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euv光刻機(jī)+關(guān)注2人關(guān)注

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極紫外線(xiàn)光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，對(duì)芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。2018年4月，中芯國(guó)際向阿斯麥下單了一臺(tái)EUV（極紫外線(xiàn)）光刻機(jī)，于2019年初交貨。

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