日韓貿(mào)易紛爭還在持續(xù)，有消息顯示，日方甚至有意擴(kuò)大出口限制，韓國可能遭受更多沖擊。根據(jù)韓國智庫韓亞金融經(jīng)營研究所最新發(fā)布的一項(xiàng)報告預(yù)期，日本對韓國的經(jīng)濟(jì)報復(fù)恐將擴(kuò)大到包括半導(dǎo)體制造設(shè)備，南韓的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)將面臨直接打擊。

日本政府從本月初對起對南韓 3 項(xiàng)半導(dǎo)體材料，包含氟化聚酰亞胺、光阻劑和高純度氟化氫的出口到施加限制，對南韓半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)帶來巨大沖擊，包含三星電子和 SK 海力士的高層已陸續(xù)赴日商討相關(guān)應(yīng)對策略。

然而，這項(xiàng)紛爭似乎沒有停止的跡象，報告中表示，日本政府的下一個目標(biāo)可能是韓國的半導(dǎo)體和面板制造設(shè)備。目前韓國相關(guān)制造商嚴(yán)重依賴日本進(jìn)口的設(shè)備，日本進(jìn)口晶圓材料占韓國半導(dǎo)體制造商使用量的 50% 以上，意味著一旦日本政府限制晶圓出口，三星電子和 SK 海力士都將面臨停工的威脅。

目前，韓國半導(dǎo)體制造商已經(jīng)從東京威力科創(chuàng)、Canon、Nikon 等公司進(jìn)口了許多設(shè)備，包含曝光、沈積、蝕刻和測試相關(guān)半導(dǎo)體設(shè)備。有數(shù)據(jù)顯示，去年日本半導(dǎo)體設(shè)備占韓國整體設(shè)備進(jìn)口的 32%。

報告中寫到：韓國國產(chǎn)的設(shè)備僅占整體半導(dǎo)體設(shè)備市場的 20%，日本設(shè)備的市占率則高達(dá) 46.9%。此外，在濕式蝕刻 (Wet Etching)、清洗 (Cleaning) 和運(yùn)輸 (Transport) 等設(shè)備方面，南韓對日本的依賴程度更高，達(dá)到 80% ~ 90%。

另一方面，面板領(lǐng)域的情況似乎更糟，日本設(shè)備占整體設(shè)備總量的 82.9%。尤其是干蝕刻設(shè)備和 OLED 圖案形成設(shè)備對日本設(shè)備的依賴度更是高達(dá) 100%。

縱觀全球半導(dǎo)體設(shè)備市場，核心裝備集中于日本、歐洲、美國、韓國四個地區(qū)。Gartner的數(shù)據(jù)顯示，列入統(tǒng)計(jì)的、規(guī)模以上全球晶圓制造設(shè)備商共計(jì)58家，其中，日本企業(yè)最多，達(dá)到21 家，占 36%。其次是歐洲的13家、北美10家、韓國7家，中國4家。

從半導(dǎo)體設(shè)備細(xì)分領(lǐng)域來看，日本企業(yè)在具有非常強(qiáng)的競爭力，市場份額超過50%的半導(dǎo)體設(shè)備種類當(dāng)中，日本就有10種之多。

日本企業(yè)壟斷半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)與市場，占全球半導(dǎo)體設(shè)備總體市場份額高達(dá)37%。在電子束描畫設(shè)備、涂布/顯影設(shè)備、清洗設(shè)備、氧化爐、減壓CVD設(shè)備等重要前端設(shè)備、以劃片機(jī)為代表的重要后道封裝設(shè)備和以探針器為代表的重要測試設(shè)備環(huán)節(jié)，日本企業(yè)處于壟斷地位，競爭力非常強(qiáng)。

在前道15類關(guān)鍵設(shè)備中，日本企業(yè)平均市場份額為38%，在6類產(chǎn)品中市場份額占比超越40%，在電子束，涂布顯影設(shè)備市場份額超過90%；在后道9類關(guān)鍵設(shè)備中，日本企業(yè)平均市場份額為41%，在劃片，成型，探針的市場份額都超過50%。

不過，在以極紫外光刻機(jī)EUV為代表的先進(jìn)光刻設(shè)備領(lǐng)域，荷蘭公司ASML處于絕對壟斷地位。而日本在光刻機(jī)方面則略遜一籌，進(jìn)入EUV時代以后，傳統(tǒng)雙雄尼康和佳能已無法硬撐。佳能直接退出了光刻機(jī)領(lǐng)域了，僅保留低端的i-line和Kr-F光刻機(jī)。