1、光刻機行業(yè)產業(yè)鏈分析：在半導體產業(yè)中占據重要地位

光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機是半導體產業(yè)中最關鍵設備，光刻工藝決定了半導體線路的線寬，同時也決定了芯片的性能和功耗。

光刻機產業(yè)的上游主要包括光刻機核心組件和光刻機配套設施，下游則主要應用于半導體/集成電路的制造與封裝。

2、產業(yè)政策：政策助力光刻機行業(yè)發(fā)展

從政策環(huán)境上來看，我國對于光刻機行業(yè)較為重視。其主要表現在對于整個IC產業(yè)鏈企業(yè)的政策優(yōu)待以及對于半導體設備行業(yè)的相關規(guī)劃與推動。其主要表現在資金方面的補助和人才方面的培養(yǎng)，以及進出口，投融資方面的政策扶持。

在各項政策中較為突出的是《極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝》項目（02專項），其以專項的形式組織了一批國內光刻機企業(yè)進行了一系列重點工藝和技術的攻關，有效促進了我國光刻機行業(yè)的發(fā)展。

3、光刻機技術發(fā)展分析：技術仍在不斷進步中

光刻機一般可以分為無掩模光刻機和有掩模光刻機，其具體分類如下：

光刻工藝流程較多，占晶圓制造耗時的40%-50%，光刻技術也在不斷的發(fā)展，自光刻機面世以來，光刻設備已經進行了四次重大的革新，光刻設備所用的光源，也從最初的g-line，i-line歷經KrF、ArF發(fā)展到了如今的EUV。目前，EUV光刻機設備被ASML完全壟斷，ASML的EUV光刻機市占率達到100%。

4、光刻機行業(yè)市場競爭格局分析：CR3超過90%

目前，全球光刻機市場的主要企業(yè)即ASML，尼康（Nikon）和佳能（Canon）三家，從光刻機銷售額來看，2019年三家企業(yè)的合計市場份額就占到了全球光刻機市場的90%以上。其中ASML由于其技術領先，壟斷了第五代光刻機（EUV光刻機），獨占75%的市場份額，Nikon與Canon分別占據13%和6%的市場份額。

5、光刻機行業(yè)細分市場格局：i-line光刻機出貨最多

從細分市場來看，近年來，市場上銷售的光刻機主要為EUV光刻機、ArF lm光刻機、ArF Dry光刻機、KrF光刻機和i-line光刻機。從2019年這五類光刻機的銷量情況來看，i-line光刻機的銷量最高，為116臺。在這116臺中，Canon公司貢獻了一半以上。

從企業(yè)的角度來看，Canon主要的光刻機銷售都集中在i-line光刻機這一類型;Nikon的光刻機銷售則縱向跨度較大，在除EUV之外的類型均有涉及，其中以Arf和i-line的領域較為突出;ASML則在除i-line光刻機之外的領域均具有較強的統(tǒng)治力。

6、全球光刻機行業(yè)供給：銷售量略有下降

從行業(yè)供給來看，2014-2018年，光刻機top3企業(yè)銷售量呈現波動增長的態(tài)勢。2019年，光刻機銷售量有所下滑，僅為354臺，較2018年下降了3.8%。2020年第一季度，全球光刻機top3企業(yè)銷售量實現85臺。

7、國產企業(yè)發(fā)展：行業(yè)正在加快研發(fā)進度

長期以來，我國的光刻技術落后于先進國家，成為我國工業(yè)現代化進程的一塊短板。近年來，在國家政策的扶持以及一批龍頭企業(yè)的帶領下，我國光刻機技術也開始了飛速的發(fā)展，由長春光機所牽頭承擔的國家科技重大專項02專項——“極紫外光刻（EUVL）關鍵技術研究”項目也順利完成了驗收前現場測試。

但我國企業(yè)在光刻機制造方面距離世界頭部企業(yè)仍有一定的距離，光刻機行業(yè)研發(fā)進度仍待加快。

我國光刻機相關領先企業(yè)技術進展情況如下所示：

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