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標(biāo)簽 > euv
EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來(lái)是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過(guò)去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場(chǎng)問(wèn)題,國(guó)產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
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? ? 今年冬天特別「缺電」。 最近,湖南、江西、浙江等地開(kāi)始限電,多年不見(jiàn)的「拉閘限電」又回來(lái)了。 2004、2011年,中國(guó)曾出現(xiàn)大規(guī)模的「用電荒」...
美光是繼三星電子和SK海力士之后,以20%的全球市占率排第三的DRAM廠商。本月初時(shí)美光臺(tái)灣DRAM工廠還因停電一小時(shí)導(dǎo)致工廠停產(chǎn)。截止到3季度時(shí)較好業(yè)...
美光科技開(kāi)始提速EUV DRAM開(kāi)發(fā)速度
美國(guó)美光科技開(kāi)始提速EUV DRAM。加入到三星電子、SK海力士等全球第一、第二EUV廠商選擇的EUV陣營(yíng)后,后續(xù)EUV競(jìng)爭(zhēng)或?qū)⒏鼮榧ち摇?/p>
消息稱(chēng)美光或開(kāi)發(fā)EUV應(yīng)用技術(shù)
根據(jù)韓國(guó)媒體《Etnews》報(bào)導(dǎo)指出,目前全球3大DRAM存儲(chǔ)器中尚未明確表示采用EUV極紫外光刻機(jī)的美商美光(Micron),因日前招聘網(wǎng)站開(kāi)始征求E...
東洋合成:持續(xù)布局半導(dǎo)體感光材料領(lǐng)域
在半導(dǎo)體電路形成所必需的“感光材料”領(lǐng)域,日本東洋合成工業(yè)的市場(chǎng)份額居全球首位,股價(jià)正在迅速上漲。2019年初股價(jià)僅為800日元水平,2020年上漲至1...
未來(lái)幾年“中國(guó)芯”最有可能在哪些方向突破?
7納米、5納米先進(jìn)工藝能突破嗎?高端光刻機(jī)裝備可以“中國(guó)造”嗎?卡脖子技術(shù)體現(xiàn)在哪些方面?未來(lái)幾年“中國(guó)芯”最有可能在哪些方向突破?
中芯國(guó)際將針對(duì) EUV 光刻設(shè)備尋求與ASML進(jìn)行談判
據(jù)報(bào)道,業(yè)內(nèi)觀察人士稱(chēng),在新任副董事長(zhǎng)蔣尚義的幫助下,中國(guó)芯片巨頭中芯國(guó)際將尋求與荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備公司阿斯麥(ASML)就 EUV 光刻設(shè)備進(jìn)行談判。 報(bào)...
COVID將對(duì)光掩模市場(chǎng)產(chǎn)生什么業(yè)務(wù)影響?
總體上,三分之二的調(diào)查參與者認(rèn)為這將產(chǎn)生積極的影響。前往EUV時(shí),口罩的數(shù)量減少了。這是因?yàn)镋UV將整個(gè)行業(yè)帶回單一模式。具有多個(gè)圖案的193nm浸入需...
臺(tái)積電已經(jīng)向ASML下定了至少13臺(tái)EUV光刻機(jī)
需要明白的是,EUV光刻機(jī)不是有錢(qián)就能買(mǎi),因?yàn)锳SML每年的產(chǎn)能非常有限,2019年全年才出貨了26臺(tái),今年上半年出貨了13臺(tái),截至三季度結(jié)束累計(jì)才出貨23臺(tái)。
韓國(guó)公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術(shù)上與外國(guó)公司的差距
特別是,韓國(guó)公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術(shù)上與外國(guó)公司的差距。2019年,韓國(guó)本土提出的專(zhuān)利申請(qǐng)數(shù)量為40件,超過(guò)了國(guó)外企業(yè)的10件。這是韓國(guó)提交的...
為了搶攻在2030年成為非記憶體半導(dǎo)體龍頭地位,南韓砸大錢(qián)向ASML買(mǎi)進(jìn)EUV機(jī)臺(tái),三星集團(tuán)副會(huì)長(zhǎng)李在镕日前也親赴ASML在荷蘭總部,希望能向該公司趕緊...
三星:奧斯汀工廠正在為fabless客戶(hù)生產(chǎn)14/28/32nm的芯片
據(jù)報(bào)道,三星在其位于美國(guó)得克薩斯州奧斯汀市(Austin)的代工廠附近購(gòu)買(mǎi)了一塊面積達(dá)140個(gè)足球場(chǎng)的場(chǎng)地。該公司此舉被視為是為擴(kuò)大其在美國(guó)的代工廠做準(zhǔn)備。
荷蘭巨頭1nm光刻機(jī)迎新突破,預(yù)計(jì)會(huì)在2022年實(shí)現(xiàn)商業(yè)化
? ? 11月30日最新報(bào)道,近日荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)又送來(lái)一則好消息,該司已經(jīng)與比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC共同完成了1nm光刻機(jī)的設(shè)計(jì)工...
IMEC將下一代高分辨率EUV技術(shù)進(jìn)行了商業(yè)化
Luc Van den hove并公布了3nm及以下制程的微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。截至目前,ASML 已經(jīng)布局了 3m、2nm、1.5nm、1nm 甚至 Su...
傳三星有意聯(lián)手ASML開(kāi)發(fā)次世代的EUV設(shè)備市場(chǎng)
三星電子近期為爭(zhēng)搶極紫外光(EUV)設(shè)備,高層頻頻傳出密訪ASML。繼三星電子副會(huì)長(zhǎng)李在镕(Lee Jae-yong)10月親自赴荷蘭拜會(huì)ASML執(zhí)行長(zhǎng)...
美光表示,隨著從1Xnm到1Yn和1Znm的轉(zhuǎn)變,位密度的增長(zhǎng)速度減慢了。但是,該公司加快了增長(zhǎng)率,從1Znm到1αnm工藝節(jié)點(diǎn)尺寸增加了40%。
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