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季豐電子新增應(yīng)用在MOS等高壓IV Curve和高壓熱點(diǎn)定位

上海季豐電子 ? 來源:上海季豐電子 ? 作者:陳勝蘭 ? 2021-10-15 11:50 ? 次閱讀
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季豐電子新增加高壓IV Curve和高壓熱點(diǎn)定位,主要應(yīng)用在MOS,SiC,IGBT等高壓產(chǎn)品的失效分析,IV Curve掃描電壓范圍在±3000V,通過IV Curve好壞品對(duì)比,我們可協(xié)助判斷壞品是否有異常,一般的失效模式為:Short,Open,Leakage,High resistance,找到異常的條件后再進(jìn)行下一步的熱點(diǎn)定位分析。

熱點(diǎn)定位機(jī)臺(tái)有InGaAs,OBIRCH,Thermal三種,均可通過IC正面或背面進(jìn)行定位,找出缺陷位置,目前InGaAs&OBIRCH最高電壓可達(dá)到3000V,而Thermal可進(jìn)行非破壞定位,協(xié)助判斷是封裝異常還是IC異常。

熱點(diǎn)定位機(jī)臺(tái)主要應(yīng)用為:

37adf2ca-2b5d-11ec-82a8-dac502259ad0.png

高壓定位原理:

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(a) IC frondside 影像+OBIRCH ;(b) OBIRCH signal

384a6114-2b5d-11ec-82a8-dac502259ad0.png

(a) IC frondside 影像+InGaAs ;(b) InGaAs emission

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編輯:jq

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原文標(biāo)題:季豐電子新增3000V高壓IV Curve和高壓熱點(diǎn)定位

文章出處:【微信號(hào):zzz9970814,微信公眾號(hào):上海季豐電子】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

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