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      標簽　>　euv

      euv

      +關(guān)注8人關(guān)注

      EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了，EUV已經(jīng)遇到了一些延遲，將技術(shù)從一個節(jié)點推向下一個階段，本單元詳細介紹了EUV光刻機，EUV光刻機技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用，EUV光刻機的技術(shù)、市場問題，國產(chǎn)euv光刻機發(fā)展等內(nèi)容。

      文章：595個 瀏覽：87256次 帖子：0個

      euv資訊

      沉浸式光刻技術(shù)是什么 原理是什么

      沉浸式光刻技術(shù)是在傳統(tǒng)的光刻技術(shù)中，其鏡頭與光刻膠之間的介質(zhì)是空氣，而所謂浸入式技術(shù)是將空氣介質(zhì)換成液體。實際上，浸入式技術(shù)利用光通過液體介質(zhì)后光源波長...

      2022-10-13 標簽：晶圓EUV 4171 0

      數(shù)十年的光刻技術(shù)，High-NA EUV或成為終點？

      盡管EUV的生產(chǎn)力還沒有達到客戶的預(yù)期，但幾年來，EUV 已經(jīng)成為世界上最先進芯片的生產(chǎn)過程中不可或缺的一部分。

      2022-09-28 標簽：光刻技術(shù)EUV 1001 0

      不使用EUV突破1nm極限？美國推出全新光刻系統(tǒng)，分辨率0.768nm！

      電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/梁浩斌）最近，一家名為Zyvex Labs的美國公司宣布推出亞納米分辨率的光刻系統(tǒng)Zyvex Litho 1，據(jù)稱分辨率可以達到0...

      2022-09-27 標簽：光刻EUV 5133 0

      光刻技術(shù)的原理及其難點分別是什么

      光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光。

      2022-09-13 標簽：集成電路光刻技術(shù)EUV 7162 0

      傳臺積電計劃關(guān)閉EUV光刻機來減少產(chǎn)能

      一臺EUV光刻機工作一天大概需要耗電3萬度。如果關(guān)閉1臺EUV光刻機，一天就能省下3萬度電。臺灣目前工業(yè)用電價格約為2.45新臺幣（約合人民幣0.55元...

      2022-09-08 標簽：臺積電光刻機EUV 1631 0

      臺積電基于GAA技術(shù)的2nm制程將會在2025年量產(chǎn)

      臺積電2021 年12,000 種產(chǎn)品，其中采用了300 多種制程，這些都是生態(tài)系合作的結(jié)果，沒有生態(tài)系的支持，臺積電就沒辦法進步。

      2022-09-06 標簽：臺積電芯片設(shè)計EUV 3693 0

      A股半導(dǎo)體光刻膠企業(yè)營收靚麗！打造光刻膠全產(chǎn)業(yè)鏈 博康欲成國產(chǎn)光刻膠的中流砥柱

      A股半導(dǎo)體光刻膠企業(yè)營收靚麗！打造光刻膠全產(chǎn)業(yè)鏈 博康欲成國產(chǎn)光刻膠的中流砥柱

      光刻膠為何要謀求國產(chǎn)替代？中國國產(chǎn)光刻膠企業(yè)的市場發(fā)展機會和挑戰(zhàn)如何？光刻膠企業(yè)發(fā)展要具備哪些核心競爭力？在南京半導(dǎo)體大會期間，徐州博康公司董事長傅志偉...

      2022-08-29 標簽：EUV光刻膠南大光電 7718 0

      基于EUV技術(shù)，制程工藝演進到intel4，激發(fā)千倍算力怎么做？英特爾宋繼強揭示前沿半導(dǎo)體技術(shù)創(chuàng)新路徑

      如何突破算力的瓶頸？如何讓不同架構(gòu)的處理器在硬件架構(gòu)布局上發(fā)揮最大協(xié)同作用？從終端側(cè)、到邊緣再到服務(wù)器，如何對不同級別的硬件進行加速？英特爾研究院副總裁...

      2022-08-09 標簽：英特爾摩爾定律EUV 4917 0

      芯片設(shè)計的光刻成本問題

      小芯片與單片的決定現(xiàn)在變得更加困難。一旦考慮到封裝成本，單片芯片的制造成本很可能會更便宜。此外，小芯片設(shè)計存在一些電力成本。在這種情況下，構(gòu)建一個大型單...

      2022-07-25 標簽：晶圓EUVDUV 1161 0

      Intel 4工藝的物理和性能特征

      Intel 4 工藝對于英特爾來說是一個重要的里程碑，因為它是英特爾第一個集成 EUV 的工藝，也是第一個跨越陷入困境的 10nm 節(jié)點的工藝。對于英特...

      2022-07-21 標簽：英特爾intelEUV 1910 0

      泛林集團、Entegris 和 Gelest 攜手推進 EUV 干膜光刻膠技術(shù)生態(tài)系統(tǒng)

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      2022-07-19 標簽：EUV泛林集團 904 0

      euv光刻機用途是什么

      光刻機是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備，其技術(shù)含量和價值含量都很高。那么euv光刻機用途是什么呢？下面我們就一起來看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)...

      2022-07-10 標簽：光刻機EUV 4324 0

      euv光刻機原理是什么

      euv光刻機原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生...

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      duv光刻機和euv光刻機區(qū)別是什么

      目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。E...

      2022-07-10 標簽：光刻機EUVDUV 8.5萬 0

      euv光刻機是干什么的

      光刻機是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，它能夠制造和維護需要高水平的光學(xué)和電子產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)，全球只有少數(shù)制造商掌握了這一基礎(chǔ)。 光刻機的作用是對芯片晶圓進行掃...

      2022-07-10 標簽：光刻機EUV 7312 0

      euv光刻機是哪個國家的

      說到芯片，估計每個人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機是制造芯片的機器和設(shè)備。沒有光刻機的話，就無法生產(chǎn)芯片，因此每個人都知道...

      2022-07-10 標簽：光刻機EUV 7972 0

      euv光刻機難在哪里

      　在半導(dǎo)體制造過程中，光刻機是最核心的設(shè)備，同時，也是研發(fā)難度最高的設(shè)備。

      2022-07-07 標簽：光刻機EUV 7726 0

      duv和euv光刻機區(qū)別

      DUV已經(jīng)能滿足絕大多數(shù)需求：覆蓋7nm及以上制程需求。DUV和EUV最大的區(qū)別在光源方案。duv的光源為準分子激光，光源的波長能達到193納米。

      2022-07-06 標簽：光刻機EUVDUV 6.3萬 0

      euv光刻機三大核心技術(shù) 哪些公司有euv光刻機

      中國芯的進步那是有目共睹，我國在光刻機，特別是在EUV光刻機方面，更是不斷尋求填補空白的途徑。

      2022-07-05 標簽：光刻機EUV 1.8萬 0

      半導(dǎo)體設(shè)備將再度面臨交期延長至18~30個月？

      市調(diào)機構(gòu)TrendForce在最新研報指出，半導(dǎo)體設(shè)備又再度面臨交期延長至18~30個月不等的困境。

      2022-06-23 標簽：高通光刻機EUV 2323 0

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