昨（20）日，三星電子副會(huì)長(zhǎng)李在镕視察了該公司首條基于極紫外光刻(EUV)技術(shù)的晶圓生產(chǎn)線V1。期間，李在镕再次明確，將在2030年使三星電子成為邏輯芯片領(lǐng)域的世界第一。

據(jù)BusinessKorea報(bào)道，三星電子指出，李在镕在昨日參觀了該工廠的EUV生產(chǎn)線后，與DS業(yè)務(wù)部門的總裁進(jìn)行了實(shí)地會(huì)晤。三星設(shè)備解決方案部門（DS）包括半導(dǎo)體和顯示器兩大重要產(chǎn)品線，此次會(huì)晤似乎也顯示出李在镕勢(shì)在必得的決心。

據(jù)了解，V1產(chǎn)線于2018年2月動(dòng)工，投資約60億美元，若未來全線建成，預(yù)計(jì)總投資將達(dá)到20萬億韓元。

“V1包含了紫外光線（Ultra Violet）和勝利（Victory）的意思，”三星電子的一位高管稱?！拔覀冇?jì)劃根據(jù)未來的市場(chǎng)情況對(duì)V1線進(jìn)行額外投資?！?/p>

與此同時(shí)，三星電子判斷，掌握EUV工藝對(duì)于緊跟臺(tái)積電至關(guān)重要。因?yàn)槔枚滩ㄗ贤饩€光源在晶圓上雕刻半導(dǎo)體電路，與ArF方法相比，先進(jìn)的工藝可以制造出更精細(xì)的電路，適用于10納米以下的超精細(xì)工藝，是制備高性能、低功耗半導(dǎo)體的關(guān)鍵。

在三星電子該條V1產(chǎn)線上，除了生產(chǎn)7納米芯片外，還將生產(chǎn)5納米和3納米半導(dǎo)體。據(jù)悉，從2月初開始量產(chǎn)的7納米產(chǎn)品將于3月份交付全球客戶。

李在镕當(dāng)天還對(duì)員工們表示，“去年，我們播下了成為系統(tǒng)半導(dǎo)體龍頭的目標(biāo)的種子，而今天，我們率先實(shí)現(xiàn)了這一目標(biāo)?！?/p>