山東威海南海新區(qū)管委會消息顯示,1月23日,南海新區(qū)舉行了2021年項(xiàng)目集中簽約儀式,11個項(xiàng)目集中簽約,總投資額超40億元。
據(jù)悉,此次簽約的項(xiàng)目包括內(nèi)資項(xiàng)目和外資項(xiàng)目,涉及高端裝備制造、新一代信息技術(shù)、碳材料(石墨烯)、“互聯(lián)網(wǎng)+”等戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè),包括光刻膠核心材料、中宏芯片等項(xiàng)目。
據(jù)威海南海新區(qū)消息,光刻膠核心材料項(xiàng)目建筑面積3萬平方米,計劃打造國內(nèi)唯一、世界第二的包含顏料綠G58生產(chǎn)的新材料生產(chǎn)基地。
報道指出,此次簽約后,中宏芯片項(xiàng)目計劃將公司總部搬至南海新區(qū),從事傳感模塊開發(fā)與制造,為消費(fèi)類電子、工業(yè)控制、軍工及汽車電子等領(lǐng)域提供傳感芯片解決方案。
責(zé)任編輯:xj
-
芯片
+關(guān)注
關(guān)注
459文章
52481瀏覽量
440620 -
半導(dǎo)體
+關(guān)注
關(guān)注
335文章
28886瀏覽量
237568 -
光刻膠
+關(guān)注
關(guān)注
10文章
339瀏覽量
30941
發(fā)布評論請先 登錄
國產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動
行業(yè)案例|膜厚儀應(yīng)用測量之光刻膠厚度測量

針對晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

光刻膠產(chǎn)業(yè)國內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀
光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料
一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場前景展望

評論