(shù)需要大量的計(jì)算和數(shù)據(jù)處理;Jensen稱它是 "芯片設(shè)計(jì)和制造中最大的計(jì)算工作量"。因此,需要大規(guī)模的數(shù)據(jù)中心,迫使芯片制造商在計(jì)算資源和電力方面花費(fèi)巨大。

作為回應(yīng),Nvidia正在推出 "cuLitho",該公司稱這種軟件庫(kù)可以將計(jì)算光刻的速度提高到40倍。Jensen舉例,使用現(xiàn)有的基于CPU的方法,Nvidia H100企業(yè)級(jí)GPU的一個(gè)網(wǎng)紋可能需要兩周時(shí)間來(lái)處理。有了cuLitho,一個(gè)芯片制造商只需要一個(gè)8小時(shí)的輪班。

在另一個(gè)例子中,Jensen補(bǔ)充說(shuō):"臺(tái)積電可以通過(guò)在500個(gè)DGX H100系統(tǒng)上使用cuLitho加速,減少他們用于計(jì)算光刻的40,000臺(tái)CPU服務(wù)器。"

這也將使臺(tái)積電的計(jì)算***功率需求從35兆瓦減少到只有5兆瓦。此外,cuLitho有望幫助制造商縮短構(gòu)建芯片的原型設(shè)計(jì)期,同時(shí)幫助他們達(dá)到2納米及以下的處理器設(shè)計(jì)。

Nvidia花了四年時(shí)間開(kāi)發(fā)cuLitho,它在該公司的企業(yè)GPU硬件上運(yùn)行。為Nvidia和蘋(píng)果公司制造芯片的臺(tái)積電公司計(jì)劃從6月開(kāi)始對(duì)cuLitho進(jìn)行 "資格認(rèn)證",Jensen補(bǔ)充說(shuō)。***制造商ASML也在與該公司合作,在未來(lái)將cuLitho整合到其產(chǎn)品中。

Nvidia補(bǔ)充說(shuō):"在短期內(nèi),使用cuLitho的工廠可以幫助每天生產(chǎn)3到5倍的光罩--芯片設(shè)計(jì)的模板--使用比目前配置少9倍的功率。"從長(zhǎng)遠(yuǎn)來(lái)看,cuLitho將實(shí)現(xiàn)更好的設(shè)計(jì)規(guī)則、更高的密度、更高的產(chǎn)量和人工智能驅(qū)動(dòng)的光刻技術(shù)。"

審核編輯:湯梓紅

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