ASML正致力于新一代High-NA光刻機制造，每臺預計售價4億美元
近日，據外媒路透社報道稱，全球最先進的光刻機生產廠商ASML正致力于進行新一代光刻機的制造，預計第一臺會在明年完工，將在2025能夠正式投入使用，每臺新光刻機售價預計在4億美元左右。
新光刻機采用了High-NA光刻技術，High-NA指的是高數(shù)值孔徑，據了解，這種High-NA光刻技術能降低66%的尺寸，也就意味著芯片制程能夠進一步得到升級，芯片也將獲得更高的性能，2nm之后的技術都得用這種技術來實現(xiàn)。High-NA光刻技術被認為是延續(xù)摩爾定律的關鍵。
不過采用了High-NA光刻技術的光刻機體積會比之前的光刻機要大30%左右，據悉重量會達到200噸，大小將會和雙層巴士差不多大。
目前AMSL在High-NA光刻技術上還有一些壓力，因為雖然光刻機是ASML生產的，但是ASML有著幾百家零件供應商，對供應商的依賴性比較嚴重，所以一旦供應鏈出了問題，那么ASML的整個光刻機產業(yè)鏈都將受到影響。
審核編輯 黃昊宇
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